「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(85ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photocurable colored composition having high sensitivity, forming a high-definition colored pattern excellent in developability and adhesion to a glass support, and useful for manufacture of a color filter, and a color filter obtained using the same.例文帳に追加

高感度、現像性及びガラス支持体との密着性に優れた高精細な着色パターンを形成するカラーフィルタの作製に有用な、光硬化性着色組成物及びそれを用いて得られたカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a black alkali-developable photosensitive resin composition which avoids degradation in pattern configuration and achieves higher definition, while improving the light blocking effect of a black matrix, and to provided a color filter using the same and a liquid crystal display.例文帳に追加

ブラックマトリクスの遮光性を向上させながらも、パターン形状の悪化がなく高精細化が可能な黒色アルカリ現像型感光性樹脂組成物と、それを用いたカラーフィルタ及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

The pattern forming method employs the negative resist composition.例文帳に追加

（Ａ）下記式（１）または環状オレフィンを開環重合した後水素添加した重合体単位、ビニルエーテル重合体単位から選ばれ、イオンビームの照射により現像液に難溶又は不溶となる樹脂、（Ｂ）樹脂（Ａ）を溶解する少なくとも一種以上の有機溶剤。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in strippability of a resist thereof and capable of improving adhesion and resolution; and to provide a photosensitive element using the same, a method for fabricating a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

レジストのはく離性に優れ、密着性及び解像度を向上させることが可能な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法、及びプリント配線板の製造法を提供。 - 特許庁

It is considered that such a photosensitive composition imparts a filler effect and light transmission effects of the acrylic resin fine particles and has adequacy for suppressing formation of a T-shaped top, imparting a proper pattern shape and suppressing surface wrinkles, at a proper balance.例文帳に追加

このような感光性組成物では、アクリル樹脂微粒子のフィラー効果と光透過効果が得られると考えられ、Ｔ−Ｔｏｐ形状抑制性、パターン形状及び表面シワ抑制についてバランス良く適性を備える。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has improved performance of Line Width Roughness and Depth of Focus and also adapted to a liquid immersion process with a line width of ≤45 nm, and to provide a pattern forming method employing the same.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス、デプスオブフォーカスの性能が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition such as a colored ink for a color filter capable of forming very thin lines even with a high pigment concentration, having high adhesion, giving a good pattern profile, and contributing to higher definition, a higher yield and a shorter takt time.例文帳に追加

高顔料濃度であっても極細線形成でき、高密着性、パターン形状が良好で、高精細化、歩留まり向上、低タクト化に貢献できる感光性樹脂組成物、例えばカラーフィルター用の着色インクの提供。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition that has high resolution performance and has a good balance between DOF (Depth Of Focus) and MEEF (Mask Error Enhancement Factor) in forming a fine pattern of 90 nm or less, and is suitably used also for a liquid immersion exposure process.例文帳に追加

９０ｎｍ以下の微細パターン形成において、解像性能に優れるだけでなく、ＤＯＦとＭＥＥＦのバランスに優れ、液浸露光プロセスにも好適に利用されうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

In addition, since a control substrate 20 can be easily obtained from a conventional control substrate by adding a terminal N and changing a connection pattern a little, the need for changing circuit composition, and for changing the control substrate can be also suppressed to a minimum.例文帳に追加

また、制御基板２０は、従来の制御基板から、端子Ｎの追加と、少しの接続パターンの変更で実現できるため、回路構成を変更する必要がなく、制御基板の変更も最小限に抑えることができる。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which improves LWR, development defects and DOF and is adapted to a liquid immersion process with a line width of ≤45 nm, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＬＷＲ、現像欠陥及びＤＯＦが改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The photosensitive film for permanent pattern formation has a support, a cushion layer and a photosensitive layer in this order, wherein the photosensitive layer comprises a photosensitive composition containing (A) a binder, (B) a polymerizable compound, (C) a photopolymerization initiator and (D) an extender.例文帳に追加

永久パターン形成用感光性フィルムが、支持体と、クッション層と、（Ａ）バインダー、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤及び（Ｄ）体質顔料を含有する感光性組成物からなる感光層とをこの順に備えてなる。 - 特許庁

To provide a transparent resin composition which can form a resin layer in which discoloration and changing in quality are hardly caused even when being touched with a blackening treatment surface of a metal pattern layer applied with a blackening treatment by a metal blackening treatment liquid.例文帳に追加

