「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(86ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive resin composition and a photosensitive element which suppress thickness reduction of a pattern and allow production of a liquid crystal display capable of displaying a high-quality image free of display unevenness, and a method for producing liquid crystal spacers.例文帳に追加

パターンの膜減りを抑制し、表示ムラのない、高品位な画像を表示することができる液晶表示装置の製造が可能な感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びに液晶スペーサーの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the pattern forming method, when coating, first exposure, development, second exposure and heat treatment of the positive photosensitive resin composition are carried out in order, the quantity of light for the second exposure is 0.5-15 times that for the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の０．５〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

In the pattern forming method, the positive type photosensitive resin composition is applied and subjected to first exposure, development, second exposure and heating in order, and it is characterized in that the quantity of light in the second exposure is 2-15 times that in the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の２〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is useful for producing electric/electronic materials, is excellent in elongation, heat resistance, chemical resistance, and water-resistant adhesiveness, gives a high-resolution polyimide pattern, and has a high storage stability.例文帳に追加

電気・電子材料の製造に有用な、高伸度であり、高い耐熱性、高い耐薬品性、耐水接着性を合わせ持ち、かつ高い解像度のポリイミドパターンを与え、かつ保存安定性が高い感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To control the amount of a photoresist remaining in a channel region to be uniform and to reduce projections at an end of a semiconductor layer, in relation to a method for forming a pattern using a photoresist composition and to a method for manufacturing a thin film transistor display panel.例文帳に追加

フォトレジスト組成物を用いたパターンの形成方法、薄膜トランジスタ表示板の製造方法に関し、チャンネル領域に残っているフォトレジストの量を均一にして、半導体層の末端の突出を減少させる。 - 特許庁

In the pattern forming method, when coating, first exposure, development, second exposure and heat treatment of the positive photosensitive resin composition are carried out in this order, the quantity of light for the second exposure is 0.5-15 times that for the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の０．５〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a photocurable composition having high heat resistance after being cured, and used for forming a highly precise relief pattern on a base material, and to provide a cured film having such a characteristic, and an electronic component having the organic film.例文帳に追加

硬化後に高い耐熱性を有し、高精細なレリーフパターンを基材上に形成するのに使用される光硬化性組成物、このような特性を有する硬化膜、及びこの有機膜を有する電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to a radiation, excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity, resolution and pattern shape, and useful particularly as a chemically amplified resist excellent in focus latitude.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、特にフォーカス余裕に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an etching-durable photosensitive resin composition which can be exposed for patterning with a small quantity of exposure light, which prevents misalignment of the pattern, which has excellent stripping property without leaving an unnecessary resin, and which can prevents a metal plate from rust.例文帳に追加

少ない露光量でパターン露光ができ、パターンの位置ズレを防止でき、剥離性に優れていて、不安な樹脂残りがなく、金属板のサビを防止することができる耐エッチング性感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

In the pattern forming method in which the positive type photosensitive resin composition is successively subjected to application, 1st exposure, development, 2nd exposure and heating, the quantity of light in the 2nd exposure is 2-15 times that in the 1st exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の２〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a color resist composition which achieves high color purity in a thin film, satisfies uniformity in coating, photo-curability, developability, pattern shape, storage stability, etc., and is suitable for use as a color filter material for a liquid crystal display.例文帳に追加

薄膜で高色純度を達成し、かつ塗布均一性、光硬化性、現像性、パターン形状、保存安定性等を満足させる、液晶表示素子用のカラーフィルター材料として好適なカラーレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The pattern forming method in which the positive resist composition is used contains two kinds of resins containing specific repetitive units with alicylic groups, and (B) compound generating an acid upon being irradiated with active rays or radiation rays.例文帳に追加

脂環基を有する特定の繰り返し単位を含有する樹脂を２種、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is sensitive to visible ray, enables a process in which problems such as ensuring of etching solution and plating solution resistances and lowering of productivity are solved and can form a fine high density pattern.例文帳に追加

可視光感光性で、エッチング液耐性とメッキ液耐性の確保の問題や生産性低下などの問題を解決するプロセスを可能にし、微細かつ高密度なパターンを形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a polymerizable resin composition having sufficient sensitivity to light close to 436 nm, to 408 nm and to 365 nm, capable of forming a film or a pattern having high transmittance, and comprising an auxiliary initiator having low sublimability.例文帳に追加

４３６ｎｍ付近、４０８ｎｍ付近、３６５ｎｍ付近の光に十分な感度をもち、かつ透過率の高い塗膜またはパターンを形成でき、さらに、昇華性の低い開始助剤を含む重合性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which achieves a high solubility contrast regardless of the kind of polymer precursor, particularly polyimide precursor and which consequently provides a pattern of good shape, with a satisfactory process margin kept.例文帳に追加

