「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(82ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a black photosensitive resin composition for a solid state image sensor in which a small amount of a residue is generated, adhesion to a substrate after being exposed is excellent and a black pattern having an excellent rectangular cross section profile is obtained.例文帳に追加

現像残渣が少なく、感光後の基板密着性に優れ、良好な矩形の断面プロファイルを有する黒色パターンが得られる固体撮像素子用黒色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radical-curable composition which can suppress the generation of a wrinkle pattern such as "striae" on a molded product surface in the production of an optical component such as a lens by a casting molding method using a radical curing system.例文帳に追加

ラジカル硬化系を用いたキャスティング成形法でのレンズ等の光学部品の製造において、成形物表面における「脈離」等の皺模様の発生を抑制できるラジカル硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which satisfies few development defects as well as high sensitivity, high resolution and a good pattern shape when an active ray or radiation, particularly an electron beam or X-ray is used.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に電子線又はＸ線の使用に対して、高感度、高解像性、良好なパターン形状に加えて、現像欠陥の特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a "pulse signal output circuit" which can prevent the generation of a harmonic component which leads EMC (Electro Magnetic Compatibility) interference from a wiring pattern or a signal line of the pulse signal output circuit or succeeding circuits using a simple circuit composition.例文帳に追加

簡単な回路構成によりパルス信号出力回路以降の配線パターンや信号線から、ＥＭＣ妨害の原因となる高調波成分の発生を防止できる「パルス信号出力回路」とする。 - 特許庁

The size of the hard mask composition structure is controlled by the development rate, which yields a feature size that is a fraction of the imaging layer feature size, and finally gives a pattern that can ultimately be transferred to the substrate.例文帳に追加

ハードマスク組成物の構造体の寸法は、現像速度で制御され、イメージング層の形状の寸法の何分の一かの形状の寸法を生成し、最終的に基板に転写されるパターンを作製する。 - 特許庁

A card is prepared by using the resin composition, a colored printed layer 2 such as letter, pattern, etc., and a transparent protective printed layer 3 are laminated and integrated in turn to the surface of the card by offset printing to give the objective offset-printed card 1.例文帳に追加

前記樹脂組成物を用いてカードを作製し、これの表面に順に文字、図柄等の着色印刷層２、透明の保護印刷層３をオフセット印刷により積層一体化して、オフセット印刷カード１とする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition of which cross-section plane is of inverse tapered shape, and which significantly excels in heat resistance, and is capable of forming a resist pattern that does not cause shape anomaly such as a protrusion on a side wall.例文帳に追加

断面が逆テーパー状で、耐熱性が顕著に優れ、かつ側壁に突起などの形状異常の発生がないレジストパターンを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition improved in exposure latitude, thinness-denseness dependency and line edge roughness and improved also in sensitivity to exposure with EUV light and in dissolution contrast, and to provide a pattern forming method and a specific organic acid.例文帳に追加

露光ラチチュード、疎密依存性、ラインエッジラフネスが改善され、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、パターン形成方法及び特定の有機酸を提供する。 - 特許庁

To provide an indicator ink composition that indicates the presence of water that has improved visibility by changing the color when water is detected, while the shape of a pattern is retained after the water detection, and accordingly the designability is prevented from being degraded.例文帳に追加

本発明は、水分の検知下で変色させて視認性を向上させ、しかも、水分検知後も図柄の形状を残したままデザイン性の低下を防ぐ、水分のインジケーターインキ組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an electroconductive resin composition that can obtain excellent storage stability, has excellent electroconductivity in an electroconductive pattern formed, and can achieve low cost.例文帳に追加

導電性樹脂組成物において、良好な保存安定性を得ることができるとともに、形成される導電パターンにおいて、良好な導電性を有し、低コスト化を図ることが可能な導電性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The composition is applied on the transparent electrode of a front glass substrate, exposed according to a prescribed pattern, developed and fired to form the lower layer (black layer) electrode circuit of PDP.例文帳に追加

このような光硬化型導電性組成物を前面ガラス基板の透明電極上に塗布し、所定のパターン通りに露光し、現像、焼成することにより、ＰＤＰの下層（黒層）電極回路が形成される。 - 特許庁

To obtain a radiation-sensitive resin composition capable of faithfully reproducing a design size of a mask pattern even by proximity exposure and forming a spacer for a display panel excellent in strength, heat resistance, etc., required for the spacer.例文帳に追加

