「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(80ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a resist composition giving a pattern having a smooth good surface free from foreign matter and rectangular good profile and also having a large focal depth in the case of an isolated pattern in lithography using a short-wavelength light source for exposure which enables ultra- microfabrication and a positive type chemical amplification resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、表面がスムーズで異物がない良好な表面を有し、かつ、矩形で良好なプロファイルを有するパターンが得られ、また、孤立パターンについて広い焦点深度を有するレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a negative resist composition for ion beam writing having good thermal stability and storage stability, containing few ionic impurities such as Cl and Na, excellent in transparency in a wide wavelength region, and giving a resist pattern with a large film thickness and a high aspect ratio, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

レジスト組成物自体の熱安定性・保存安定性が良好で、ＣｌやＮａなどのイオン性の不純物が少なく、広い波長領域で透明性に優れ、厚膜かつアスペクト比の高いレジストパターンが得られるイオンビーム描画用ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of improving the performance in minute processing of a semiconductor element using an electron beam, an X ray, a KrF excimer laser beam, or an ArF excimer laser beam, excellent in terms of sensitivity, resolution, focal margin (DOF) performance, LWR, reduction of blur, and reduction of pattern surface roughness; and to provide a pattern-forming method using the same.例文帳に追加

電子線、Ｘ線、ＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上であり、感度、解像力、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）性能、ＬＷＲ、裾引き低減、パターン表面荒れの低減に優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a conductive paste composition capable of forming an electrode pattern having superior conductivity and adhesiveness, and capable of being appropriately used for forming the electrode pattern of a plasma display panel, and to provide a transcription film and an electrode for the plasma display panel obtained from the same.例文帳に追加

優れた導電性を有するとともに良好な密着性を有する電極パターンを形成することができ、プラズマディスプレイパネルの電極パターン形成のために好適に使用することができる導電性ペースト組成物、転写フィルムおよびそれから得られるプラズマディスプレイパネル用電極を提供すること。 - 特許庁

A light shielding pattern 54 having a plurality of arrayed polygonal light shielding portions 53 and a light transmitting portion 55 of a resolution limit or lower disposed at the center of the array is formed in the light transmitting region of a photomask, as a unit light shielding pattern for forming a projection 56 for alignment control in a photosensitive composition layer.例文帳に追加

感光性組成物層に配向制御用突起５６を形成するための単位の遮光パターンとして、フォトマスクの光透過領域中に、多角形状の遮光部５３が複数個配列され、その配列の中心部に解像限界以下の光透過部５５を有する遮光パターン５４を形成する。 - 特許庁

The resin sheet holds the sheet-shaped extruded material between the pattern roll with the geometrical pattern formed and the cooling roll after the resin composition containing 0.05-1.0 pt.wt. of a methacrylate-acrylate copolymer per 100 pts.wt. of a polycarbonate resin or a mixed resin comprising the polycarbonate resin and a polyester resin is melted/extruded.例文帳に追加

ポリカーボネート樹脂、あるいはポリカーボネート樹脂とポリエステル樹脂との混合樹脂１００重量部に対し、メタクリル酸エステル・アクリル酸エステル共重合体を０．０５〜１．０重量部含有せしめた樹脂組成物を溶融押出した後、シート状押出物を幾何学模様が付された型付ロールと冷却ロールとの間に挟持する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resist composition for color filter with which a thin film pattern having high light shielding property can be easily formed by a photolithographic process, the residue in an unexposed part after alkali development can be suppressed and a favorable pattern profile and sensitivity are obtained, and to improve reliability and manufacturing yield of a color filter and a liquid crystal display device.例文帳に追加

薄膜かつ高遮光性を有するパターンをフォトリソグラフィー法で容易に形成でき、アルカリ現像後の未露光部分の残さを抑制し、パターン形状と感度がともに良好なカラーフィルター用感光性レジスト組成物を提供し、カラーフィルターおよび液晶表示装置の信頼性を高く、かつ歩留まりを向上させる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for obtaining a photosensitive element superior in photosensitivity, chemical resistance, mechanical strength, peeling property, adhesion, resolution, flexibility and storage stability, a resist pattern and a printed wiring board, a photosensitive element using the same, a method for producing a resist pattern, and to provide a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加

