「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(85ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a light curable composition having light curability, usable for lithography, exhibiting good sensitivity and scarcely developing problems such as a pattern form defect after development and corrosion, and to provide a cured product.例文帳に追加

本発明の目的は、光硬化性を有しリソグラフィー可能であり、かつ良好な感度を有し、現像工程後のパターン形状不良や、腐食などの問題を生じにくい光硬化性組成物および硬化物を提供することである。 - 特許庁

A pattern forming method of the present invention includes (A) forming a film with a resist composition; (B) exposing the film to light; and (C) developing the exposed film with a developer containing an organic solvent.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、（Ａ）レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（Ｂ）前記膜を露光することと、（Ｃ）有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んでいる。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive resist composition effective to achieve the diminution of defects necessary for comprehensive quality control, excellent in sensitivity and resolution, causing no unevenness in coating and giving a good resist pattern shape.例文帳に追加

総合的な品質管理上必要なディフェクト低減を実現するのに有効で、しかも感度、解像度が優れ、塗布むらの発生がなく、良好なレジストパターン形状を与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photopolymerizable composition which is cured with high sensitivity by light exposure, has excellent in-film curability and adhesion to a support, has a good pattern shape and can form a patterning cured film with less residues after development.例文帳に追加

露光に対し光感度で硬化し、優れた膜内部硬化性および支持体との密着性に優れ、パターン形状が良好であり、且つ、現像後に残渣が少ないパターニング硬化膜を形成可能な光重合性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method capable of controlling the size of a pattern by finding out a method for preparing a polymer film having a micro-domain structure oriented vertically to the surface of a substrate and changing a mixture composition by the latter method.例文帳に追加

基板表面に対して垂直に配向したミクロドメイン構造を有する高分子膜を作製する方法を見出し、この方法により混合組成を変えることによってパターンのサイズが制御し得る方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reflective mask blank for extreme ultraviolet (EUV) lithography in which the mask has low reflectance in a wavelength range of EUV light and pattern inspection light and has an absorbent layer that is easily controlled to a desired film composition and a film thickness.例文帳に追加

ＥＵＶ光およびパターン検査光の波長域の反射率が低く、かつ該所望の膜組成および膜厚に制御することが容易な吸収体層を有するＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの提供。 - 特許庁

To provide a green photosensitive resin composition for forming a pattern excellent in linearity, a photosensitive transfer material using the same, a color filter substrate having good chromaticity and high color purity, and a display device including the color filter substrate.例文帳に追加

直線性に優れたパターンを形成できる緑色感光性樹脂組成物、それを用いた感光性転写材料、良好な色度と高い色純度とを有するカラーフィルタ基板、及び該カラーフィルタ基板を備えた表示装置の提供。 - 特許庁

To provide a silicon-containing resin excellent in ink dropping properties, ink repellency and developing properties, and a photosensitive resin composition which forms a coating film excellent in ink dropping properties and ink repellency and moreover forms a fine pattern.例文帳に追加

優れたインク転落性、撥インク性および現像性を奏する含フッ素樹脂、およびインク転落性、撥インク性、に優れた塗膜を形成することができ、さらには微細なパターン形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a curable resin composition for a black matrix which shows favorable pattern linearity, and from which a black matrix can be formed without subjecting carbon black to another treatment such as oxidation.例文帳に追加

本発明は、パターン直線性が良好で、かつカーボンブラックに酸化処理等、別途処理を施すことなく、ブラックマトリクスを形成することが可能なブラックマトリクス用硬化性樹脂組成物を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type radiation sensitive resist composition which has high sensitivity and high definition to radiation including electron beams, is free of swelling and has high resolution and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

電子ビームを含む放射線に対して高い感度、高い解像度を有する膨潤のない解像性能の優れた化学増幅型感放射線レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

In an embodiment in accordance with this invention, this device pre-stores rhythm patterns containing information on notes and important notes in a database A, and selects a rhythm pattern based on date A2 for melody creation according to composition conditions A1 (A4).例文帳に追加

この発明の一実施例では、打点情報及び重要打点情報を含むリズムパターンをデータベースＡ５に予め記憶しておき、作曲条件Ａ１に応じたメロディ生成用データＡ２に基づいてリズムパターンを選択する（Ａ４）。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist underlayer film having excellent flexural capability, pattern transfer performance, and etching resistance, which can reduce the offensive odor of released gas during forming of the underlayer film.例文帳に追加

