「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(81ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a metallic resin composition capable of manufacturing in an excellent productivity a molded article and a laminated product which has a clear glorious pattern without causing substandard phenomena such as stripes and recesses on the surface.例文帳に追加

優れた生産性をもって、表面にスジ、へこみ等の不良現象を発生させることなく、鮮明な光輝性模様を有する成形品及び積層品を製造することが出来るメタリック樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a curable resin composition which has excellent flame retardancy and with which an insulating film facilitating placement of a conductive layer including a fine wiring pattern produced by plating, and excellent in adhesive properties of the conductive layer, is obtained.例文帳に追加

難燃性に優れ、しかも、めっきにより微細な回路パターンを備える導体層を設けることが容易であり、その導体層の密着性に優れる絶縁膜を与える硬化性樹脂組成物を提供する - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition which is used for manufacture of a color filter used for display devices such as a liquid-crystal display panel, an electroluminescence panel or a plasma display panel and capable of forming a pattern with high sensitivity.例文帳に追加

液晶表示パネル、エレクトロルミネッセンスパネル、プラズマディスプレイパネルなどのディスプレイ装置に使用されるカラーフィルタの製造用に用いられる高感度でパターン形成可能な着色感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to a radiation and suitable for use as a chemically sensitized resist excellent in basic properties as a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本性能に優れた化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

When pattern formation is performed by using the positive photosensitive resin composition, the additive fulfills functions for attaining high resolution and high sensitivity, and for minimizing thickness change after heat crosslinking, without causing other properties to deteriorate.例文帳に追加

添加剤は、ポジティブ型感光性樹脂組成物を用いてパターン形成を行うときに、他の物性を低下させずに高解像度、高感度、および熱架橋後の厚さ変化を最小化する役割を実行することができる。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive composition having such a chemical structure as to ensure transparency in the far ultraviolet light region and high dry etching resistance and capable of forming a minute pattern by development with an aqueous alkali developing solution without causing swelling.例文帳に追加

遠紫外光領域で透明、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ち、水性アルカリ現像液で膨潤することなく微細パタンを現像できるネガ型感放射線組成物を提供する。 - 特許庁

An ultrafine pattern is formed by adding a copolymer of a compound having at least one or more copolymerizable carbon-carbon double bonds, and containing a repeating unit represented by formula (1) to a photoresist composition.例文帳に追加

少なくとも１以上の共重合可能な炭素−炭素の二重結合を有し、下記式（１）で示される反復単位を含む化合物の共重合体をフォトレジスト組成物に添加して超微細パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition excellent in transparency particularly to radiation and dry etching resistance as a chemical amplification type resist and giving a resist pattern excellent in sensitivity, resolution, flatness, heat resistance, etc.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして特に放射線に対する透明性、ドライエッチング性に優れ、さらに感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れたレジストパターンを与えるネガ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

Mold cleaning materials 2 based on an unvulcanized rubbery composition are provided to one side or both sides of a base material sheet 1 comprising a paper sheet or a cloth sheet in a predetermined pattern having air vent gaps in a protruded state.例文帳に追加

紙製シートまたは布帛シートからなる基材シート１の片面もしくは両面に、未加硫ゴム系組成物を主成分とする金型クリーニング材料２が、エア抜き用空隙を有する所定のパターンに突設されている。 - 特許庁

The pattern forming method includes: (a) forming a film using a chemically amplified resist composition; (b) exposing the film; and (c) processing the exposed film using an organic processing liquid.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、（ａ）化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（ｂ）前記膜を露光することと、（ｃ）有機系処理液を用いて前記露光された膜を処理することとを含んでいる。 - 特許庁

To provide a positive electron ray or X-ray resist composition exhibiting high sensitivity and high resolution, capable of giving excellent rectangular pattern profile and having excellent PCD and PED stability and coating property.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、しかもＰＣＤ、ＰＥＤ安定性及び塗布性に優れたポジ型電子線又はＸ線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition having satisfactory sensitivity and resolving power in the formation of a contact hole pattern for the production of a semiconductor device, less liable to generate particles in a resist solution and excellent in line density dependency.例文帳に追加