光感度、耐薬品性、機械強度、はく離特性、密着性、解像度、柔軟性、保存安定性等に優れる感光性エレメント、レジストパターン、プリント配線板を得るための感光性樹脂組成物これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供する。 - 特許庁

To solve problems on the technique for improving performances of microphotofabrication using far ultraviolet light, especially ArF excimer laser light of 193 nm wavelength, in particular, to provide a negative resist composition which avoids pattern collapse even in fine pattern formation and exhibits good resolution.例文帳に追加

本発明の目的は、遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においてもパターン倒れがなく、良好な解像性を示すネガ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

In the color filter whose thickness-direction retardation has the relationship of (red pixels)≤(green pixels)≤(blue pixels), the red pixels are produced by forming a pattern with a red colored composition containing an organic compound having an epoxy group as a retardation adjuster and hardening the pattern, and the red pixels have a negative retardation.例文帳に追加

厚み方向位相差が赤色画素≦緑色画素≦青色画素の関係を有するカラーフィルタにおいて、前記赤色画素が、リタデーション調整剤として、エポキシ基を有する有機化合物を含有する赤色着色組成物にてパターン形成し硬膜してなる赤色画素であるとともに、負のリタデーションを持つ赤色画素である。 - 特許庁

To obtain a photosensitive polyimide precursor composition developable with a basic aqueous solution, having high resolution, excellent in pattern shape after development and not causing pattern exfoliation in development.例文帳に追加

塩基性水溶液により現像可能で、高解像度でかつ現像後のパターン形状に優れ、現像時のパターン剥離も生じない感光性ポリイミド前駆体組成物、さらに製造工程の短縮が可能であり、製造コストが削減できるパターン製造法及び前記のパターンを有することにより信頼性に優れる電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for ion implantation forming a resist film which is excellent in ion blocking property and in the breaking resistance of the resist even in the case of a thin film, has good sensitivity and resolution even when an antireflection film is not formed on a substrate, and ensures a good pattern profile and a small pattern variation range.例文帳に追加

薄膜であってもイオン遮断性及びレジストの耐破壊性に優れ、基板上に反射防止膜が形成されていない場合にも、良好な感度及び解像度を有し、良好なパターンの形状、及びパターン変動幅の小さいレジスト膜を形成可能なイオンインプランテーション用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is adaptable to the formation of a fine resist pattern using a light source of a short wavelength up to 90 nm, excels in resolution, ensures small LWR and good PEB temperature dependency, excels in pattern collapse resistance and hardness to cause defect, and is suitably used even in an immersion exposure step.例文帳に追加

９０ｎｍ以下の短波長の光源を用いた微細なレジストパターンの形成に対応することができ、解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、ＰＥＢ温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性および欠陥性能に優れ、液浸露光工程においても好適に用いられる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures excellent sensitivity even when applied to an LDI (laser direct imaging) system, has satisfactory storage stability, and enables to form a resist pattern having good resist shape free of undercut and overhang, a photosensitive film, a resist pattern forming method and a permanent resist.例文帳に追加

ＬＤＩ方式に適用した場合でも優れた感度が得られ、且つ、充分な保管安定性を有し、アンダーカットやオーバーハング等のない良好なレジスト形状を有するレジストパターンを形成することができる感光性樹脂組成物、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及び永久レジストを提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition for a color filter, which has excellent development property without occurring defect or stripping off of pixel pattern in developing stage and excellent mechanical strength after film-forming, and also gives a good pattern shape and further does not generate defective display such as image seizing in using for a display panel.例文帳に追加

現像時の画素パターンに欠落や剥がれを生じることがなく、現像性に優れ、かつ成膜後の機械的強度が優れ、またパターン形状も良好であり、しかも表示パネルにしたとき焼き付き等の表示不良を生じることがないカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for laser direct drawing exposure, which allows the formation of a resist pattern having high sensitivity, an excellent resist feature, a preferable resolution, an adhesion property and a release property in laser direct drawing exposure, and to provide a photosensitive element, a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

