「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(77ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a positive resist composition suitable when an exposure light source at ≤160 nm, in particular, F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used, and specifically, to provide a positive resist composition showing sufficient transmitting property when a light source at 157 nm is used and having high resolution and an excellent pattern profile.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、高解像力であり、パターンププロファイルが優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a colored solder resist composition capable of concealing a circuit pattern present under a solder resist layer without damaging various characteristics required for a solder resist even if the solder resist layer to be formed is made into a thin film, and to provide a printed wiring board including the solder resist formed by using the solder resist composition.例文帳に追加

形成されるソルダーレジスト層を薄膜化しても、ソルダーレジストに要求される諸特性を損なうことなく、その下に存在する回路パターンを隠蔽できる有色ソルダーレジスト組成物、それを用いて形成されたソルダーレジストを有するプリント配線板を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyimide precursor composition having a low linear expansion coefficient, a high extensibility and a low relative dielectric constant and capable of good pattern processing and to provide a polyimide- metal foil composite comprising the photosensitive polyimide precursor composition cured on metal foil.例文帳に追加

低い線膨張数、高い伸度、および、低い比誘電率を持ちかつ、良好なパターン加工が可能な感光性ポリイミド前駆体組成物を提供し、金属箔上に前記感光性ポリイミド前駆体組成物をキュアした後のポリイミド−金属箔複合体を提供するものである。 - 特許庁

To provide a negative photoresist composition with which good resolution is obtained in a pattern forming method in which an underlayer film is disposed on a substrate, a photoresist film comprising a negative photoresist composition is disposed on the underlayer film, and after selectively exposing the photoresist film, the underlayer film and the photoresist film are simultaneously developed.例文帳に追加

基板上に下層膜を設け、該下層膜上にネガ型ホトレジスト組成物からなるホトレジスト膜を設け、該ホトレジスト膜を選択的露光後、該下層膜と該ホトレジスト膜を同時に現像処理するパターン形成方法において、良好な解像性が得られるネガ型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition, capable of securing flame retardancy without having to use a halogen-based flame retardant and superior in resolution, resistance to electrolytic corrosion, and storage stability, and a photosensitive film that uses the composition, and to provide a method of forming resist pattern, a printed wiring board, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ハロゲン系難燃剤を用いずに難燃性を確保することができ、更に、解像性、耐電食性及び保存安定性に優れた感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、プリント配線板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a negative type chemical amplification resist composition having high resolving power as well as particularly high sensitivity, capable of giving a pattern profile of superior rectangularity and excellent in PCD and PED stability and to provide a negative type chemical amplification resist composition excellent further in suitability to coating (intrasurface uniformity).例文帳に追加

特に高い感度とともに、高解像力、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、またＰＣＤ、ＰＥＤ安定性に優れたネガ型化学増幅レジスト組成物、また更に塗布性（面内均一性）に優れたネガ型化学増幅レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive coloring composition excellent in sensitivity, heat resistance, chemical resistance, process stability, formability and flatness, and capable of forming a highly fine pattern having a smooth surface and a high dimensional precision and containing little impurities, and to provide a color filter using the composition.例文帳に追加

高感度であり、耐熱性、耐薬品性に優れ、プロセス安定性が高く、形状が良好で平坦性に優れ、パターン表面の荒れの少なく、不純物の混入が少なく寸法精度の高い高精細なパターンを形成できる感光性着色組成物及びカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a low dielectric constant resin composition excellent in pattern accuracy and adhesion to a substrate, developable with water or a dilute alkali solution and suitable for use in the formation of a soldering resist, an interlayey dielectric or the like for a printed wiring board or an IC package and a photosensitive film using the composition.例文帳に追加

パターン精度、基板との密着性に優れ、水又は希アルカリ溶液で現像ができ、プリント配線基板やＩＣパッケージ用のソルダーレジストや層間絶縁層等の形成に適する低誘電率樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルムを提供する。 - 特許庁

The design step preferably comprises a step for determining a scaling factor function for relating the critical dimensions and the shaft of a pattern composition member with the necessary critical dimensions of the circuit composition member, while taking account of the fact that the scaling factor function is a function of the shift.例文帳に追加

好適には、設計ステップは、スケーリング係数関数が、またシフトの関数であることを考慮に入れながら、パターン構成部材の臨界寸法とシフトを回路構成部材の必要な臨界寸法へ関連づける、スケーリング係数関数を決定するステップを含むことが好ましい。 - 特許庁