半導体デバイス製造のコンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にレジスト液中のパーティクルの発生が少なく、疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical amplification resist composition to be used for the preparation of a mold, capable of forming a pattern excellent not only in sensitivity and resolution, but also in the line width roughness (LWR) performance, in preparation of a mold.例文帳に追加

モールドの作成において、感度及び解像力に優れるとともに、ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能にも優れたパターンを形成可能な、モールドの作成に用いられる化学増幅型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition for forming a colored layer, which prevents pattern edge chipping or undercut even under low exposure and severe developing conditions, as well as undissolved materials remaining in development.例文帳に追加

低露光量および過酷な現像条件下でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがなく、現像時に未溶解物が残存しない着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition useful for forming a film on which a pattern is formed, the film being excellent in high thermal resistance, high transparency, crack resistance, adhesiveness with a ground, and the like, and being obtained by performing development with an alkali aqueous solution.例文帳に追加

高耐熱性、高透明性、耐クラック性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた膜の形成に有用なポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin which is excellent in solubility into an organic solvent and excellent in adhesiveness of a cured film, does not yield a residue at a pattern peripheral part after image development when used for a positive photosensitive resin composition, and has a high sensitivity.例文帳に追加

有機溶剤への溶解性と硬化膜の密着性に優れ、ポジ型感光性樹脂組成物に用いた場合に、現像後パターン周辺部に残渣を生じることなく高い感度を有する樹脂を提供すること。 - 特許庁

To provide a lead-free glass composition which has excellent chemical durability, low specific gravity and excellent meltability, little erodes a furnace material, and achieves the formation of a high definition pattern in a photosensitive process.例文帳に追加

化学的耐久性に優れ、低比重化を達成し、また溶融性に優れ、炉材の侵食が少なく、更に感光性プロセスにおいて高精細なパターン形成を可能とする無鉛ガラス組成物の提供を課題とする。 - 特許庁

To provide a composition for a topcoat which gives a highly fine and highly accurate pattern, especially in immersion lithography, by photolithography using a high-energy line or an electron beam which is an electromagnetic wave with a wavelength of 300 nm or less.例文帳に追加

波長３００ｎｍ以下の電磁波である高エネルギー線または電子線を用いたフォトリソグラフィーにより、特に液浸リソグラフィーにて、極めて微細且つ高精度なパターンを与えるトップコート用組成物を提供する。 - 特許庁

The material for forming a pattern includes (A) a photosensitive resin composition layer containing a novolac phenol resin and a 1,2-quinone diazide compound and (B) a light-shielding layer having an optical density of at least 4.0 per 1 μm film thickness.例文帳に追加

（Ａ）ノボラック型フェノール樹脂と、１，２−キノンジアジド化合物と、を含有する感光性樹脂組成物層、及び（Ｂ）膜厚１μｍあたりの光学密度が４．０以上である遮光層を含むパターン形成用材料。 - 特許庁

To provide an indicator ink composition that indicates the presence of water that has improved visibility by changing the color when water is detected, while the shape of a pattern is retained after the water detection, and accordingly the designability is prevented from being degraded.例文帳に追加

本発明は、水分の検知下で変色させて視認性を向上させ、しかも、水分検知後も図柄の形状を残したままデザイン性の低下を防ぐ、水分のインジケーターインキ組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an electroconductive resin composition that can obtain excellent storage stability, has excellent electroconductivity in an electroconductive pattern formed, and can achieve low cost.例文帳に追加

導電性樹脂組成物において、良好な保存安定性を得ることができるとともに、形成される導電パターンにおいて、良好な導電性を有し、低コスト化を図ることが可能な導電性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition improved in exposure latitude, thinness-denseness dependency and line edge roughness and improved also in sensitivity to exposure with EUV light and in dissolution contrast, and to provide a pattern forming method and a specific organic acid.例文帳に追加

露光ラチチュード、疎密依存性、ラインエッジラフネスが改善され、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、パターン形成方法及び特定の有機酸を提供する。 - 特許庁

The water-soluble resin composition for forming a fine pattern comprises a water-soluble vinyl resin, a compound having at least two amino groups in the molecule, a solvent, and as required, an additive such as a surfactant.例文帳に追加