プロキシミティー露光によってもマスクパターンの設計サイズを忠実に再現でき、かつスペーサーとして必要な強度、耐熱性等に優れた表示パネル用スペーサーを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for a topcoat which gives a highly fine and highly accurate pattern, especially in immersion lithography, by photolithography using a high-energy line or an electron beam which is an electromagnetic wave with a wavelength of 300 nm or less.例文帳に追加

波長３００ｎｍ以下の電磁波である高エネルギー線または電子線を用いたフォトリソグラフィーにより、特に液浸リソグラフィーにて、極めて微細且つ高精度なパターンを与えるトップコート用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition usable for manufacturing a melamine decorative board capable of clearly expressing a pattern of a decorative paper, on which fingerprints, etc. are rarely prominent, a transfer sheet, a melamine decorative board and a method for manufacturing the melamine decorative board.例文帳に追加

指紋等が目立ちにくく、化粧紙の絵柄が鮮明に表現できるメラミン化粧板の製造に使用できる組成物、転写シート、メラミン化粧板、及びメラミン化粧板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for immersion exposure, which is suitable for immersion exposure and forms a resist film having high hydrophobicity of a surface thereof and good lithography characteristics, and also to provide a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

膜表面の疎水性が高く、かつリソグラフィー特性も良好なレジスト膜を形成でき、液浸露光用として好適な液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition and a photosensitive dry film resist developable with an aqueous alkali solution, providing a good pattern shape and excellent in heat resistance and electric insulation and to provide methods for using them.例文帳に追加

本発明は、アルカリ水溶液で現像可能で、良好なパターン形状が得られ、かつ耐熱性や電気絶縁性に優れた感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルムレジスト、並びにこれらの利用方法を提供する。 - 特許庁

In the pattern forming method, light intensity applied in the second exposure is 1-15 times of that of a first exposure in performing the processes of spreading, the first exposure, development, the second exposure, and heat treatment one by one for the positive photosensitive resin composition.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の１〜１５倍であるパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a resin composition excellent in tackiness, photosensitivity and adhesion, capable of forming a pattern by development with an alkaline aqueous solution, and having superior properties in relation to storage stability and thermal stability.例文帳に追加

タック性、光感度、密着性等に優れ、アルカリ水溶液による現像によりパターン形成できると共に、貯蔵安定性、熱安定性において非常に優れた特性を有する樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polyimide composition which enables processing of a fine pattern, forms a film having heat resistance and a coefficient of linear expansion with a substrate, close to each other, does not require imidization at a high temperature, and can be alkali-developed.例文帳に追加

微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、アルカリ現像できるポジ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁

A composition for pretreatment of electroless plating containing palladium acetate and ammonia or an ammonia compound as the main components is used for pretreatment for forming a metal pattern on a layer of polysilane or a substrate by electroless plating.例文帳に追加

酢酸パラジウムとアンモニア又はアンモニア化合物を主成分として含む無電解めっき前処理用組成物を、ポリシランの層または基体へ無電解めっきにより金属パターンを形成する前処理に用いる。 - 特許庁

To provide an alkali-developable photosensitive resin composition excellent in sensitivity and adhesion and capable of accurately forming a fine pattern regardless of whether a photopolymerization initiator is not used or is used in small quantity.例文帳に追加

光重合開始剤を使用しない又は少量の使用であるにも関わらず、感度及び密着性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition capable of giving a resist pattern excellent in section shape without generating resist residue when a semiconductor device is manufactured by a via first dual damascene process.例文帳に追加

ビアファーストのデュアルダマシン法により半導体デバイスを製造する場合に、レジスト残りを生じず、かつ断面形状に優れるレジストパターンを与えることができる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a photosensitive resin composition excellent in dispersibility, drying properties and environmental safety and providing a fine pattern excellent in developability, photosensitivity, adhesion, pencil hardness, solvent, acid, heat and gold plating resistances.例文帳に追加

分散性、乾燥性、環境安全性に優れ、現像性、光感度、密着性、鉛筆硬度、耐溶剤性、耐酸性、耐熱性、耐金メッキ性優れたファインパターンが得られる感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The water-soluble resin composition for forming a fine pattern comprises a water-soluble vinyl resin, a compound having at least two amino groups in the molecule, a solvent, and as required, an additive such as a surfactant.例文帳に追加