To obtain a printing ink composition which has excellent surface smoothness, improved dimensional accuracy of high-resolution pattern and shape and finely stabilizes pigment and to provide a method for producing a color filter having similar properties by using the printing ink composition.例文帳に追加

表面平滑性が良好で、かつ高精細なパターンの寸法精度及び形状を向上させることができ、さらに顔料の微細安定化が可能である印刷インキ組成物および、該印刷インキ組成物を用いて、同様の特性を有するカラーフィルターの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive radiation-sensitive resin composition that is superior in roughness, etching resistance, sensitivity and resolution, capable of stably forming a fine pattern with high accuracy, and suitable for use as a resin composition for EB or EUV, effectively sensitive to an electron beam or extreme-ultraviolet radiation.例文帳に追加

ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、電子線または極紫外線に有効に感応するＥＢ、ＥＵＶ用として好適な化学増幅型ポジ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for a chemically amplifying resist having excellent sensitivity even at a low PEB (post exposure baking) temperature, highly balanced lithographic performances such as LWR (line width roughness) and DOF (depth of focus), and sufficient etching durability, and to provide a pattern forming method, a polymer and a compound of the composition.例文帳に追加

ＰＥＢ温度が低温であっても、感度等に優れ、ＬＷＲ、ＤＯＦ等のリソグラフィー性能が高度にバランスし、エッチング耐性をも十分に満足する化学増幅型レジスト用の感放射線性樹脂組成物、そのパターン形成方法、その重合体、及び化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition leaving no scum after a portion to be exposed is exposed to light, causing little film thinning to achieve an excellent pattern shape, and having high sensitivity, a semiconductor device, and a display element.例文帳に追加

本発明は、露光部の露光後残渣なく、膜減りが少なく良好なパターン形状であり、高感度であるポジ型感光性樹脂組成物、半導体装置および表示素子を提供するものである。 - 特許庁

When the resist film composed of the active energy ray curable resin composition is exposed according to a predetermined pattern by being irradiated with an active energy ray, the temperature of the resist film is set to be ≥40°C.例文帳に追加

活性エネルギー線硬化型樹脂組成物からなるレジスト膜に活性エネルギー線を照射して、レジスト膜を所定パターンに従って露光するのに際して、レジスト膜の温度を４０℃以上とする。 - 特許庁

When a photoresist composition to which a crosslinker of formula (1) or (2) has been added is used, the flow characteristics of a resist are improved and the resolution and contrast of an L/S pattern can be enhanced.例文帳に追加

下記化学式（１）又は化学式（２）の架橋剤を添加したフォトレジスト組成物を用いれば、レジストフロー特性を改善させてＬ／Ｓパターンの解像度及び対照比を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive resist composition which ensures small surface roughness and line edge roughness during etching and has excellent resolution and a wide focal-depth range and to provide a method of forming a resist pattern using the same.例文帳に追加

エッチング時の表面荒れ、ラインエッジラフネスが少なく、解像性に優れ、焦点深度幅が広い、化学増幅型のポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To form bit lines wherein the composition and formation conditions of a bit line hard mask pattern and a bit line nitride film spacer are varied and bit lines are formed, to improve a process margin of an SAC process and decrease an SAC process failure.例文帳に追加

ＳＡＣ工程のマージンを高め、ＳＡＣ工程失敗を低減させるため、ビットラインハードマスクパターン及びビットライン窒化膜スペーサの成分及び形成条件を変化させてビットラインを形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for a permanent resist having superior shelf stability and high temperature humidity resistance, a photosensitive film for the permanent resist, a forming method of a resist pattern, and to provide a printed wiring board.例文帳に追加

保存安定性及び高温耐湿性に優れる永久レジスト用感光性樹脂組成物、永久レジスト用感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming a cured resin layer having good adhesion to a support, and capable of forming a pattern of a desired profile by preventing the increase of line width due to storage over time.例文帳に追加

支持体への密着性が良好な硬化樹脂層を形成可能で、保管経時による線幅太りを防止して所望形状のパターン形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a film forming resin composition which achieves increasing the fineness of a resist pattern only with a water-soluble polymer without using polyvinyl alcohol, and which provides a film excellent in water solubility, film strength and smoothness.例文帳に追加