高分子前駆体、特にポリイミド前駆体の種類を問わず大きな溶解性コントラストを得られ、結果的に、十分なプロセスマージンを保ちつつ、形状が良好なパターンを得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a calixarene-based compound useful as a raw material of a substrate component contained in a radiation-sensitive composition which can form a chemistry amplification type positive resist film which can form a stabilized and highly precise fine pattern.例文帳に追加

高精度な微細パターンを安定して形成することができる化学増幅型のポジ型レジスト膜を形成可能な感放射線性組成物に含有される基材成分の原料として有用なカリックスアレーン系化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyamic acid ester composition which is useful in producing electrical/electronic materials, can be subjected to i-line exposure and can provide a relief pattern of polyimide resin, under a low-temperature heat-curing condition of 230-280°C.例文帳に追加

電気・電子材料の製造に有用な、ｉ線露光可能であり、２３０〜２８０℃の低温熱硬化条件においてポリイミド樹脂のレリーフパターンを与えうる感光性ポリアミド酸エステル組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in resolution, developability, heat resistance, pattern shape, margin for exposure and focus latitude, having good balance of these characteristics and suitable for use as a positive type resist.例文帳に追加

本発明は、解像度、現像性、耐熱性、パターン形状、露光マージン及びフォーカス許容性の各特性に優れるとともに、これらの特性のバランスが良く、ポジ型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In a method for producing artificial marble, a resin composition 1 in which additives such as a pattern material, a filler, and a curing agent are incorporated in a thermosetting resin is obtained, injected in the casting mold 2, molded, and cured.例文帳に追加

熱硬化性樹脂に柄材と、充填剤と、硬化剤などの添加物を配合した樹脂組成物１を得て、この樹脂組成物１を注型用金型２に注入して成形硬化させる人造大理石の製造方法である。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive photoresist composition for a thick film suitable for use in the production of a connecting terminal, etc., having a high film retention in development, and excellent in resolution, and a method for producing a thick film resist pattern.例文帳に追加

接続端子などの製造に好適に用いることができ、かつ現像時の残膜率が高く、解像性に優れた厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

Album name composition data selected by a user as the answers to the questions are combined according to an album name creation pattern prepared as an album genre selected by the user, to create candidates of the album name.例文帳に追加

質問に対する答えとしてユーザにより選択されたアルバム名構成データが、ユーザにより選択されたアルバムのジャンル用として用意されるアルバム名作成パターンに従って組み合わせられ、アルバム名の候補が作成される。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition solution having ≤1×10-3 milliequivalent/g acid component content and suitable for use as a minute pattern forming resist.例文帳に追加

本発明のネガ型感放射線性樹脂組成物溶液は、組成物溶液中の酸成分の含有量が１×１０^-3ミリ当量／ｇ以下の範囲に調整されており、微細パターン形成用のレジストとして好適に使用される。 - 特許庁

To provide a photo acid generators which has excellent transparency for UV light having a wavelength of ≤220 nm and a high photoreaction efficiency (photo acid generation efficiency), and to provide a chemical amplification resist composition which gives pattern sidewalls having excellent smoothness.例文帳に追加

波長２２０ｎｍ以下の紫外光に対して透明性に優れ、光反応効率（光酸発生効率）が高い光酸発生剤、および解像性、パターン側壁の平滑性に優れた化学増幅レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain an alkali development type photocurable glass paste composition capable of stably forming a high-definition partition wall pattern onto a substrate for large-area plasma display panels in good yield and productivity without causing problems such as worsening of working environment.例文帳に追加

大面積のプラズマディスプレイパネル用基板上に、高精細の隔壁パターンを、作業環境の悪化等の問題もなく、歩留り良く、かつ生産性良く、安定して形成できるアルカリ現像型光硬化性を提供する。 - 特許庁

To provide a photoreactive resin composition which has high sensitivity and is hard to cause gelation, and a method for manufacturing a circuit board and a multilayer board which have a high resolving degree wiring pattern and a via hole by the photolithography using the same.例文帳に追加

感度が高く、かつゲル化が起こりにくい光反応性樹脂組成物、およびそれを用いたフォトリソグラフィ法により、解像度の高い配線パターンやビアホールを有する回路基板およびセラミック多層基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fluororesin exhibiting excellent ink repellency, ink dropping properties and developing properties, and a photosensitive resin composition which forms a coating film excellent in ink repellency and ink dropping properties and moreover forms a fine pattern.例文帳に追加