金属黒化処理液により黒化処理が施された金属パターン層の黒化処理面と接した場合であっても、変色や変質が生じ難い樹脂層の形成が可能な透明性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition, which is easy to synthesize, available at low cost and excellent in sensitivity, and provides a large solubility contrast irrespective of the chemical structure of a finally-obtained polyimide or a pattern with a satisfactory shape.例文帳に追加

最終的に得られるポリイミドの化学構造を問わず大きな溶解性コントラストを得られ、形状が良好なパターンを得ることができ、簡便に合成できて安価に入手可能な、高感度の感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition capable of forming a blue pattern with high spectral transmittance or brightness by using a dye free from light scattering as a coloring agent and preventing yellow discoloration resulting from the curing of a photopolymerizable monomer.例文帳に追加

着色剤として光散乱のない染料を使用すると共に、光重合性モノマーの硬化に起因する黄変を防いで、分光透過率すなわち明度の高い青色パターンを形成することのできる組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming a resist pattern with adequate sensitivity and resolution in exposure to light of 400-440 nm wavelength, and a photosensitive element and a method of manufacturing a printed wiring board using the same.例文帳に追加

波長４００〜４４０ｎｍの露光において、十分な感度及び解像度でレジストパターンを形成することができる感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a colored alkali developing photosensitive resin composition which is excellent in sensitivity, resolution, developing, and adhesiveness, and can form a fine pattern with precision, and a color filter using it.例文帳に追加

感度、解像度、現像性、密着性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できる着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物、及び該着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタを提供すること。 - 特許庁

To provide a negative resist composition showing not only proper basic physical properties, such as retention ratio, pattern stability, adhesion to substrate, and chemical resistance, but also very low brittleness due to superior ductility, during bonding process and hot process.例文帳に追加

残膜率、パターンの安定性、基材に対する接着力及び耐化学性などの基本物性が良好なだけでなく軟性に優れており合着工程や高温工程中において容易に割れないネガレジスト組成物の提供。 - 特許庁

This is the conductive sheet for the non-contact communication medium in which on the insulate base material, a pattern layer (a) of which the main component is active energy ray-curable composition is formed, and on the surface of the layer, a conductive thin-filmed layer (b) is formed.例文帳に追加

絶縁基材上に活性エネルギー線硬化組成物を主成分とするパターン層（ａ）と該層の表面に導電性薄膜層（ｂ）が形成されていることを特徴とする非接触通信媒体用の導電性シート。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which can accurately reproduce the designed size of a mask pattern even by proximity exposure and which can give a spacer for a display panel having excellent adhesiveness with a substrate, transparency, strength, heat resistance and so on.例文帳に追加

プロキシミティー露光を行ってもマスクパターンの設計サイズを忠実に再現でき、かつ基板との密着性、透明性、強度、耐熱性等に優れた表示パネル用スペーサーを形成しうる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is superior in various properties, including film thickness, resolution, pattern shape, transparency, heat resistance and solvent resistance, in particular, in the heat resistance, and which is able to form a microlens that is superior in balance of the various properties.例文帳に追加

膜厚、解像度、パターン形状、透明性、耐熱性、耐溶剤性等の諸性能、特に耐熱性に優れ、且つ諸性能のバランスに優れたマイクロレンズを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

An active energy-beam setting resin composition [1] is poured in a mold with unevenness, and exposed to be hardened and the hardened body is released from the model to obtain the housing for the plane image display device which has an uneven pattern reverse to that of the mold.例文帳に追加

凹凸を有する鋳型に、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物［Ｉ］を流し込み、露光して硬化させた後、該硬化物を鋳型から剥離して該鋳型と逆の凹凸パターンを成形してなる平面画像表示装置用筐体。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition providing a cured film cured at a low temperature, the cured film which is by no means inferior to a film cured at a high temperature and exhibits excellent chemical resistance against various kinds of organic solvents, and to provide a production method of a pattern, and electronic components.例文帳に追加

低温硬化後の硬化膜が、高温で硬化したものと遜色なく、種々の有機溶媒に対して優れた薬品耐性を示すポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a photocurable/thermosetting composition used for forming a resin insulation layer, wherein a pattern can be drawn directly on a substrate for a printed wiring board by using an inkjet printer.例文帳に追加