本発明の微細化パターン形成用水溶性樹脂組成物は、水溶性ビニル樹脂、分子内に少なくとも２個のアミノ基を有する化合物、溶剤および必要に応じ界面活性剤などの添加剤からなる。 - 特許庁

The photosensitive resin composition is mainly composed of a polyimide precursor having a benzoxazole skeleton and a phenolic hydroxyl group, a vinyl ether compound and a photoacid generator, can be developed with an aqueous alkali solution, and has positive pattern forming capability.例文帳に追加

ベンゾオキサゾール骨格とフェノール性水酸基を有するポリイミド前躯体、ビニルエーテル化合物、光酸発生剤とを主成分とするアルカリ水溶液にて現像が可能なポジ型パターン形成能を有する感光性樹脂。 - 特許庁

To provide a titanium dioxide composition and a titanium dioxide-containing layer which has few crystal defects and exhibits high activity, and to provide a pattern formation body using the titanium dioxide-containing layer.例文帳に追加

本発明は結晶欠陥が少なく、高い活性を示す二酸化チタン組成物や二酸化チタン含有層、およびこの二酸化チタン含有層を用いたパターン形成体等を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having excellent sensitivity and resolution for far UV rays as typified by an ArF excimer laser, excellent in the pattern profile or the like, and suitable as a chemically amplifying resist.例文帳に追加

特にＡｒＦエキシマレーザーに代表される遠紫外線に対する感度、解像度が優れ、パターン形状等にも優れる新規な化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for electronic materials causing no corrosion reaction to copper and copper alloys of metal wiring, etc., and having good film adhesion and sensitivity, a method for producing a pattern and electronic components.例文帳に追加

金属配線等の銅及び銅合金に対して腐食反応を引き起こさず、膜の密着性、感度の良好な電子材料用の感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a solvent or solvent composition for pattern printing of a solar cell, an organic thin film transistor, electronic paper or an organic electroluminescence device, which ensures high solubility of a resin additive such as a binder resin and has low hygroscopicity.例文帳に追加

バインダー樹脂等の樹脂添加物の溶解性が高く、吸湿性が低い太陽電池、有機薄膜トランジスター、電子ペーパー、又は有機エレクトロルミネッセンスデバイスのパターン印刷用溶剤又は溶剤組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition containing β-hydroxyalkyl amide soluble with an organic solvent, from which a film or a fine pattern having sufficient heat-resistance, chemical resistance, smoothness and optical characteristics can be formed.例文帳に追加

耐熱性・耐薬品性・平滑性・光学特性を満足する膜あるいは微細パターンの形成が可能な、有機溶剤に可溶であるβ−ヒドロキシアルキルアミドを含む感光性組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a polymerizable resin composition, having adequate sensitivity to light having a wavelength of about 436 nm, about 408 nm or about 365 nm in exposure and allowing a coating film or pattern, having a high transmittance to be formed.例文帳に追加

露光時に４３６ｎｍ付近、４０８ｎｍ付近、３６５ｎｍ付近の波長の光に十分な感度をもち、かつ透過率の高い塗膜またはパターンを形成することができる重合性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The ink composition which contains water, a colorant, and 1,3,5-trioxane or tetraethylene glycol dimethyl ether is prepared, and the obtained ink is inserted into an inkjet printer to jet ink drops onto a recording sheet in an image pattern.例文帳に追加

水と、着色剤と、１，３，５−トリオキサンまたはテトラエチレングリコールジメチルエーテルとを含むインク組成物を調製し、得られたインクをインクジェットプリンタに装入し、記録シート上にインク滴を画像状パターンで噴出させる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which can be suitably used for microphotofabrication using far UV rays, in particular ArF excimer laser light and which eliminates problems of line edge roughness and pattern collapse.例文帳に追加

遠紫外光、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用したミクロフォトファブリケーションに於いて好適に使用することができる、ラインエッジラフネス、パターン倒れの問題が解消されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a paste composition suitable for a laser direct imaging device using a laser oscillation light source having a maximum wavelength of 350-420 nm, useful for efficiently forming a fine pattern, and excellent in storage stability.例文帳に追加

最大波長が３５０ｎｍ〜４２０ｎｍのレーザー発振光源を用いたレーザー・ダイレクト・イメージング装置に適し、精細なパターンを効率良く形成するのに有用で、かつ保存安定性に優れたペースト組成物を提供する。 - 特許庁