優れた撥インク性、インク転落性、および現像性を奏する含フッ素樹脂、および撥インク性、インク転落性に優れた塗膜を形成することができ、さらには微細なパターン形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition forming an antireflection film for lithography having a high antireflection effect, causing no intermixing with a resist layer, giving an excellent resist pattern, and having a fast dry etching speed compared to the resist.例文帳に追加

反射光防止効果が高く、レジスト層とのインターミキシングが起こらず、優れたレジストパターンが得られ、レジストに比較して大きなドライエッチング速度を有するリソグラフィー用反射防止膜を形成する組成物を提供するものである。 - 特許庁

To provide a composition for forming an upper antireflection film capable of thoroughly reducing standing-wave effect and blob defects in lithography and having superior solubility in an alkali developer, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

リソグラフィーにおいて、定在波効果及びブロッブ欠陥を十分に低減することができ、且つアルカリ現像液に対する溶解性に優れた上層反射防止膜形成用組成物及びレジストパターン形成方法を提供する - 特許庁

The composition for pattern formation contains a compound having a functional group capable of causing chain transfer and a functional group whose pKa is 8-14 within a molecule, a binder, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator.例文帳に追加

分子内に連鎖移動可能な官能基とｐＫａが８〜１４の範囲にある官能基とを有する化合物、バインダー、重合性化合物、並びに光重合開始剤を含むことを特徴とするパターン形成用組成物である。 - 特許庁

To provide an antireflection film composition for lithography having a high antireflection effect, causing no intermixing with a photoresist layer, giving an excellent photoresist pattern, having a high dry etching rate compared to a photoresist and having excellent thermal stability.例文帳に追加

反射光防止効果が高く、フォトレジスト層とのインターミキシングが起こらず、優れたフォトレジストパターンが得られ、フォトレジストに比較して大きなドライエッチング速度を有し、熱安定性に優れたリソグラフィー用反射防止膜組成物を提供すること。 - 特許庁

To obtain a photopolymer composition containing a polyimide precursor having ethylenic double bonds reactive to an actinic radiation such as an ultraviolet radiation in side chains, being developable with an aqueous alkali solution, and having negative pattern forming properties.例文帳に追加

紫外線などの活性光線に反応可能なエチレン性不飽和二重結合を側鎖にもつポリイミド前駆体であり、アルカリ水溶液にて現像が可能なネガ型パターン形成能を有する感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resist composition for a color filter excellent in sensitivity, adhesion in development and pattern profile, to enhance the reliability of a color filter and a liquid crystal display device, to boost yield and to reduce the cost of manufacturing.例文帳に追加

感度、現像時の密着性、パターン形状に優れたカラーフィルター用感光性レジスト組成物を提供し、カラーフィルターおよび液晶表示装置の信頼性を高く、かつ歩留まりを向上させ製造コストを削減することにある。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition, capable of forming a resist pattern having a cross section of inverted tapered shape, markedly superior in heat resistance and in adhesion, even with respect to a substrate having high smoothness, without deteriorating the storage stability.例文帳に追加

保存安定性を損なうことなく、断面が逆テーパー状で、耐熱性が顕著に優れ、かつ平滑性の高い基板に対しても密着性に優れたレジストパターンを形成することができる感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a decorative paper sheet comprising various layers (a picture pattern layer, a sealing layer or the like) other than a surface protective layer, being made from an aqueous composition and being excellent in adhesive property between respective layers and also having a durable anti-surface soiling property.例文帳に追加

表面保護層以外の種々の層（絵柄層、シーラー層等）を水性組成物から形成した化粧紙であって、各層間の接着性に優れ、しかも持続した耐表面汚染性を有する化粧紙を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of producing a molding having a fine pattern on the surface accurately by holding a photopolymerizable composition formed in the shape of a thin film by spin coating, or the like.例文帳に追加

表面に微細パターンを有する成型体の製造方法において、スピンコート法等により薄膜に形成された光重合性組成物を保持し、精度よく微細パターンを有する成型体を製造できる方法を提供する。 - 特許庁

The transparent resin composition is used when a metal pattern layer whose surface is treated with blackening by a metal blackening treatment liquid and an optical film are laminated to be integrated, and includes a resin and a compound shown by general formula (I).例文帳に追加

透明性樹脂組成物は、金属黒化処理液により表面が黒化処理された金属パターン層と、光学フィルムとを積層一体化する際に用いられ、樹脂と、一般式（Ｉ）で表される化合物と、を含有する。 - 特許庁

To provide a positive type radiation sensitive composition used as a positive type chemical amplification resist and having such high process admissibility as to ensure excellent resolving power and pattern profile even if considerable time elapses from the end of exposure to post-heating.例文帳に追加

