「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(81ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a positive type resist composition having excellent resolution and etching resistance, capable of giving a resist pattern that undergoes a small dimensional change per unit temperature by a thermal flow process and having good aging stability.例文帳に追加

解像性及び耐エッチング性に優れ、サーマルフロープロセスにより単位温度当りの寸法変化量が小さいレジストパターンを与えることができ、かつ経時安定性の良好なポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a cold-rolling oil composition for making the color tone of a stainless steel plate uniform without causing a pattern on the surface of the steel plate after the annealing and pickling after the cold rolling in a process of cold rolling of the stainless steel plate.例文帳に追加

ステンレス鋼板の冷間圧延の工程において、冷間圧延後の焼鈍、酸洗後に鋼板表面に模様を発生させないで色調が均一となるような、冷間圧延油組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a hardenable composition for lining at the time of production of a shadow mask, capable of providing a hardened membrane excellent in each of etching resistance, alkali-dissolvable and peelable properties, and pattern-forming properties even in the case of carrying out secondary etching at high temperature.例文帳に追加

高温で２次エッチングする場合においても、その硬化膜が、耐エッチング性、アルカリ溶解・剥離性及びパターン形成性のいずれにも優れたシャドウマスク製造時の裏止め材用硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁

This thermoplastic resin composition P1 for forming a grain pattern W comprises 100 pts.wt. of a styrenic resin and 0.5-10 pts.wt. of colored pellets comprising a thermoplastic resin containing a coloring agent.例文帳に追加

スチレン系樹脂１００重量部に対して、着色剤を含有する熱可塑性樹脂からなる着色ペレットを０．５重量部以上１０重量部以下混合した木目模様形成熱可塑性樹脂組成物である。 - 特許庁

To provide a chemical amplification resist composition to be used for the preparation of a mold, capable of forming a pattern excellent not only in sensitivity and resolution, but also in the line width roughness (LWR) performance, in preparation of a mold.例文帳に追加

モールドの作成において、感度及び解像力に優れるとともに、ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能にも優れたパターンを形成可能な、モールドの作成に用いられる化学増幅型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition for forming a colored layer, which prevents pattern edge chipping or undercut even under low exposure and severe developing conditions, as well as undissolved materials remaining in development.例文帳に追加

低露光量および過酷な現像条件下でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがなく、現像時に未溶解物が残存しない着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition useful for forming a film on which a pattern is formed, the film being excellent in high thermal resistance, high transparency, crack resistance, adhesiveness with a ground, and the like, and being obtained by performing development with an alkali aqueous solution.例文帳に追加

高耐熱性、高透明性、耐クラック性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた膜の形成に有用なポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin which is excellent in solubility into an organic solvent and excellent in adhesiveness of a cured film, does not yield a residue at a pattern peripheral part after image development when used for a positive photosensitive resin composition, and has a high sensitivity.例文帳に追加

有機溶剤への溶解性と硬化膜の密着性に優れ、ポジ型感光性樹脂組成物に用いた場合に、現像後パターン周辺部に残渣を生じることなく高い感度を有する樹脂を提供すること。 - 特許庁

To provide a lead-free glass composition which has excellent chemical durability, low specific gravity and excellent meltability, little erodes a furnace material, and achieves the formation of a high definition pattern in a photosensitive process.例文帳に追加

化学的耐久性に優れ、低比重化を達成し、また溶融性に優れ、炉材の侵食が少なく、更に感光性プロセスにおいて高精細なパターン形成を可能とする無鉛ガラス組成物の提供を課題とする。 - 特許庁

The method can be applied to various methods, and, e.g., it is also possible that the composition is applied to a substrate, so as to be exposed to form metal particulate, and further, development is performed, thus a metal particulate-containing pattern is formed.例文帳に追加

このような方法は種々の方法に応用でき、例えば、基板に、前記組成物を塗布し、露光して金属微粒子を生成させたのち、さらに、現像し、金属微粒子を含むパターンを形成することもできる。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polyimide composition which enables processing of a fine pattern, forms a film having heat resistance and a coefficient of linear expansion close to that of a substrate, does not require imidization at a high temperature, and can be alkali-developed.例文帳に追加

