「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(87ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a positive acting resist composition which is suitably used in a super-microlithography process and other photofabrication processes of manufacturing a VLSI and a high-capacity microchip and has excellent line edge roughness and further a positive acting resist composition which has superior resolving power, defocusing latitude, and an exposure margin in contact-hole pattern formation.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインエッジラフネスが良好なポジ型レジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist underlay film, the composition having excellent storage stability and giving a cured film as a resist underlay film that has high adhesiveness to a resist coating, an excellent etching selection ratio with respect to the resist coating film and to a substrate to be processed, low reflectance and the like, and thereby, exhibits excellent pattern forming property.例文帳に追加

保存安定性に優れるとともに、レジスト下層膜としての硬化膜がレジスト被膜との高い密着性、レジスト被膜及び被加工基板に対する優れたエッチング選択比並びに低反射性等を備えることで、優れたパターン形成性を発揮することができるレジスト下層膜形成用組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

"industrial design" means any composition of lines or colours or any three-dimensional form, or any material, whether or not associated with lines or colours, provided that such composition, form or material gives a special appearance to a product of industry or handicraft and can serve as a pattern for a product of industry or handicraft and appeals to and is judged by the eye;例文帳に追加

「意匠」とは，線若しくは色彩の何らかの組合せ，若しくは何らかの立体形状，又は線若しくは色彩と関連しているか否かを問わず何らかの材料であって，工業又は手工芸の製品に特別の外観を与え，工業又は手工芸の製品の模様として役立ち，かつ，眼に訴え，眼によって判断されるものをいう。 - 特許庁

To enhance fine dispersibility of a pigment of a pigment dispersion composition to enhance storage stability and coloring force, to enhance optical sensitivity, storage stability, coloring force, a support adhesiveness and developability of a coloring curable composition to suppress reduction of a development residue and a color concentration (removal of color), and to attain formation of pattern of sufficient cross section shape.例文帳に追加

顔料分散組成物の顔料の微細分散性を高め、保存安定性、着色力を向上し、着色硬化性組成物の光感度、保存安定性、着色力、支持体密着性、及び現像性を高め、現像残渣及び色濃度の低下（色抜け）を抑え、良好な断面形状のパターン形成を可能にする。 - 特許庁

To provide a black color hardening composition achieving satisfactory close adhesiveness onto a substrate, high sensitivity, and forming a fine pattern, to provide a light shielding color filter achieving high light shielding performance in an infrared region and its manufacturing method by use of the black color hardening composition, and to provide a solid imaging element preventing the occurrence of noise and improving quality of picture image.例文帳に追加

基板密着性が良好で、感度が高く、微細なパターンを成形できる黒色硬化性組成物を提供し、それを用いて赤外領域の遮光性が高い遮光性カラーフィルタおよびその製造方法を提供し、ノイズ発生が防止され、画質が向上した固体撮像素子を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition having high radiation sensitivity and a development margin that achieves formation of a preferable pattern feature even a developing time exceeds the optimum developing time in a developing process, and capable of forming a patterned thin film with excellent adhesiveness, and to provide an interlayer insulating film and a microlens formed from the composition.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物およびそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供することにある。 - 特許庁

The pattern forming method includes (1) applying a resist composition for negative development comprising a resin of which the polarity increases by the action of an acid to thereby reduce its solubility in a negative developer, (2) exposing the composition, and (3) performing development with a negative developer comprising an organic solvent having a metal impurity content of ≤100 ppb.例文帳に追加

（ア）酸の作用により極性が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有するネガ型現像用レジスト組成物を塗布する工程、（イ）露光工程及び（ウ）金属不純物の含有量が、１００ｐｐｂ以下の有機溶剤を含有するネガ型現像液を用いて現像を行う工程を含むパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a thermosetting composition rich in pigment with a small amount of a resin used, suitable for etching, excellent in spectroscopic characteristics, pattern form's rectangularity and adhesion to lower and upper layers, and capable of thin-film formation, to provide a color filter and an image recording material each using the composition, and to provide a method for producing the color filter.例文帳に追加