曲がり耐性に優れ、パターン転写性能が高く、かつエッチング耐性にも優れるレジスト下層膜を形成することができ、下層膜形成時のアウトガスの臭気を抑制できるレジスト下層膜形成用組成物の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having sufficiently high sensitivity and resolving power in the production of a semiconductor device and in the formation of a contact hole pattern, less liable to produce particles in a resist solution and excellent in dependency on density.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、コンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にレジスト液中のパーティクルの発生が少なく、疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

In the decorative paper constituted by laminating a printing pattern layer and the clear layer on the surface of base paper in this order, the clear layer is formed of a specific porous film forming water dispersible composition.例文帳に追加

基紙表面に印刷絵柄層とクリヤー層とがこの記載の順序に積層されてなる化粧紙において、上記クリヤー層が特定の多孔質皮膜形成水分散型組成物により形成されていることを特徴とする化粧紙。 - 特許庁

The pattern forming method employs the negative resist composition.例文帳に追加

（Ａ）下記式（１）または環状オレフィンを開環重合した後水素添加した重合体単位、ビニルエーテル重合体単位から選ばれ、イオンビームの照射により現像液に難溶又は不溶となる樹脂、（Ｂ）樹脂（Ａ）を溶解する少なくとも一種以上の有機溶剤。 - 特許庁

In addition, since a control substrate 20 can be easily obtained from a conventional control substrate by adding a terminal N and changing a connection pattern a little, the need for changing circuit composition, and for changing the control substrate can be also suppressed to a minimum.例文帳に追加

また、制御基板２０は、従来の制御基板から、端子Ｎの追加と、少しの接続パターンの変更で実現できるため、回路構成を変更する必要がなく、制御基板の変更も最小限に抑えることができる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in strippability of a resist thereof and capable of improving adhesion and resolution; and to provide a photosensitive element using the same, a method for fabricating a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

レジストのはく離性に優れ、密着性及び解像度を向上させることが可能な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法、及びプリント配線板の製造法を提供。 - 特許庁

It is considered that such a photosensitive composition imparts a filler effect and light transmission effects of the acrylic resin fine particles and has adequacy for suppressing formation of a T-shaped top, imparting a proper pattern shape and suppressing surface wrinkles, at a proper balance.例文帳に追加

このような感光性組成物では、アクリル樹脂微粒子のフィラー効果と光透過効果が得られると考えられ、Ｔ−Ｔｏｐ形状抑制性、パターン形状及び表面シワ抑制についてバランス良く適性を備える。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has improved performance of Line Width Roughness and Depth of Focus and also adapted to a liquid immersion process with a line width of ≤45 nm, and to provide a pattern forming method employing the same.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス、デプスオブフォーカスの性能が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition such as a colored ink for a color filter capable of forming very thin lines even with a high pigment concentration, having high adhesion, giving a good pattern profile, and contributing to higher definition, a higher yield and a shorter takt time.例文帳に追加

高顔料濃度であっても極細線形成でき、高密着性、パターン形状が良好で、高精細化、歩留まり向上、低タクト化に貢献できる感光性樹脂組成物、例えばカラーフィルター用の着色インクの提供。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition that has high resolution performance and has a good balance between DOF (Depth Of Focus) and MEEF (Mask Error Enhancement Factor) in forming a fine pattern of 90 nm or less, and is suitably used also for a liquid immersion exposure process.例文帳に追加

９０ｎｍ以下の微細パターン形成において、解像性能に優れるだけでなく、ＤＯＦとＭＥＥＦのバランスに優れ、液浸露光プロセスにも好適に利用されうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which improves LWR, development defects and DOF and is adapted to a liquid immersion process with a line width of ≤45 nm, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＬＷＲ、現像欠陥及びＤＯＦが改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which achieves a high solubility contrast regardless of the kind of polymer precursor, particularly polyimide precursor and which consequently provides a pattern of good shape, with a satisfactory process margin kept.例文帳に追加