ポジ型化学増幅レジストにあって、露光した後、後加熱までに時間が相当経過しても優れた解像力及びパターンプロファイルが得られるプロセス許容性が大きいポジ型感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a positive photosensitive resin composition which is developed with an alkaline aqueous solution in a short time, is produced in commercial production facilities, and forms a pattern having high resolution and high film thickness retention.例文帳に追加

アルカリ水溶液による短時間での現像が可能であり、量産設備で製造が可能で、かつ高解像度で膜厚保持率の高いパターンを形成できるポジ型感光性樹脂組成物の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition suitable as a resist having sensitivity with respect to far ultraviolet rays, represented by active radiation (for example, ArF excimer laser, EUV, electron beam, and so forth), a substrate with resist film, and a pattern forming method.例文帳に追加

活性放射線（例えば、ＡｒＦエキシマレーザー、ＥＵＶ、電子線等）に代表される遠紫外線に感応するレジストとして好適な感放射線性樹脂組成物及びレジスト被膜付き基板並びにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type radiation sensitive resin composition giving a pattern free of cracking even in plating and even by washing and drying after plating, capable of precisely forming a thick plated/shaped body such as a bump or wiring and excellent also in sensitivity, resolution, etc., and a method for producing the plated/shaped body using the composition.例文帳に追加

特に、メッキ中およびメッキ後の水洗・乾燥によってもパターンにクラックを生じることがなく、バンプあるいは配線等の厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができ、かつ感度、解像度等にも優れたポジ型感放射線性樹脂組成物、並びに当該組成物を用いるメッキ造形物の製造方法を提供する。 - 特許庁

This phosphorus-containing compound containing a vinyl monomer having a phosphorus compound structure in its side chain, a vinyl monomer having a carboxyl group in its side chain and a vinyl monomer having an aryl or ester group in its side chain as structural units, the resin composition containing the compound, the photosensitive film 1 obtained by using the resin composition, the method for forming the resist pattern and the printed wiring board are provide.例文帳に追加

側鎖にリン化合物構造を有するビニルモノマー、側鎖にカルボキシル基を有するビニルモノマー、側鎖にアリール基又はエステル基を有するビニルモノマーを構造単位として含むリン含有化合物、該化合物を含有してなる樹脂組成物及び樹脂組成物を用いた感光性フィルム１、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板。 - 特許庁

To provide a positive radiation sensitive resin composition which excels in application property and radiation sensitivity, provides good pattern form and can form an interlayer insulating film having excellent heat resistance, solvent resistance, light transmittance, dry-etching resistance, and the interlayer insulating film obtained from the composition and a method for forming the film.例文帳に追加

塗布性に優れ、放射線感度、及び良好なパターン形状が得られると共に、耐熱性、耐溶剤性、光線透過率、耐ドライエッチング性に優れた層間絶縁膜を形成することが可能なポジ型感放射線性樹脂組成物、その組成物から得られた層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a coloring light-sensitive resin composition, which has high line width stability relative to development and can form a pattern with high resolution, as well as a method for forming patterns using ultraviolet ray laser exposure, and particularly to provide a coloring light-sensitive resin composition suitable for forming a colored pixel of a color filter or the like and a method for forming patterns using ultraviolet ray laser exposure.例文帳に追加

現像に対する線幅安定性が高く、高解像度のパターンを形成しうる着色感光性樹脂組成物および紫外光レーザー露光によるパターン形成方法、特に、カラーフィルタの着色画素などの形成に好適な、着色感光性樹脂組成物および紫外光レーザー露光によるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coloring composition for a color filter which has high luminance, of which the lightness is only slightly reduced in a step to form the color filter, of which the color difference ΔEab* is small, which has high heat resistance, and further which has an excellent pattern shape of a filter segment, and to provide a color filter with high luminance by using the composition.例文帳に追加

本発明の目的は、高輝度であって、カラーフィルタの形成工程においても明度の低下、及び色差ΔＥａｂ＊が小さい高耐熱性のカラーフィルタ、かつフィルタセグメントのパターン形状についても良好なカラーフィルタ用着色組成物を提供すること、及びこれを用いた高輝度のカラーフィルタを提供することである。 - 特許庁

To provide a high-storage stability dispersion composition having a high dispersibility of titanium black and not undergoing titanium black settlement even after a lapse of time; and to provide a photosensitive composition which, when used in pattern formation, prevents residues in an unexposed area and has a high adhesion sensitivity, a light-shielding color filter of a high light-shielding property, a solid state imaging device, and a liquid display device.例文帳に追加

チタンブラックの分散性が高く、経時後もチタンブラックが沈降しない保存安定性の高い分散組成物を提供し、パターン形成したときに未露光部における残渣が抑制され、さらに密着感度が高い感光性組成物、遮光性の高い遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