微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、アルカリ現像できるポジ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive colorant dispersion resin composition for color filters, which can obtain a photosensitive layer with high sensitivity, high color purity and high light shielding effect and is excellent in adhesion in development and a pattern shape.例文帳に追加

高感度で、高い色純度及び遮光性の感光層を得ることができ、現像時の密着性やパターン形状において優れるカラーフィルタ用感光性着色剤分散樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Then, a composition means 38 combines at least two patterns on the basis of the selected pattern information and the display control signals, and display is performed at an image display device 42 on the basis of the combined image information.例文帳に追加

そして、合成手段３８が選択された図柄情報と表示制御信号に基づいて少なくとも二つの図柄を合成し、その合成した画像情報に基づいて画像表示装置４２に表示させる。 - 特許庁

To obtain an ink composition that can directly form a printed pattern on a glass substrate to give, after baking, a printed area being submissible to selective electroless metal plating and not separated upon plating.例文帳に追加

ガラス基板に直接印刷パターンを形成することができるとともに、焼成後に印刷部への選択的な無電解金属メッキが可能で、メッキ工程により脱落することのないインキ組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a rubber for correcting a tire pattern model applicable for the production of a silicone rubber mold with a silicone rubber composition without causing vulcanization defect in the production of the rubber mold and enabling the correction and repair of the mold.例文帳に追加

シリコーンゴム組成物を用いたシリコーンゴム型の製造に適用し得るタイヤパターンモデルを、ゴム型製作時における加硫不良を生ずることなく、修正、修繕することができるタイヤパターンモデル修正用ゴムを提供する。 - 特許庁

To provide a colored alkali developable photosensitive resin composition that has superior sensitivity, resolution and adhesion, and that enables a fine pattern to be formed accurately.例文帳に追加

感度、解像度、密着性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できる着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物、及び該着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタを提供すること。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition which attains cost reduction without impairing basic performances such as sensitivity and resolution, ensures small ruggedness due to stationary waves and improves pattern profile, particularly line edge roughness.例文帳に追加

感度、解像度などの基本的な性能を落とさずにコストが低減され、また定在波による凹凸が小さく、パターンプロファイル、特にラインエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has high sensitivity, can provide a large dissolution contrast irrespective of the kind of a polyimide precursor and, resultantly, can provide a pattern having a preferable shape while maintaining sufficient process margin.例文帳に追加

高感度で、ポリイミド前駆体の種類を問わず大きな溶解性コントラストを得られ、結果的に十分なプロセスマージンを保ちつつ、形状が良好なパターンを得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern adjusting device which sticks a desired amount of a composition for adjustment by a single defect-revision work even in the case of using only one adjusting needle.例文帳に追加

本発明は、修正用ニードルを１本のみ用いた場合でも、１回の欠陥修正作業で所望量の修正用組成物を欠陥箇所に付着させることが可能なパターン修正装置の提供を主目的とする。 - 特許庁

A medley list for program reproducing mode is prepared, by repeatedly executing steps S4 to S6 and setting a musical composition number, the number of times of loop and reproducing of all or release pattern for every program number PN.例文帳に追加

プログラム再生モード用のメドレーリストは、ステップＳ４ないしステップＳ６が繰り返し実行されて楽曲ナンバ、ループ回数、全部あるいはサビパターンの再生がプログラムナンバＰＮ毎に設定されることにより作成される。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is excellent in line edge roughness in normal exposure and liquid immersion exposure and with which the variation of the line width caused by time delay between exposure-PEB is reduced; and a method for forming a pattern using the same.例文帳に追加

通常露光時及び液浸露光時に於ける、ラインエッジラフネスに優れ、且つ、露光−ＰＥＢ間の引き置きによる線幅の変動が低減されたポジ型レジスト及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive chemically amplifying resist composition having high sensitivity and high resolution which can give a square and superior pattern profile and which is excellent in PCD(post coating delay) and PED(post exposure delay) stability and coating property.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、しかもＰＣＤ、ＰＥＤ安定性及び塗布性に優れたポジ型化学増幅レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a curable composition which cures with high sensitivity upon exposure and can form a proper pattern with high adhesion to a material surface in a cured area and superior removability of an uncured portion in an uncured region.例文帳に追加

露光により高感度で硬化し、硬化領域では材料表面との密着性が高く、未硬化領域では未硬化部の除去性に優れた良好なパターンを形成しうる硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