樹脂絶縁層の形成に用いる光硬化性熱硬化性組成物であって、インクジェットプリンターを用いて、プリント配線板用の基板上に直接パターンを描画することができる光硬化性熱硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which has a high sensitivity and high resolution and decreased development defects in pattern formation by irradiation with active radiations (electron beams, X-rays, or EUV: extreme ultraviolet rays) for manufacturing of semiconductors, photomasks, etc.例文帳に追加

半導体、フォトマスク製造等のための、活性放射線（電子線、Ｘ線、又はＥＵＶ）の照射によるパターン形成において、高感度、高解像力で、現像欠陥が低減されたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains two kinds of resins each of which has a repeating unit selected from among general formulas (1) to (6) and has solubility in an alkali developing solution increased by action of an acid, and the pattern forming method is also provided.例文帳に追加

下記一般式（１）〜（６）から選ばれる繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を２種類含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a polymer compound which enables to obtain a highly sensitive photoresist composition which forms a fine pattern with excellent resolution and good rectangular shape and is capable of obtaining good resist characteristics even when the acid generated by an acid generator is weak.例文帳に追加

解像性に優れ、矩形性が良好な微細パターンを形成でき、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物等の提供。 - 特許庁

To provide a light curable composition having light curability, usable for lithography, exhibiting good sensitivity and scarcely developing problems such as a pattern form defect after development and corrosion, and to provide a cured product.例文帳に追加

本発明の目的は、光硬化性を有しリソグラフィー可能であり、かつ良好な感度を有し、現像工程後のパターン形状不良や、腐食などの問題を生じにくい光硬化性組成物および硬化物を提供することである。 - 特許庁

A pattern forming method of the present invention includes (A) forming a film with a resist composition; (B) exposing the film to light; and (C) developing the exposed film with a developer containing an organic solvent.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、（Ａ）レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（Ｂ）前記膜を露光することと、（Ｃ）有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んでいる。 - 特許庁

To provide a green photosensitive resin composition for forming a pattern excellent in linearity, a photosensitive transfer material using the same, a color filter substrate having good chromaticity and high color purity, and a display device including the color filter substrate.例文帳に追加

直線性に優れたパターンを形成できる緑色感光性樹脂組成物、それを用いた感光性転写材料、良好な色度と高い色純度とを有するカラーフィルタ基板、及び該カラーフィルタ基板を備えた表示装置の提供。 - 特許庁

To provide a silicon-containing resin excellent in ink dropping properties, ink repellency and developing properties, and a photosensitive resin composition which forms a coating film excellent in ink dropping properties and ink repellency and moreover forms a fine pattern.例文帳に追加

優れたインク転落性、撥インク性および現像性を奏する含フッ素樹脂、およびインク転落性、撥インク性、に優れた塗膜を形成することができ、さらには微細なパターン形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a curable resin composition for a black matrix which shows favorable pattern linearity, and from which a black matrix can be formed without subjecting carbon black to another treatment such as oxidation.例文帳に追加

本発明は、パターン直線性が良好で、かつカーボンブラックに酸化処理等、別途処理を施すことなく、ブラックマトリクスを形成することが可能なブラックマトリクス用硬化性樹脂組成物を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type radiation sensitive resist composition which has high sensitivity and high definition to radiation including electron beams, is free of swelling and has high resolution and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

電子ビームを含む放射線に対して高い感度、高い解像度を有する膨潤のない解像性能の優れた化学増幅型感放射線レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

In an embodiment in accordance with this invention, this device pre-stores rhythm patterns containing information on notes and important notes in a database A, and selects a rhythm pattern based on date A2 for melody creation according to composition conditions A1 (A4).例文帳に追加

この発明の一実施例では、打点情報及び重要打点情報を含むリズムパターンをデータベースＡ５に予め記憶しておき、作曲条件Ａ１に応じたメロディ生成用データＡ２に基づいてリズムパターンを選択する（Ａ４）。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist underlayer film having excellent flexural capability, pattern transfer performance, and etching resistance, which can reduce the offensive odor of released gas during forming of the underlayer film.例文帳に追加