ポリビニルアルコールを使用しなくても、水溶性ポリマーのみでレジストパターンを微細化することができ、さらに水溶性、被膜強度、平滑性などに優れた被膜形成用樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for liftoff which forms a microgroove having a larger degree of bite than a conventional one and is suitable for use in the formation of a metal wiring pattern by a liftoff process.例文帳に追加

従来のものより食い込みの程度が大きいマイクログルーブを形成可能であり、リフトオフ法による金属配線パターンの形成に好適なリフトオフ用ポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which has good dispersibility, enables uniform film formation even in the case of a thin film, and fulfills an adequate function as an insulating layer with a fine pattern.例文帳に追加

分散性が良好で、薄膜であっても均一な膜形成が可能であり、かつ、微細なパターンを有する絶縁層として十分な機能を発現する感光性組成物を提供すること - 特許庁

To provide a resist composition having excellent transparency and dry etching durability with which a resist pattern having excellent sensitivity, resolution, flatness and heat resistance can be easily formed, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

透明性、ドライエッチング耐性に極めて優れ、更に感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れたレジストパターンを容易に形成できるレジスト組成物および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain an electroconductive resin composition capable of patterning a fine shape and forming an electroconductive resin film having heat resistance, solvent resistance and mechanical strengths, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加

微細な形状にパターニングすることができ、耐熱性、耐溶剤性、及び機械的強度を有する導電性樹脂膜を形成しうる導電性樹脂組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To enhance the sensitivity of a resist film composed of an active energy ray curable resin composition when the resist film is exposed according to a predetermined pattern by being irradiated with an active energy ray.例文帳に追加

活性エネルギー線硬化型樹脂組成物からなるレジスト膜に活性エネルギー線を照射して、前記レジスト膜を所定パターンに従って露光するのに際して、レジスト膜の感度を向上させることである。 - 特許庁

To provide a white liquid photosensitive resin composition having reduced discoloring of a white coating film and deterioration in reflectance due to UV irradiation and a thermal history, and forming a pattern with a low amount of exposure.例文帳に追加

ＵＶ照射、熱履歴による白色塗膜の変色及び反射率の低下が少なく、かつ、低露光量でパターン形成可能な白色液状感光性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a colored photosetting resin composition for color filter fabrication capable of stably producing a fine pattern without reducing strength of a photoset film even under a high illuminance condition such as digital exposure.例文帳に追加

デジタル露光のような高照度条件下でも、光硬化した膜の強度が低下することなく、微細パターンの安定製造が可能なカラーフィルタ作成用の光硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition excellent in various properties including transparency to a radiation, sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape, and useful as a chemically amplified resist.例文帳に追加

放射線に対する透明性、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等を含めた幅広い特性に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a lens sheet having excellent adhesiveness to a substrate and yellowing resistance and making formation of a high-definition pattern possible by using a photosensitive resin composition having pressure-sensitive adhesiveness, and to provide a method for manufacturing the sheet.例文帳に追加

基板への密着性や耐黄変性に優れ高精細のパターン形成が可能な、粘着性を有する感光性樹脂組成物を用いたレンズシートおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition capable of easily forming on a substrate a good black matrix pattern excellent in linearity, free of peeling and residues, and giving excellent display contrast.例文帳に追加

直線性に優れ、剥がれや残渣がなく、表示コントラストの優れた良好なブラックマトリクスパターンを基板上に容易に形成することができる着色感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that is improved in line edge roughness by normal exposure and liquid immersion exposure and exhibits excellent conformability to water in liquid immersion exposure, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

通常露光及び液浸露光によるラインエッジラフネスが改善され、液浸露光時に於ける水追随性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a wiring board in which delamination is suppressed and deformation of a wiring pattern including a hot-melt composition due to melting is suppressed, and to provide the wiring board.例文帳に追加

デラミネーションが発生するのを抑制するとともに、ホットメルト組成物を含む配線パターンが溶融によって変形するのを抑制する配線基板の製造方法および配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a photo-curable resin composition capable of forming a pattern and also having a function as an adhesive that performs thermo compression bonding of substrates to each other and an adhesive using the same.例文帳に追加

パターン形成可能で、かつ基板同士を熱圧着できる接着剤としての機能を兼ね備えた光硬化性樹脂組成物およびこれを用いた接着剤を提供することを目的とする。 - 特許庁

A multilayer printed-circuit board to which the semiconductor component is mounted, and having a power pattern and a ground layer in its internal layer, is a multilayer printed-circuit board having a composition of at least following A to D.例文帳に追加