高分子前駆体、特にポリイミド前駆体の種類を問わず大きな溶解性コントラストを得られ、結果的に、十分なプロセスマージンを保ちつつ、形状が良好なパターンを得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a calixarene-based compound useful as a raw material of a substrate component contained in a radiation-sensitive composition which can form a chemistry amplification type positive resist film which can form a stabilized and highly precise fine pattern.例文帳に追加

高精度な微細パターンを安定して形成することができる化学増幅型のポジ型レジスト膜を形成可能な感放射線性組成物に含有される基材成分の原料として有用なカリックスアレーン系化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a resist pattern forming method capable of improving the sensitivity without deteriorating the resolution in lithography of a resist film with an ArF excimer laser, an F_2 excimer laser, an EUV, an electron beam, and the like.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_２エキシマレーザー、ＥＵＶ又は電子線等によるレジスト膜のリソグラフィーにおいて、解像性を損なわずに感度を向上させることができるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供できる。 - 特許庁

To provide a resist composition which has high sensitivity to high-energy rays such as far ultraviolet rays, an electron beams, and X rays and can form a pattern with a superior contrast through development using an alkali solution.例文帳に追加

本発明は、遠紫外線、電子線、Ｘ線などの高エネルギー線に対して高い感度を有し、アルカリ水溶液で現像することによりコントラストの優れたパターンを形成できるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

The manufacturing method forms the coated resin layer being the ink flow passage wall thereon and dissolves and removes the photosensitive resin composition layer forming the ink flow passage pattern by irradiating the ionizing radiation of the second wavelength region after forming an ink discharge opening.例文帳に追加

そして、その上にインク流路壁となる被覆樹脂層を形成し、インク吐出口を形成後、第二の波長域の電離放射線を照射してインク流路パターンを形成している感光性樹脂組成物層を溶解除去する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in adhesion and resolution and suppressing the generation of scum and a photosensitive element useful for increasing the density of a printed wiring board, to provide a method for producing a resist pattern and to obtain a printed wiring board.例文帳に追加

密着性、解像度に優れ、かつスカムの発生を抑える感光性樹脂組成物を提供し、さらにプリント配線板の高密度化に有用な感光性エレメント、レジストパターンの製造法およびプリント配線板を得る。 - 特許庁

To provide a photocurable colored composition having high sensitivity, forming a high-definition colored pattern excellent in developability and adhesion to a glass support, and useful for manufacture of a color filter, and a color filter obtained using the same.例文帳に追加

高感度、現像性及びガラス支持体との密着性に優れた高精細な着色パターンを形成するカラーフィルタの作製に有用な、光硬化性着色組成物及びそれを用いて得られたカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a black alkali-developable photosensitive resin composition which avoids degradation in pattern configuration and achieves higher definition, while improving the light blocking effect of a black matrix, and to provided a color filter using the same and a liquid crystal display.例文帳に追加

ブラックマトリクスの遮光性を向上させながらも、パターン形状の悪化がなく高精細化が可能な黒色アルカリ現像型感光性樹脂組成物と、それを用いたカラーフィルタ及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a color resist composition which achieves high color purity in a thin film, satisfies uniformity in coating, photo-curability, developability, pattern shape, storage stability, etc., and is suitable for use as a color filter material for a liquid crystal display.例文帳に追加

薄膜で高色純度を達成し、かつ塗布均一性、光硬化性、現像性、パターン形状、保存安定性等を満足させる、液晶表示素子用のカラーフィルター材料として好適なカラーレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The pattern forming method in which the positive resist composition is used contains two kinds of resins containing specific repetitive units with alicylic groups, and (B) compound generating an acid upon being irradiated with active rays or radiation rays.例文帳に追加

脂環基を有する特定の繰り返し単位を含有する樹脂を２種、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is sensitive to visible ray, enables a process in which problems such as ensuring of etching solution and plating solution resistances and lowering of productivity are solved and can form a fine high density pattern.例文帳に追加

可視光感光性で、エッチング液耐性とメッキ液耐性の確保の問題や生産性低下などの問題を解決するプロセスを可能にし、微細かつ高密度なパターンを形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain an alkali development type photocurable glass paste composition capable of stably forming a high-definition partition wall pattern onto a substrate for large-area plasma display panels in good yield and productivity without causing problems such as worsening of working environment.例文帳に追加