曲がり耐性に優れ、パターン転写性能が高く、かつエッチング耐性にも優れるレジスト下層膜を形成することができ、下層膜形成時のアウトガスの臭気を抑制できるレジスト下層膜形成用組成物の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having sufficiently high sensitivity and resolving power in the production of a semiconductor device and in the formation of a contact hole pattern, less liable to produce particles in a resist solution and excellent in dependency on density.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、コンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にレジスト液中のパーティクルの発生が少なく、疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

In the decorative paper constituted by laminating a printing pattern layer and the clear layer on the surface of base paper in this order, the clear layer is formed of a specific porous film forming water dispersible composition.例文帳に追加

基紙表面に印刷絵柄層とクリヤー層とがこの記載の順序に積層されてなる化粧紙において、上記クリヤー層が特定の多孔質皮膜形成水分散型組成物により形成されていることを特徴とする化粧紙。 - 特許庁

To provide an alkali developing type photosensitive resin composition having sufficient photopolymerizing property, excellent adhesiveness with a substrate, giving a pattern with high resolution when used for photolithography, and having excellent printing property and debinder property during calcining.例文帳に追加

十分な光重合性を有し、基板との密着性に優れ、フォトリソグラフィー法に用いた場合に解像度が高いパターンが得られ、印刷性と焼成時の脱バイ性に優れたアルカリ現像型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition which has excellent photosensitive characteristic, can be developed with an aqueous alkali solution, ensures sufficiently small shrinkage upon curing, and forms a resist pattern having excellent adhesion and thermal shock resistance.例文帳に追加

優れた感光特性を有し、アルカリ水溶液で現像可能であり、硬化に伴う収縮が十分に小さく、且つ、形成されるレジストパターンが優れた密着性及び耐熱衝撃性を有するポジ型感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high sensitivity to radiation and having such a development margin that desirable pattern configuration is formed even when the optimum development time is exceeded in the development step.例文帳に追加

放射線に対する高い感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a photopolymerizable resin composition for manufacturing a dental prosthesis (e.g. clasp) pattern, which has proper viscosity before polymerization, excellent operability and moldability, high toughness after polymerization and is not broken at the time of attachment and detachment from a gypsum mold.例文帳に追加

重合前の粘性が適正で、操作性、成形性に優れ、更には重合後の靭性が高く、石膏模型からの着脱の際に破折しない歯科補綴物（例えば、クラスプ）パターン製作用光重合レジン組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a resist pattern forming method capable of improving the sensitivity without deteriorating the resolution in lithography of a resist film with an ArF excimer laser, an F_2 excimer laser, an EUV, an electron beam, and the like.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_２エキシマレーザー、ＥＵＶ又は電子線等によるレジスト膜のリソグラフィーにおいて、解像性を損なわずに感度を向上させることができるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供できる。 - 特許庁

To provide a resist composition which has high sensitivity to high-energy rays such as far ultraviolet rays, an electron beams, and X rays and can form a pattern with a superior contrast through development using an alkali solution.例文帳に追加

本発明は、遠紫外線、電子線、Ｘ線などの高エネルギー線に対して高い感度を有し、アルカリ水溶液で現像することによりコントラストの優れたパターンを形成できるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

The manufacturing method forms the coated resin layer being the ink flow passage wall thereon and dissolves and removes the photosensitive resin composition layer forming the ink flow passage pattern by irradiating the ionizing radiation of the second wavelength region after forming an ink discharge opening.例文帳に追加

そして、その上にインク流路壁となる被覆樹脂層を形成し、インク吐出口を形成後、第二の波長域の電離放射線を照射してインク流路パターンを形成している感光性樹脂組成物層を溶解除去する。 - 特許庁

The method for manufacturing a color filter comprises applying a photosensitive resin composition containing an ink-repelling agent on a substrate to form a partition pattern and thermally setting the partition by heating at 220 to 260°C in an inert atmosphere.例文帳に追加

撥インキ剤を含む感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、隔壁パターンを形成した後、隔壁を不活性雰囲気内で２２０〜２６０℃の加熱温度で熱硬化させることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。 - 特許庁

To provide a highly practically usable pattern forming method with which more refined patterns can be easily and efficiently formed, and which can be applied to semiconductor manufacturing processes, and a radio-sensible resin composition used therefor.例文帳に追加

より微細なパターンを簡便かつ効率的に形成可能であるとともに、半導体の製造プロセスに適用することのできる、実用性の高いパターン形成方法、及びそれに用いられる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