エッチングに好適であり、分光特性、パターン形状の矩形性、並びに、下層および上層との密着性に優れ、かつ、薄膜化が可能であり、更に、樹脂の総使用量が少なく高濃度な顔料含有熱硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタ、画像記録材料およびカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide an interlayer insulation film and microlenses formed from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびにそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること。 - 特許庁

To provide a photopolymerizable resin composition showing excellent resolution of a resist pattern after being developed, edge fusing property during storage and lamination follow-up property to the substrate, having an excellent tenting property of the cured film and aggregation property when the composition is dispersed in a developer, and useful as a DFR (dry film resist) for the manufacture of an alkali developing type printed wiring board.例文帳に追加

現像後のレジストパターンの解像性に優れるとともに、保存時のエッジフューズ性と基板へのラミネート追従性とを両立しており、しかも硬化膜のテンティング性や現像液分散時の凝集性にも優れ、アルカリ現像型プリント配線板作製用ＤＦＲとして有用な光重合性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition capable of making a pattern of a barrier rib for a PDP having high resolution and high precision by only a single exposure to light, and capable of also preparing a barrier rib for a PDP having a higher reflectance than a conventional barrier rib, a barrier rib of a plasma display panel prepared using the composition, and a plasma display panel comprising the barrier rib.例文帳に追加

１回の露光のみで高解像度及び高精密のＰＤＰ用隔壁パターンが製造できるだけでなく、既存の隔壁に比べて高い反射率を有するＰＤＰ用隔壁が製造できる感光性ペースト組成物、それを利用して製造されたプラズマディスプレイパネルの隔壁、及びそれを備えるプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁

The photosensitive polymer composition contains (a) a polyimide precursor or polyimide soluble with an alkali aqueous solution, (b) a compound which produces acid by light and (c) a compound having at least one tertiary alcohol having a hydroxyl group on the carbon atom directly bonded with an aromatic ring, and the composition is used for the method for manufacturing a pattern and for the electronic parts.例文帳に追加

（ａ）アルカリ水溶液可溶性のポリイミド前駆体又はポリイミド、（ｂ）光により酸を発生する化合物、並びに、（ｃ）芳香環に直接結合した炭素上に水酸基を有する三級アルコールを少なくとも１つ以上有する化合物を含有してなる感光性重合体組成物及びパターン製造法及び電子部品。 - 特許庁

There is provided with positive radiation-sensitive composition contains (a) a compound, having a carboxyl group protected with an acid releasing group and (b) an acid generating agent, which generates an acid when irradiated with radiation, and the acid releasable group has ≥3 aromatic rings, and a method for producing a resist pattern using the composition.例文帳に追加

ａ）カルボキシル基を酸脱離基で保護した化合物およびｂ）放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物であって、ａ）の酸脱離基が芳香環を３つ以上有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide an interlayer insulation film and microlenses formed from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物ならびに該組成物から形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること。 - 特許庁

The resin composition for forming a fine pattern contains a resin containing a hydroxyl group, a crosslinking component, and an alcohol-based solvent containing alcohol and water by 10 wt.% or less of the whole solvent, wherein the resin composition contains a compound having two or more epoxy groups in the molecule as the crosslinking component.例文帳に追加

水酸基を含有する樹脂と、架橋成分と、アルコール及び全溶媒に対して１０重量％以下の水を含むアルコール系溶媒と、を含有する微細パターン形成用樹脂組成物であって、前記架橋成分として、その分子内にエポキシ基を２個以上有する化合物を含有する微細パターン形成用樹脂組成物。 - 特許庁

To provide a photosensitive coloring composition having high definition capable of corresponding to high image quality improvement and power consumption reduction of a collar liquid crystal display device, particularly a photosensitive coloring composition with high definition even for a thick film in COA system and with excellent adhesion preventing pattern peeling, and a color filter using the same.例文帳に追加

カラー液晶表示装置の高画質化、低消費電力化に対応できる高解像性を有する感光性着色組成物、特に、ＣＯＡ方式のような厚膜でも高解像度で、パターン剥がれをおこさない密着性の優れた感光性着色組成物、およびこれを用いたカラーフィルタを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of suppressing occurrence of standing waves, having high sensitivity, having a large depth of focus (DOF) and having excellent in-plane uniformity (CDU) of a linewidth when a highly reflective substrate is directly used without using an antireflection film, and a resist film using the composition, and a pattern formation method.例文帳に追加