内層に電源パターン及びグラウンド層を有し、かつ、半導体部品が搭載される多層プリント基板において、少なくとも以下のＡからＤの構成を有する多層プリント基板である。 - 特許庁

The disclosure relates to a polymorphic form D of bazedoxifene acetate having a specific powder X-ray diffraction pattern, a pharmaceutical composition and treating method to use the polymorphic form D, and a method for producing the polymorphic form D of bazedoxifene acetate.例文帳に追加

本開示は、特定の粉末Ｘ線回折パターンを有する酢酸バゼドキシフェンの多形フォームＤ、それを用いた医薬組成物及び治療方法、並びにその製造方法に関する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polyimide resin composition which has excellent sensitivity in i-ray (365 nm) exposure and a high-resolution, with which the development in alkali water solution can be performed and which can form a good relief pattern.例文帳に追加

ｉ線（３６５ｎｍ）露光で感度がよく、高解像度であり、アルカリ水溶液現像が可能で、良好なレリーフパターンが形成できるポジ型感光性ポリイリミド樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The composition for plating contains a gellant, electroconductive ions for performing an electrochemical reaction, and a solvent, and is discharged in a sol state on a substrate 20 through an opening 13 to form a prescribed pattern shape in a gel state.例文帳に追加

ゲル化剤と、電気化学反応を行うための導電性イオンと、溶媒と、を有し、ゾル状態で開口１３を介して基板２０の上に吐出されゲル状態の所定のパターン形状。 - 特許庁

To provide a curing composition for transfer materials, which is suitable for a nanoimprint method in which selectivity of a dry etching speed with argon gas and oxygen gas is high, and which is capable of forming a fine pattern with a high throughput.例文帳に追加

アルゴンガスと酸素ガスでのドライエッチング速度の選択性が高く、高いスループットで微細パターンを形成することができるナノインプリント法に好適な転写材料用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method with the excellent exposure latitude (EL) and focus margin (DOF) capable of reducing the line width irregularity (LWR) and residual defect, a chemically amplified resist composition and a resist film.例文帳に追加

露光ラチチュード（ＥＬ）及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れ、線幅バラツキ（ＬＷＲ）及び残渣欠陥を低減できるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity, capable of suppressing film thinning in unexposed areas in a development step, having good heat-resistant transparency and capable of forming a good pattern shape.例文帳に追加

高い感度を有し、現像工程において未露光部の膜べりが抑制され、かつ、耐熱透明性が良好で、良好なパターン形状を形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing such a resin composition for optical waveguides permiting the formation of the optical waveguides having a satisfactory optical transmission capability and a sufficiently high pattern-formation precision.例文帳に追加

十分な光伝送能力及び十分に高いパターン形成精度を有する光導波路を形成することが可能な光導波路用樹脂組成物の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an ink composition for forming a fine pattern, which is capable of accurately forming a desirable image for various electronic components by a relief reversal printing method and is excellent in film hardness.例文帳に追加

各種電子部品として所望される画像を、凸版反転印刷法により正確に形成することができるとともに、膜硬度に優れる微細パターン形成用インキ組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a coloring composition in which the drying state of an ink coating is controlled, the transferability duration is long, and a precise pattern can be formed; and to provide a color filter formed by a printing method using the ink.例文帳に追加

インキ塗膜の乾燥状態を制御し、転写性持続時間が長く精密なパターンを形成し得る着色組成物、上記インキを用いて印刷法により形成されるカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having good surface tackiness, laminating property and handleability, and exhibiting chemical resistance, surface hardness, heat resistance, etc., a photosensitive film, and a method of forming permanent pattern.例文帳に追加

表面のタック性、ラミネート性及び取扱い性が良好で、耐薬品性、表面硬度、耐熱性などを発現する感光性組成物及び感光性フィルム、永久パターンの形成方法の提供。 - 特許庁

The photosensitive permanent resist has a resist pattern formed and cured by imagewisely irradiating the above photosensitive resin composition with active rays to cure an exposed portion with light and developing an unexposed portion to remove.例文帳に追加

前記の感光性樹脂組成物に活性光線を画像状に照射し露光部を光硬化させ、未露光部を現像により除去してレジストパターンを形成し硬化してなる感光性永久レジスト。 - 特許庁