When the composition ratio of Al becomes smaller than 0.06, the refractive index of the AlGaN layer becomes big and, therefore, an NFP (Near Field Pattern) in the vertical direction is widened whereby the half-value width of the FFP in the vertical direction can be reduced.例文帳に追加

Ａｌ組成比ｘが０．０６より小さくなると、ＡｌＧａＮ層の屈折率が大きくなるので、垂直方向のＮＦＰ（近視野像）を広げ、垂直方向のＦＦＰの全半値幅を小さくできる。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which may not be turned into a gel even when including a photosensitive component, forming inexpensively a high-precision pattern, and having high adhesion to ceramic, silicon and glass substrates in a thin film state.例文帳に追加

感光性成分を含有してもゲル化を起こさず、安価で、高精度のパターンを形成することができ、かつセラミック、シリコンおよびガラス基板に対して薄膜で接着強度が高い感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has excellent storage stability and can give a cured relief pattern with high sensitivity and high resolution on copper or copper alloy, as a useful coating for the production of an electric/electronic material.例文帳に追加

電気・電子材料の製造に有用な塗膜として、保存安定性に優れ、さらに銅又は銅合金上で高感度かつ高解像度の硬化レリーフパターンを与えうる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for liquid immersion exposure having a large receding contact angle to a liquid for immersion exposure and giving a photoresist film less liable to cause development defects, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いフォトレジスト膜を与える液浸露光用感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To carry out transfer with the occurrence of bubbles in a molded article prevented in simple composition and a simple process in a transfer device for transferring a minute transfer pattern formed in a sheet-shaped mold to the molded article.例文帳に追加

シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写するための転写装置において、簡素な構成や工程で、前記被成型品での気泡の発生を防いだ転写をする。 - 特許庁

To provide an alkali-developable positive photosensitive polyimide composition which enables to process a fine pattern, gives a heat resistant film whose linear thermal expansion coefficient is close to that of a substrate, and which does not require imidization at a high temperature.例文帳に追加

微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線熱膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、アルカリ現像できるポジ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive composition having such a chemical structure as to ensure transparency in the far ultraviolet light region and high dry etching resistance and capable of forming a minute pattern by development with an aqueous alkali developing solution without causing swelling.例文帳に追加

遠紫外光領域で透明、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ち、水性アルカリ現像液で膨潤することなく微細パタンを現像できるネガ型感放射線組成物を提供する。 - 特許庁

An ultrafine pattern is formed by adding a copolymer of a compound having at least one or more copolymerizable carbon-carbon double bonds, and containing a repeating unit represented by formula (1) to a photoresist composition.例文帳に追加

少なくとも１以上の共重合可能な炭素−炭素の二重結合を有し、下記式（１）で示される反復単位を含む化合物の共重合体をフォトレジスト組成物に添加して超微細パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition excellent in transparency particularly to radiation and dry etching resistance as a chemical amplification type resist and giving a resist pattern excellent in sensitivity, resolution, flatness, heat resistance, etc.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして特に放射線に対する透明性、ドライエッチング性に優れ、さらに感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れたレジストパターンを与えるネガ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

Mold cleaning materials 2 based on an unvulcanized rubbery composition are provided to one side or both sides of a base material sheet 1 comprising a paper sheet or a cloth sheet in a predetermined pattern having air vent gaps in a protruded state.例文帳に追加

紙製シートまたは布帛シートからなる基材シート１の片面もしくは両面に、未加硫ゴム系組成物を主成分とする金型クリーニング材料２が、エア抜き用空隙を有する所定のパターンに突設されている。 - 特許庁

The pattern forming method includes: (a) forming a film using a chemically amplified resist composition; (b) exposing the film; and (c) processing the exposed film using an organic processing liquid.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、（ａ）化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（ｂ）前記膜を露光することと、（ｃ）有機系処理液を用いて前記露光された膜を処理することとを含んでいる。 - 特許庁

To provide a positive electron ray or X-ray resist composition exhibiting high sensitivity and high resolution, capable of giving excellent rectangular pattern profile and having excellent PCD and PED stability and coating property.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、しかもＰＣＤ、ＰＥＤ安定性及び塗布性に優れたポジ型電子線又はＸ線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition having satisfactory sensitivity and resolving power in the formation of a contact hole pattern for the production of a semiconductor device, less liable to generate particles in a resist solution and excellent in line density dependency.例文帳に追加