反射防止膜を用いず高反射基板をそのまま用いた場合において、定在波の発生が抑制され、感度が高く、焦点深度（ＤＯＦ）が広く、線幅の面内均一性（ＣＤＵ）にも優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition etc. for a color filter, with which no undissolved matter (residue) of the composition remains on an unexposed region, and no scum is produced on a pixel, even when a fine pixel array is to be formed, and with which a pixel array with excellent pattern shape and with excellent adhesion strength to a substrate is formed with a high yield.例文帳に追加

微細な画素アレイを形成する場合であっても、未露光部に組成物の未溶解物（残渣）が残存したり、画素上にスカムが発生することがなく、しかもパターン形状、基板との密着強度等にも優れた画素アレイを高い歩留りで形成することができるカラーフィルタ用感放射線性組成物等を提供する。 - 特許庁

To provide an unsaturated group-containing urethane resin for an active energy ray-curing which gives a coating film performance excellent in flexibility, softness, surface hardness, fouling resistance, weather resistance and the like, an active energy ray-curing composition using the resin and a method for forming a resist pattern using the composition.例文帳に追加

柔軟性、屈曲性等に優れ、かつ表面硬度、耐汚染性ならびに耐候性等にも優れた塗膜性能を得られる活性エネルギー線硬化用不飽和基含有ウレタン樹脂、該不飽和基含有ウレタン樹脂を用いた活性エネルギー線硬化組成物及び該活性エネルギー線硬化組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition which is suitably used in a super-microlithography process and other photofabrication processes such as manufacture of VLSIs and high capacity microchips and whose surface roughness in etching is reduced, and further a resist composition which has superior characteristics of sensitivity, resolving power, a profile, a pattern fall, a side lobe margin, roughness and fineness dependency, etc.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、エッチング時の表面荒れが低減されたレジスト組成物、また更には、感度、解像力、プロファイル、パターン倒れ、サイドローブマージン、疎密依存性などの諸特性にも優れたレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

In the processing method, a photosensitive resin composition comprising a polybenzoxazole precursor and a photosensitive diazoquinone compound is applied, prebaked, exposed and developed to form a pattern, curing is carried out at a temperature higher than the prebaking temperature and lower than the final curing temperature, and after etching, the photosensitive resin composition is finally cured.例文帳に追加

ポリベンゾオキサゾール前駆体と感光性ジアゾキノン化合物からなる感光性樹脂組成物を塗布、プリベーク、露光、現像し、パターンを作成した後、プリベーク温度より高い温度、ただし、最終硬化温度より低い温度にて硬化を行い、その後、エッチングし、感光性樹脂組成物を最終硬化する感光性樹脂組成物の加工方法である。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide a method for forming an interlayer insulation film and microlenses from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびに該組成物から層間絶縁膜およびマイクロレンズを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition having high radiation sensitivity and such a development margin as to form a good pattern shape even by development for over an optimum developing time in a developing step, the composition easily forming a patterned thin film excellent in adhesion and being suitable for forming an interlayer dielectric or microlenses.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる、層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成に好適な感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an ultraviolet ray-curing type inkjet composition which is excellent in storage stability and can suitably be used for forming patterns excellent in glossy sense and abrasion resistance; to provide a production method by which the ultraviolet ray-curing type inkjet composition can efficiently be produced; and to provide a recorded article formed using the ultraviolet ray-curing type inkjet composition and having a pattern excellent in glossy sense and abrasion resistance.例文帳に追加

保存安定性に優れ、光沢感、耐擦性に優れたパターンの形成に好適に用いることのできる紫外線硬化型インクジェット用組成物を提供すること、当該紫外線硬化型インクジェット用組成物を効率よく製造することができる製造方法を提供すること、また、前記紫外線硬化型インクジェット用組成物を用いて形成された光沢感、耐擦性に優れたパターンを有する記録物を提供すること。 - 特許庁