レーザ直接描画露光において高感度で、レジスト形状に優れ、解像度、密着性及び剥離性が良好なレジストパターンを形成することが可能なレーザ直接描画露光用感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ink composition for inkjet printers having stable dispersion stability and good ejecting property as ink for an inkjet printer, and exhibiting sufficient weatherability/durability in the case of using for forming a pattern on a siding panel of an outer wall and provide a siding panel for an outer wall printed with a pattern having high weatherability and durability and good design.例文帳に追加

ジェットプリンター用のインキとしての安定な分散安定性、良好な吐出性を持ち、かつ外壁用サイディング材への絵柄形成に用いたときに、充分な耐候性・耐久性をもつジェットプリンター用インキ組成物、及び耐候性、耐久性に富み高意匠な絵柄を有する外壁用サイディングを提供する。 - 特許庁

To obtain techniques to improve the performance in microprocessing of a semiconductor element using high energy rays, in particular, KrF excimer laser light, X-rays, electron beams or EUV (extreme UV) rays, and to provide a negative resist composition satisfying the requirements for high sensitivity, high resolution, a preferable pattern profile and preferable dependence on the pattern density.例文帳に追加

高エネルギー線、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な疎密依存性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Then, a detection unit 108 detects a detection object based on a total feature amount concerning each composition pattern of the first cross area pattern group that is calculated by a feature amount calculation unit 107, and a strong discriminator which is stored by a discriminator storage unit 112 and is composed of a plurality of weak discriminator.例文帳に追加

そして、検出部１０８が、特徴量算出部１０７によって算出される、第１の交差領域パターングループの各構成パターンに関する総合特徴量と、識別器記憶部１１２に記憶されている、複数の弱識別器から構成される強識別器とに基づいて、検出対象を検出する。 - 特許庁

To solve the problems of the performance improving technique of microphotofabrication using far-ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light of 193 nm wavelength, specifically to provide a negative resist composition which, even in fine pattern formation, avoids pattern collapse and exhibits good resolution.例文帳に追加

本発明の目的は、遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においてもパターン倒れがなく、良好な解像性を示すネガ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which achieves high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness and suppression of outgassing, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin film and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition which has high radiation sensitivity and development margin to form a favorable pattern even when the process time exceeds the optimum developing time in a developing process, and with which a pattern thin film having excellent adhesiveness can be easily formed, and to provide an interlayer insulating film of electronic parts and microlens.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物、電子部品の層間絶縁膜およびマイクロレンズの提供。 - 特許庁

To provide a highly fine electric conductor pattern excellent in long term reliability with low migration by using a photosensitive silver paste which uses a glass composition developed for an electric conductive paste capable of preventing the induction of electrode migration even if used for the highly fine electric conductor pattern.例文帳に追加

高精細な導電体パターンに用いた場合にも電極マイグレーションの誘発を抑制し得る導電性ペースト用ガラス組成物を開発し、該ガラス組成物を用いた感光性銀ペーストを使用することにより、低マイグレーション性による長期信頼性に優れる高精細導電体パターンを提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition for exposure to a far ultraviolet ray in which bridging for forming a developing defect or particularly line pattern and a trench pattern is reduced so as to perform a subject in a technique for improving an original performance of a microphotofabrication used for a far ultraviolet ray or particularly an ArF excimer laser beam.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術における課題を達成すべく、現像欠陥、特にラインパターン及びトレンチパターン形成におけるブリッジングを低減した遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition short in minimum developing time and forming a resist film breakable by a shock of spray or the like and especially excellent in adhesion and resolution and to provide a photosensitive element using this, and manufactures of a resist pattern and the printed circuit board having this pattern by incorporating a specified photopolymerizable compound and specified compounds.例文帳に追加