本発明の微細化パターン形成用水溶性樹脂組成物は、水溶性ビニル樹脂、分子内に少なくとも２個のアミノ基を有する化合物、溶剤および必要に応じ界面活性剤などの添加剤からなる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is easy to synthesize and inexpensively available, for achieving a dissolution contrast irrespective of the chemical structure of the finally-obtained polyimide and for achieving a pattern with a good shape.例文帳に追加

最終的に得られるポリイミドの化学構造を問わず溶解性コントラストを得られ、形状が良好なパターンを得ることができ、簡便に合成できて安価に入手可能な、感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which attains resist formation by a photographic process with good pattern accuracy by development using an aqueous alkali solution and exhibits satisfactory heat resistance and flexibility by processing at a low temperature.例文帳に追加

写真法によるパターン精度の良いレジスト形成が、アルカリ水溶液を用いた現像で可能であり、また、低温での加工で十分な耐熱性及び柔軟性を発現する、感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a raw material for alkali-soluble photosensitive resin composition that permits easy pattern formation and has excellent high heat resistance, high reliability, for example, moisture-resistance reliability, further high transparency and low dielectric constant.例文帳に追加

パターン形成が容易で、高耐熱性、耐湿信頼性等の高信頼性、更に高い透明性、低誘電率に優れた特性を有するアルカリ可溶性感光性樹脂組成物の原料を提供すること。 - 特許庁

The cured product of a resin composition prepared by adding additives such as a curing agent to a composite resin in which a liquid polybutadiene resin is added to the thermosetting resin is used as the pattern material.例文帳に追加

この際に、柄材として、熱硬化性樹脂に液状ポリブタジエン樹脂を添加した複合型樹脂に硬化剤などの添加剤を配合して調製された柄材用樹脂組成物を硬化させたものを用いる。 - 特許庁

To provide a composition usable for manufacturing a melamine decorative board capable of clearly expressing a pattern of a decorative paper, on which fingerprints, etc. are rarely prominent, a transfer sheet, a melamine decorative board and a method for manufacturing the melamine decorative board.例文帳に追加

指紋等が目立ちにくく、化粧紙の絵柄が鮮明に表現できるメラミン化粧板の製造に使用できる組成物、転写シート、メラミン化粧板、及びメラミン化粧板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The conductive paste composition is applied on a glass substrate of a plasma display panel, exposed according to a specified pattern, developed with an alkali aqueous solution, and fired to obtain a high-definition electrode circuit.例文帳に追加

この導電性ペースト組成物をプラズマディスプレイパネルのガラス基板上に塗布した後、所定のパターン通りに露光し、アルカリ水溶液により現像した後、焼成することにより、高精細の電極回路を形成できる。 - 特許庁

The composition is applied on the transparent electrode of a front glass substrate, exposed according to a prescribed pattern, developed and fired to form the lower layer (black layer) electrode circuit of PDP.例文帳に追加

このような光硬化型導電性組成物を前面ガラス基板の透明電極上に塗布し、所定のパターン通りに露光し、現像、焼成することにより、ＰＤＰの下層（黒層）電極回路が形成される。 - 特許庁

To obtain a radiation-sensitive resin composition capable of faithfully reproducing a design size of a mask pattern even by proximity exposure and forming a spacer for a display panel excellent in strength, heat resistance, etc., required for the spacer.例文帳に追加

プロキシミティー露光によってもマスクパターンの設計サイズを忠実に再現でき、かつスペーサーとして必要な強度、耐熱性等に優れた表示パネル用スペーサーを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A composition for pretreatment of electroless plating containing palladium acetate and ammonia or an ammonia compound as the main components is used for pretreatment for forming a metal pattern on a layer of polysilane or a substrate by electroless plating.例文帳に追加

酢酸パラジウムとアンモニア又はアンモニア化合物を主成分として含む無電解めっき前処理用組成物を、ポリシランの層または基体へ無電解めっきにより金属パターンを形成する前処理に用いる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition and a photosensitive dry film resist developable with an aqueous alkali solution, providing a good pattern shape and excellent in heat resistance and electric insulation and to provide methods for using them.例文帳に追加