To provide a pigment dispersion composition for an organic black matrix of color filter that has excellent light resistance, color permeability, grain size distribution, coating properties and pattern uniformity and shows stabilized environmental affinity and storability.例文帳に追加

優秀な耐光性、色相透過度、粒度分布、コーティング性及びパターンの均一性を持ち、安定した環境親和性及び貯蔵性を有したカラーフィルターの有機ブラックマトリックス用顔料分散体組成物及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition which satisfies such characteristics as sensitivity, resolution, a rectangular pattern shape and good edge roughness all at once in microfabrication of a semiconductor device using active light or radiation, particularly an electron beam or X-ray.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工において、感度と解像性、矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity and excellent in resolution/adhesion and mandrel property (flexibility of resist after curing), a photosensitive element using the same, a method for producing a resist pattern, and a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加

高感度で且つ解像度・密着性及びマンドレル特性（硬化後のレジストの可とう性）が優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an epoxy resin composition capable of being utilized for an electronic circuit part and a substrate without generating the deterioration of molding property caused by a reduction of its flowing property, capable of transcribing a circuit pattern formed by a stamper in a good accuracy and capable of being extrusion molded.例文帳に追加

流動性低下による成形性悪化を起こすことなく、電子回路部品および基盤用途に利用可能で、スタンパーに形成した回路パターンを精度よく転写することが可能な射出成形可能なエポキシ樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive resin composition allowing good storage stability to be obtained and allowing a conductive pattern formed thereof to have good electrical conductivity, and an electronic circuit board which are capable of reducing costs.例文帳に追加

導電性樹脂組成物において、良好な保存安定性を得ることができるとともに、形成される導電パターンにおいて、良好な導電性を有し、低コスト化を図ることが可能な導電性樹脂組成物及び電子回路基板を提供する。 - 特許庁

At least a part of the black matrix layer and at least a part of the colored pattern layers are formed using the photosensitive resin composition.例文帳に追加

また、透明基板１上にブラックマトリックス層ＢＫ及び着色パターン層Ｒ、Ｇ、Ｂが形成された耐熱性カラーフィルタであって、ブラックマトリックス層及び着色パターン層は、その少なくとも一部が上記感光性着色組成物を用いて形成されること。 - 特許庁

To provide a technique capable of forming a resin layer which is excellent in fluidity upon heat bonding after pattern formation and also has excellent adhesion as well as bonding properties and/or sealing properties, in a photosensitive thermosetting resin composition used as a permanent membrane.例文帳に追加

永久膜として使用される感光性熱硬化性樹脂組成物において、パターン形成後、加熱接着時の流動性に優れ、密着性良好な、接着性及び／または封止性を有する樹脂層を形成できる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which suppresses the changes in sensitivity with time during storage and which can form a resist pattern having a preferable cross-sectional profile, excellent adhesion property with a substrate and being easily dissolved and stripped with a stripping liquid.例文帳に追加

保存中の経時による感度変化が抑制され、断面形状が良好である上、基板との密着性に優れ、かつ剥離液で容易に溶解除去し得るレジストパターンを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

On the console panel of this electronic music system, operation elements L1 to BL8 for timbre parameter setting which are arranged corresponding to the respective steps (BL1 to BL8, BL9 to BL16) are used in common so as to set parameters of a musical composition pattern composed of multiple steps.例文帳に追加

この電子音楽システムの操作パネルには、複数ステップから成る楽曲パターンのパラメータを設定するために、各ステップ（ＢＬ１〜ＢＬ８，ＢＬ９〜ＢＬ１６）に対応して配置された音色パラメータ設定用操作子Ｌ１〜ＢＬ８が兼用される。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which suppresses the changes in sensitivity with time during storage and which can form a resist pattern having a favorable cross-sectional profile and excellent adhesion property to a substrate and being easily dissolved and stripped with a stripping liquid.例文帳に追加

保存中の経時による感度変化が抑制され、断面形状が良好である上、基板との密着性に優れ、かつ剥離液で容易に溶解除去し得るレジストパターンを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which ensures improved edge roughness of a resist pattern, deposits no insoluble matter in the prepara tion of a resist solution or after storage, is excellent in dependency on density and can reduce a sensitivity change after storage.例文帳に追加