最少現像時間が短かく、レジスト硬化膜がスプレー等の衝撃により割れ、さらに密着性及び解像度が特に優れた感光性樹脂組成物及びそれを使用した感光性エレメント、及びレジストパターンの製造法並びにこのレジストパターンを有するプリント配線板の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and development defect performance, in lithography especially using an electron beam, an X-ray or an EUV ray as an exposure light source, and to provide a resist-film and pattern formation method utilizing the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、及びラインエッジラフネス、現像欠陥性能を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This artificial marble having a pattern of a luminescent material obtained by an inorganic fluorescent composition, capable of generating a light by the ultraviolet light and showing an original marble pattern of the artificial marble under the visible light is characterized by that the pattern on the surface of the artificial marble becomes different under the visible light and under the ultraviolet rays, and its method for luminescence.例文帳に追加

本発明は、無機蛍光体組成物によって得られた紫外線で発光する発光体による模様を有する人造大理石であって、可視光下では人造大理石が有する本来の大理石模様を表す人造大理石であり、人造大理石表面の模様が可視光下と紫外線下とで異なることを特徴とする発光性人造大理石及びその発光方法に関する。 - 特許庁

To provide an acid transfer composition which can uniformly and very precisely diffuse acid all over the resin surface to make a pattern and can obtain an acid transfer film in highly stabilized dimensions all over this patterned resin surface, and also to provide an acid transfer film using it, and a pattern forming method which can make a pattern by the existing photolithography by using this film.例文帳に追加

酸の拡散が被パターン化樹脂膜の全面に均一に十分な精度をもって行うことができ、その結果、被パターン化樹脂膜の全面に均一優れた寸法安定性が得られる酸転写用膜を得ることができる酸転写用組成物、これを用いてなる酸転写用膜、及びこの酸転写用膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes a step of forming a resist pattern on a surface to be processed by forming a resist film on the surface using the resist composition for immersion exposure, irradiating the resist film with exposure light by immersion exposure, and developing it, and a step of transferring the pattern to the surface to be processed by etching through the resist pattern as a mask.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、被加工面上に、本発明の前記液浸露光用レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、該レジスト膜に対して液浸露光により露光光を照射し、現像することによりレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより前記被加工面にパターンを転写するパターン転写工程とを少なくとも含む。 - 特許庁

To provide a polymer for cross-linking an anti-reflective film, which can be applied to an immersion lithography process and a damascene process and to provide an anti-reflective composition containing the polymer and a method for forming a photoresist pattern by using the polymer.例文帳に追加

液浸リソグラフィ工程およびダマシン工程への適用できる反射防止膜用架橋重合体、これを含む反射防止膜用組成物、及びこれを利用したフォトレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition capable of reconciling high heat resistance with enhanced sensitivity and having good focal-depth range properties (particularly good total focal-depth range properties), and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

高耐熱性と高感度化の両立を図ることができ、かつ焦点深度幅特性（特にはトータル焦点深度幅特性）が良好なポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures good property balance of warpage, folding resistance and moisture-resistant insulation reliability and can be adapted even to low-temperature curing at 120°C, a method for producing a resist pattern, a flexible substrate and electronic components.例文帳に追加

そり、耐折性、耐湿絶縁信頼性の特性バランスが良く、１２０℃の低温硬化にも対応可能な感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、フレキシブル基板及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide an enamel particle dispersion, capable of producing a highly durable, multi-colored pattern coating composition hardly deteriorating the coated film without a top coat and maintaining an original designing property for a long period.例文帳に追加

トップコートがなくても塗膜の劣化を生じ難く当初の意匠性を長期にわたって維持することができる高耐久性の多彩模様塗料組成物を製造しうるエナメル粒子分散液を提供すること。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive composition having such heat resistance as not to impair the properties (shape, hue, etc.), of a color filter and capable of forming a fine pattern with high resolution and to provide a color filter using the same.例文帳に追加

カラーフィルタの性状（形状、色相等）を損なわない耐熱性を有し、精細なパターンを高解像度に形成することが可能な着色感光性組成物、及びこれを用いたカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