大面積のプラズマディスプレイパネル用基板上に、高精細の隔壁パターンを、作業環境の悪化等の問題もなく、歩留り良く、かつ生産性良く、安定して形成できるアルカリ現像型光硬化性を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyamic acid ester composition which is useful in producing electrical/electronic materials, can be subjected to i-line exposure and can provide a relief pattern of polyimide resin, under a low-temperature heat-curing condition of 230-280°C.例文帳に追加

電気・電子材料の製造に有用な、ｉ線露光可能であり、２３０〜２８０℃の低温熱硬化条件においてポリイミド樹脂のレリーフパターンを与えうる感光性ポリアミド酸エステル組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high sensitivity to radiation and having such a development margin that desirable pattern configuration is formed even when the optimum development time is exceeded in the development step.例文帳に追加

放射線に対する高い感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an alkali developing type photosensitive resin composition having sufficient photopolymerizing property, excellent adhesiveness with a substrate, giving a pattern with high resolution when used for photolithography, and having excellent printing property and debinder property during calcining.例文帳に追加

十分な光重合性を有し、基板との密着性に優れ、フォトリソグラフィー法に用いた場合に解像度が高いパターンが得られ、印刷性と焼成時の脱バイ性に優れたアルカリ現像型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition which has excellent photosensitive characteristic, can be developed with an aqueous alkali solution, ensures sufficiently small shrinkage upon curing, and forms a resist pattern having excellent adhesion and thermal shock resistance.例文帳に追加

優れた感光特性を有し、アルカリ水溶液で現像可能であり、硬化に伴う収縮が十分に小さく、且つ、形成されるレジストパターンが優れた密着性及び耐熱衝撃性を有するポジ型感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a photopolymerizable resin composition for manufacturing a dental prosthesis (e.g. clasp) pattern, which has proper viscosity before polymerization, excellent operability and moldability, high toughness after polymerization and is not broken at the time of attachment and detachment from a gypsum mold.例文帳に追加

重合前の粘性が適正で、操作性、成形性に優れ、更には重合後の靭性が高く、石膏模型からの着脱の際に破折しない歯科補綴物（例えば、クラスプ）パターン製作用光重合レジン組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a polymerizable resin composition having sufficient sensitivity to light close to 436 nm, to 408 nm and to 365 nm, capable of forming a film or a pattern having high transmittance, and comprising an auxiliary initiator having low sublimability.例文帳に追加

４３６ｎｍ付近、４０８ｎｍ付近、３６５ｎｍ付近の光に十分な感度をもち、かつ透過率の高い塗膜またはパターンを形成でき、さらに、昇華性の低い開始助剤を含む重合性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Album name composition data selected by a user as the answers to the questions are combined according to an album name creation pattern prepared as an album genre selected by the user, to create candidates of the album name.例文帳に追加

質問に対する答えとしてユーザにより選択されたアルバム名構成データが、ユーザにより選択されたアルバムのジャンル用として用意されるアルバム名作成パターンに従って組み合わせられ、アルバム名の候補が作成される。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive photoresist composition for a thick film suitable for use in the production of a connecting terminal, etc., having a high film retention in development, and excellent in resolution, and a method for producing a thick film resist pattern.例文帳に追加

接続端子などの製造に好適に用いることができ、かつ現像時の残膜率が高く、解像性に優れた厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in resolution, developability, heat resistance, pattern shape, margin for exposure and focus latitude, having good balance of these characteristics and suitable for use as a positive type resist.例文帳に追加

本発明は、解像度、現像性、耐熱性、パターン形状、露光マージン及びフォーカス許容性の各特性に優れるとともに、これらの特性のバランスが良く、ポジ型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In a method for producing artificial marble, a resin composition 1 in which additives such as a pattern material, a filler, and a curing agent are incorporated in a thermosetting resin is obtained, injected in the casting mold 2, molded, and cured.例文帳に追加

熱硬化性樹脂に柄材と、充填剤と、硬化剤などの添加物を配合した樹脂組成物１を得て、この樹脂組成物１を注型用金型２に注入して成形硬化させる人造大理石の製造方法である。 - 特許庁

In the pattern forming method, the application, 1st exposure, development, 2nd exposure and heating of the positive type photosensitive resin composition are successively carried out and the quantity of light in the 2nd exposure is 2-15 times that in the 1st exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の２〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