レジストパターンのエッジラフネスが改善され、レジスト液の調製時に、あるいは経時保存後に不溶解物の析出を生じず、疎密依存性に優れ、経時保存後の感度変動を軽減できるポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The photocurable composition is applied on the transparent electrode of a front glass substrate, exposed according to a specified pattern, developed and calcined to form the black layer (lower layer) electrode circuit of the electrode having a black and white double-layer structure of the PDP.例文帳に追加

このような光硬化性組成物を前面ガラス基板の透明電極上に塗布し、所定のパターン通りに露光し、現像、焼成することにより、ＰＤＰの白黒二層構造の電極における黒層（下層）電極回路が形成される。 - 特許庁

The present invention also encompasses a lithographic structure containing the underlayer prepared from the above composition, a method of making the lithographic structure, and a method of using the lithographic structure to pattern an underlying material layer on a substrate.例文帳に追加

本発明は、本発明の組成物から調製される基層を備えるリソグラフィ構造物、そのようなリソグラフィ構造物を製作する方法、およびそのようなリソグラフィ構造物を用いて基板上の下地材料層をパターン化する方法も含む。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for far ultraviolet rays, particularly KrF eximer laser light, having improved line edge roughness, excellent sensitivity, resolution and focal depth and capable of reducing foreign substance on a resist pattern and decreasing standing wave.例文帳に追加

遠紫外光、特にＫｒＦエキシマレーザー光に好適で、ラインエッジラフネスが改善され、感度、解像力、焦点深度が優れ、レジストパターン表面上の異物が減少し、更に定在波も低減したポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide: a conductive resin composition capable of reducing volume cost, forming a fine conductive pattern with favorable conductivity, and achieving lower cost; and an electronic circuit board.例文帳に追加

導電性樹脂組成物において、ボリュームコストを低減させることができるとともに、形成される微細な導電パターンにおいて、良好な導電性を有し、低コスト化を図ることが可能な導電性樹脂組成物、及び電子回路基板を提供する。 - 特許庁

To provide an acrylic polymer which is suitable for a radiation-sensitive resin composition which has high transparency to radiation and excels in the basic properties (e.g. sensitivity, resolution, dry etching resistance, and pattern shape) as a resist and particularly excels in contact hole formation.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、コンタクトホール形成に優れる感放射線性樹脂組成物に適したアクリル系重合体を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures good sensitivity, resolution and adhesion, a good resist shape and good strippability after curing, and a photosensitive element, a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board, using the same.例文帳に追加

感度、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性がいずれも良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a (meth)acrylic acid derivative as a material for the component resin of a resist composition, which is good not only in performance such as resolution, sensitivity and pattern form suitable for ArF excimer laser lithography but also in line edge roughness, and a method for producing the same.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィに適した、解像度、感度、パターン形状などの性能に加えて、ラインエッジラフネスが良好であるレジスト組成物の成分樹脂の原料となる（メタ）アクリル酸誘導体およびその製造方法を提供する - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having sufficiently high resolution, photosensitivity and adhesion and a sufficiently low plating bath contaminating property, and to provide a photosensitive element obtained by using the same, a resist pattern forming method and a method of manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

解像度、光感度及び密着性が十分に高く、めっき浴汚染性が十分に低い感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an ink composition for laying a fine pattern, which enables to form a fine ink film laminate required for various electronic parts by letterpress reverse printing without breaking (void generation) of an ink film, and which enables to reproduce a precise image.例文帳に追加

各種電子部品として所望される微細なインキ膜積層物を、凸版反転印刷法によりインキ膜の破断（白抜け）なく形成することができ、さらに正確な画像を再現することが可能な微細パターン積層用インキ組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive resin composition for electromagnetic wave shielding material for plasma display panel which can form a pattern of fine line width with high accuracy, and can reveal excellent electromagnetic wave shielding performance even if the particle size of conductive fine particles is small.例文帳に追加

微細な線幅のパターンを高精度で容易に形成することができ、かつ、導電性微粒子の粒径が小さくとも優れた電磁波シールド性を発現し得るプラズマディスプレイパネル用電磁波シールド材用導電性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