By using the composition, stress of a patterned film is minimized in baking to minimize deformation by shrinkage, whereby a phenomenon such as twist, short (breaking) or falling (rising) of the pattern can be suppressed or prevented.例文帳に追加

これにより、焼成時にパターン膜の応力を最小化することによって、収縮による変形を最小化してパターンのねじれ、短絡（切れ）または脱落（浮き上がり）などの現象を抑制または根本的に防止できる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition with high resolution, excellent in dry etching resistance, with reduced wear of the film and suitably used in a method for forming a resist pattern via an exposing step using a low-energy electron beam.例文帳に追加

高解像性で、ドライエッチング耐性に優れ、膜減りの低減された、低加速電子線を用いて露光する工程を経てレジストパターンを形成する方法に好適に用いられるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a production method of a molding having a fine pattern formed accurately on the surface by holding a photopolymerizable composition formed in the shape of a thin film by spin coating.例文帳に追加

表面に微細パターンを有する成型体の製造方法において、スピンコート法等により薄膜に形成された光重合性組成物を保持し、精度よく微細パターンを有する成型体を製造できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming a lower layer film, which can form a resist lower layer film having a function as an antireflective coating, and is improved in pattern transfer performance, etch selectivity and inter-mixing preventive effect.例文帳に追加

反射防止膜としての機能を有するとともに、パターン転写性能、エッチング選択性、及びインターミキシング防止効果が良好なレジスト下層膜を形成可能な下層膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a metallic resin composition capable of manufacturing in an excellent productivity a molded article and a laminated product which has a clear glorious pattern without causing substandard phenomena such as stripes and recesses on the surface.例文帳に追加

優れた生産性をもって、表面にスジ、へこみ等の不良現象を発生させることなく、鮮明な光輝性模様を有する成形品及び積層品を製造することが出来るメタリック樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to a radiation and suitable for use as a chemically sensitized resist excellent in basic properties as a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本性能に優れた化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

When pattern formation is performed by using the positive photosensitive resin composition, the additive fulfills functions for attaining high resolution and high sensitivity, and for minimizing thickness change after heat crosslinking, without causing other properties to deteriorate.例文帳に追加

添加剤は、ポジティブ型感光性樹脂組成物を用いてパターン形成を行うときに、他の物性を低下させずに高解像度、高感度、および熱架橋後の厚さ変化を最小化する役割を実行することができる。 - 特許庁

To provide a composition to be used for producing a melamine decorative board on which a fingerprint or the like is hardly highlighted and a picture pattern of decorative paper can be expressed clearly and to provide a transfer sheet, the melamine decorative board and a method for producing the melamine decorative board.例文帳に追加

指紋等が目立ちにくく、化粧紙の絵柄が鮮明に表現できるメラミン化粧板の製造に使用できる組成物、転写シート、メラミン化粧板、及びメラミン化粧板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of performing fine pattern formation in a thick film exceeding 20 μm and capable of providing a film excellent in reliability as a protective film, and to provide a cured film.例文帳に追加

２０ミクロンを越えるような厚膜で微細なパターン形成を行うことが可能であり、保護膜としての信頼性に優れた皮膜を提供可能な感光性樹脂組成物および硬化皮膜を提供する。 - 特許庁

To realize a resist composition having high transparency with respect to far-ultraviolet rays and radiation and moreover, superior in basic properties as a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, pattern shape and line edge roughness.例文帳に追加

遠紫外線及び放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチ耐性、パターン形状及びラインエッジラフネス等のレジストとしての基本特性が優れたレジスト組成物を実現できるようにする。 - 特許庁

To provide a curable resin composition which has excellent flame retardancy and with which an insulating film facilitating placement of a conductive layer including a fine wiring pattern produced by plating, and excellent in adhesive properties of the conductive layer, is obtained.例文帳に追加

難燃性に優れ、しかも、めっきにより微細な回路パターンを備える導体層を設けることが容易であり、その導体層の密着性に優れる絶縁膜を与える硬化性樹脂組成物を提供する - 特許庁