本発明は、アルカリ水溶液で現像可能で、良好なパターン形状が得られ、かつ耐熱性や電気絶縁性に優れた感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルムレジスト、並びにこれらの利用方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for immersion exposure, which is suitable for immersion exposure and forms a resist film having high hydrophobicity of a surface thereof and good lithography characteristics, and also to provide a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

膜表面の疎水性が高く、かつリソグラフィー特性も良好なレジスト膜を形成でき、液浸露光用として好適な液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the pattern forming method, light intensity applied in the second exposure is 1-15 times of that of a first exposure in performing the processes of spreading, the first exposure, development, the second exposure, and heat treatment one by one for the positive photosensitive resin composition.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の１〜１５倍であるパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a resin composition excellent in tackiness, photosensitivity and adhesion, capable of forming a pattern by development with an alkaline aqueous solution, and having superior properties in relation to storage stability and thermal stability.例文帳に追加

タック性、光感度、密着性等に優れ、アルカリ水溶液による現像によりパターン形成できると共に、貯蔵安定性、熱安定性において非常に優れた特性を有する樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polyimide composition which enables processing of a fine pattern, forms a film having heat resistance and a coefficient of linear expansion with a substrate, close to each other, does not require imidization at a high temperature, and can be alkali-developed.例文帳に追加

微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、アルカリ現像できるポジ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition of which cross-section plane is of inverse tapered shape, and which significantly excels in heat resistance, and is capable of forming a resist pattern that does not cause shape anomaly such as a protrusion on a side wall.例文帳に追加

断面が逆テーパー状で、耐熱性が顕著に優れ、かつ側壁に突起などの形状異常の発生がないレジストパターンを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a polymer for cross-linking an anti-reflective film, which can be applied to an immersion lithography process and a damascene process and to provide an anti-reflective composition containing the polymer and a method for forming a photoresist pattern by using the polymer.例文帳に追加

液浸リソグラフィ工程およびダマシン工程への適用できる反射防止膜用架橋重合体、これを含む反射防止膜用組成物、及びこれを利用したフォトレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition capable of reconciling high heat resistance with enhanced sensitivity and having good focal-depth range properties (particularly good total focal-depth range properties), and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

高耐熱性と高感度化の両立を図ることができ、かつ焦点深度幅特性（特にはトータル焦点深度幅特性）が良好なポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures good property balance of warpage, folding resistance and moisture-resistant insulation reliability and can be adapted even to low-temperature curing at 120°C, a method for producing a resist pattern, a flexible substrate and electronic components.例文帳に追加

そり、耐折性、耐湿絶縁信頼性の特性バランスが良く、１２０℃の低温硬化にも対応可能な感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、フレキシブル基板及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a production method of a molding having a fine pattern formed accurately on the surface by holding a photopolymerizable composition formed in the shape of a thin film by spin coating.例文帳に追加

表面に微細パターンを有する成型体の製造方法において、スピンコート法等により薄膜に形成された光重合性組成物を保持し、精度よく微細パターンを有する成型体を製造できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is excellent in line edge roughness in normal exposure and liquid immersion exposure and with which the variation of the line width caused by time delay between exposure-PEB is reduced; and a method for forming a pattern using the same.例文帳に追加

通常露光時及び液浸露光時に於ける、ラインエッジラフネスに優れ、且つ、露光−ＰＥＢ間の引き置きによる線幅の変動が低減されたポジ型レジスト及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive chemically amplifying resist composition having high sensitivity and high resolution which can give a square and superior pattern profile and which is excellent in PCD(post coating delay) and PED(post exposure delay) stability and coating property.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、しかもＰＣＤ、ＰＥＤ安定性及び塗布性に優れたポジ型化学増幅レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

When the composition ratio of Al becomes smaller than 0.06, the refractive index of the AlGaN layer becomes big and, therefore, an NFP (Near Field Pattern) in the vertical direction is widened whereby the half-value width of the FFP in the vertical direction can be reduced.例文帳に追加

Ａｌ組成比ｘが０．０６より小さくなると、ＡｌＧａＮ層の屈折率が大きくなるので、垂直方向のＮＦＰ（近視野像）を広げ、垂直方向のＦＦＰの全半値幅を小さくできる。 - 特許庁