半導体デバイス製造のコンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にレジスト液中のパーティクルの発生が少なく、疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which attains resist formation by a photographic process with good pattern accuracy by development using an aqueous alkali solution and exhibits satisfactory heat resistance and flexibility by processing at a low temperature.例文帳に追加

写真法によるパターン精度の良いレジスト形成が、アルカリ水溶液を用いた現像で可能であり、また、低温での加工で十分な耐熱性及び柔軟性を発現する、感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is easy to synthesize and inexpensively available, for achieving a dissolution contrast irrespective of the chemical structure of the finally-obtained polyimide and for achieving a pattern with a good shape.例文帳に追加

最終的に得られるポリイミドの化学構造を問わず溶解性コントラストを得られ、形状が良好なパターンを得ることができ、簡便に合成できて安価に入手可能な、感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a raw material for alkali-soluble photosensitive resin composition that permits easy pattern formation and has excellent high heat resistance, high reliability, for example, moisture-resistance reliability, further high transparency and low dielectric constant.例文帳に追加

パターン形成が容易で、高耐熱性、耐湿信頼性等の高信頼性、更に高い透明性、低誘電率に優れた特性を有するアルカリ可溶性感光性樹脂組成物の原料を提供すること。 - 特許庁

The cured product of a resin composition prepared by adding additives such as a curing agent to a composite resin in which a liquid polybutadiene resin is added to the thermosetting resin is used as the pattern material.例文帳に追加

この際に、柄材として、熱硬化性樹脂に液状ポリブタジエン樹脂を添加した複合型樹脂に硬化剤などの添加剤を配合して調製された柄材用樹脂組成物を硬化させたものを用いる。 - 特許庁

The conductive paste composition is applied on a glass substrate of a plasma display panel, exposed according to a specified pattern, developed with an alkali aqueous solution, and fired to obtain a high-definition electrode circuit.例文帳に追加

この導電性ペースト組成物をプラズマディスプレイパネルのガラス基板上に塗布した後、所定のパターン通りに露光し、アルカリ水溶液により現像した後、焼成することにより、高精細の電極回路を形成できる。 - 特許庁

The material for forming a pattern includes (A) a photosensitive resin composition layer containing a novolac phenol resin and a 1,2-quinone diazide compound and (B) a light-shielding layer having an optical density of at least 4.0 per 1 μm film thickness.例文帳に追加

（Ａ）ノボラック型フェノール樹脂と、１，２−キノンジアジド化合物と、を含有する感光性樹脂組成物層、及び（Ｂ）膜厚１μｍあたりの光学密度が４．０以上である遮光層を含むパターン形成用材料。 - 特許庁

Further, when the whole composition is heat treated in film formation, it is adapted to a protective membrane or an insulation film of a semiconductor, a circuit substrate or the like which requires excellent heat, electrical and mechanical characteristics, and the pattern formation of the high resolution.例文帳に追加

また、全体組成物をフィルム化して熱処理した時、熱的、電気的、機械的特性が優れて高解像度のパタン形成を必要とする半導体、回路基板などの保護膜、絶縁膜として適合する。 - 特許庁

To provide a coloring curable composition from which a colored pattern with high definition having a rectangular or normally tapered cross-sectional form and excellent adhesiveness to a solid surface can be formed by exposure and development.例文帳に追加

露光及び現像により、高精細で、且つ、矩形又は順テーパーの断面形状を有し、更に、固体表面に対する密着性に優れた着色パターンを形成し得る着色硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁

Preferably, the Ti-MWW layered precursor is one giving an X-ray diffraction pattern having values below and having a composition represented by general formula: xTiO_2-(1-x)SiO_2 (wherein x is a numerical value of 0.0001-0.1).例文帳に追加

該Ｔｉ-ＭＷＷ層状前駆体としては、下記に示す値のＸ線回折パターンを有し、かつ一般式ｘTiO2・(1−x)SiO2（式中ｘは0.0001〜0.1の数値を表す。）で表される組成を有するものであることが好ましい。 - 特許庁