The resin composition affording interference pattern comprises an alcohol component containing at least 3 mol% 1,4-cyclohexanedimethanol, a polyester resin with terephthalic acid as the acid component and an acrylonitrile-styrene-based resin.例文帳に追加

少なくとも３モル％の１，４−シクロヘキサンジメタノールを含むアルコール成分とテレフタル酸を酸成分とするポリエステル系樹脂とアクリロニトリル−スチレン系樹脂とからなることを特徴とする干渉模様透明樹脂組成物。 - 特許庁

To achieve excellent controllability of resist pattern size in a thermal flow process using a resist composition for use in ArF excimer laser lithography or the like.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー等に使用されるレジスト組成物を用いたサーマルフロープロセスにおいて、レジストパターンサイズの制御性に優れるサーマルフロー用に適したポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an underlayer film composition for forming an underlayer film having a low reflectance for exposure light at a short wavelength and excellent etching resistance against oxygen plasma or the like, and to provide a method for forming a multilayer resist pattern.例文帳に追加

短波長の露光光の反射率が低く、酸素プラズマ等に対するエッチング耐性にも優れる下層膜を形成するための下層膜用組成物及び多層レジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

This injection molded form with a fine pattern transferred in high accuracy is obtained by injection molding of a cyclic olefin resin or a thermoplastic resin composition comprising the above cyclic olefin resin and a specific hydrocarbon resin.例文帳に追加

環状オレフィン樹脂または環状オレフィン樹脂と特定の炭化水素樹脂からなる熱可塑性樹脂組成物を用いて射出成形することにより、微細なパターンが高転写された射出成形体を得る。 - 特許庁

The composition for pattern formation contains a compound having a functional group capable of causing chain transfer and a hydrophilic functional group within a molecule, a polymerization inhibitor, a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator.例文帳に追加

分子内に連鎖移動可能な官能基と親水性官能基とを有する化合物、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物、並びに光重合開始剤を含むことを特徴とするパターン形成用組成物である。 - 特許庁

To provide a design panel, and an air conditioner using it capable of realizing a novel appearance with a feeling of depth in a display pattern by an inexpensive composition even when the design panel is a curved surface shape.例文帳に追加

意匠パネルが曲面状であっても、安価な構成により、表示パターンに奥行き感のある斬新な見栄えをもたせることができるようにした意匠パネルおよびそれを用いた空気調和機を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the color filter is provided with a process comprised by ejecting the resin composition from an ink-jet head to respective light transmission regions on a substrate on which partitions are preliminarily formed, subsequently driving it and forming a pixel pattern.例文帳に追加

カラーフィルタの製造方法は、予め隔壁を形成した基板の各光透過領域にインクジェットヘッドから前記樹脂組成物を吐出させたのち、乾燥して画素パターンを形成する工程を備えている。 - 特許庁

When the photosensitive resin composition is used as a liquid photosensitive resist material, flexibility as a coating film as well as various characteristics such as pattern forming property, etching or plating resistance and removability is improved.例文帳に追加

このような感光性樹脂組成物を、液状の感光性レジスト材料として用いることにより、パターン形成性、エッチング又はめっき耐性、剥離性等の諸特性のみでなく、塗膜としての柔軟性も改善される。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition for a color filter forming a pattern free of chipping and peeling and capable of preventing the occurrence of residue and surface stains on a substrate in unexposed regions and on a light shielding layer.例文帳に追加

パターンに欠けおよび剥がれを生じることがなく、未露光部の基板上および遮光層上に残渣および地汚れが発生するのを防止しうるカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

Here, a guide display control part 11 causes a guide pattern template as an auxiliary line prepared, in advance, to be imposed and displayed on the display screen of the electronic finder so as to refer to it at determining of the composition and the framing.例文帳に追加

この際、ガイド表示制御部１１は、予め準備された補助線としてのガイドパターンテンプレートを、構図およびフレーミング等の決定に参考とすべく、電子ファインダ表示画面に重畳表示させる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation, which can form high-quality pixels free of unevenness due to water (spotted color unevenness occurring on a pixel pattern after development and cleaning) even with a small amount of light exposure.例文帳に追加

低露光量であっても水ムラ（現像・水洗後に画素パターン上に発生するシミ状の色ムラ）のない高品質な画素を形成することができる着色層形成用感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