「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(74ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive colored composition for a color filter which achieves high throughput and high yield because heat treatment after colored pattern formation is not carried out, and which ensures good chemical resistance in spite of no heat treatment, and to provide a method for producing a color filter using the composition.例文帳に追加

本発明の課題とするところは、着色パターン形成後の加熱処理を行わずに、高スループット・高収率で、耐薬品性の良好なカラーフィルタ用の感光性着色組成物およびこれを用いたカラーフィルタの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition having a wide defocus latitude when orbicular illumination is used and less liable to generate a side lobe in pattern formation using a halftone phase shifting mask and to provide a positive type photosensitive composition having the above characteristics and less liable to generate particles in storage with age.例文帳に追加

輪帯照明を用いた際にデフォーカスラチチュードが広く、ハーフトーン位相シフトマスクを用いてパターン形成した際にサイドローブが発生し難いポジ型感光性組成物、また、加えて経時保存時にパーティクルが発生し難いポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

A photopolymerizable colored composition layer formed of the pigment-dispersed radiation-sensitive resin composition into which the hydrophobic resin has been incorporated in a predetermined amount is selectively irradiated with light having a predetermined wavelength and is developed, whereby a colored pattern excellent in durability is formed.例文帳に追加

この疎水性樹脂を所定量含有させた顔料分散型感放射線樹脂組成物からなる光重合性着色組成物層に所定波長の光を選択的に照射し、現像することにより、耐久性に優れた着色パターンを作成する。 - 特許庁

To obtain a photocurable anisotropic electroconductive composition capable of maintaining electroconductivity in a connected part without lowering insulating properties between mutual adjacent wirings and suitable for connection between wirings or terminals with a narrow pitch, and to provide an anisotropic electroconductive pattern formed by using the composition.例文帳に追加

隣り合う配線間の絶縁性を低下させることなく、接続部での導電性を維持できる、狭ピッチの配線又は端子間の接続に適した光硬化型異方性導電組成物と、それを用いて形成した異方性導電パターンを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which exhibits excellent temporal stability while having adequate quenching function, and in particular, which can prevent occurrence of sensitivity abnormality due to temporal change in storage, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

クエンチング機能を十分に有しつつ、組成物の経時安定性が良好であり、とりわけ、保管中の経時変化による感度異常を防止することのできる感光性樹脂組成物及び当該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition adaptable to a normal dry process as well as an immersion process, having excellent sensitivity, and reducing LWR (line width roughness) and blob defects, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

通常のドライプロセスに加え、液浸プロセスにも適合した、感度に優れ、ＬＷＲ及びブロッブ欠陥が低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive coloring composition which has a higher content of pigments, or is highly sensitive, has a high film remaining rate even if the film is thick, and is excellent in linearity, pattern shape, resolution, developing resistance, and chemical resistance, and also to provide a color filter using the composition.例文帳に追加

顔料含有量が高い、あるいは膜厚が厚くとも、高感度で残膜率が高く、且つ直線性、パタ−ン形状、解像度、現像耐性、薬品耐性が優れた感光性着色組成物、およびそれを用いたカラーフィルタの提供すること。 - 特許庁

To provide a salt that functions as an oxygen generating agent yielding a resist composition of a chemical amplification type forming a pattern showing an excellent configuration, and a photoresist composition of a chemical amplification type that can be suitably used in immersion exposure in particular and allows few defects to occur, or the like.例文帳に追加

優れた形状を示すパターンを形成し得る化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩及び、特に、液浸露光に好適に用いられ、欠陥の発生が少ない化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁

The photosensitive resin composition, containing a pyrazolin compound indicated by (a) a thermoplastic copolymer containing an unsaturated carboxyl group, (b) an addition polymerization monomer, (c) an optical polymerization initiator and (d) formula (I), is prepared, and a resist pattern is formed by using the composition.例文帳に追加

（ａ）不飽和カルボキシル基を含有する熱可塑性共重合体、（ｂ）付加重合性モノマー、（ｃ）光重合開始剤、及び（ｄ）下記一般式（Ｉ）で示されるピラゾリン化合物を含有する感光性樹脂組成物を作成し、それを用いてレジストパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist underlayer film comprising an ionic liquid which can form a resist underlayer film having an antistatic function and solvent resistance, and to provide a method for forming a resist pattern using the resist underlayer film formed from the composition.例文帳に追加

イオン液体を含むレジスト下層膜形成組成物であって、帯電防止機能及び溶剤耐性を有するレジスト下層膜を形成することができる該組成物及び該組成物から形成されるレジスト下層膜を用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

In the present manufacturing method of the artificial marble, a resin composition for molding the artificial marble is obtained by compounding additives such as a filler, a pattern material and a curing agent in a thermosetting resin and the artificial marble is manufactured by molding and curing the resin composition.例文帳に追加

熱硬化性樹脂に充填剤、柄材、硬化剤などの添加物を配合した人造大理石成形用樹脂組成物を得て、この人造大理石成形用樹脂組成物を成形硬化させて人造大理石を製造する人造大理石の製造方法である。 - 特許庁

To provide a resist composition that forms a pattern by using a high energy beam or electron beam having a wavelength of 300 nm or less, and to provide a resin that is used for a topcoat composition in immersion lithography and has water repellency, especially a large receding contact angle.例文帳に追加

３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物、および液浸リソグラフィーにおけるトップコート組成物に使用する樹脂であって、撥水性、特に後退接触角の大きい樹脂を提供する。 - 特許庁

The hydrophilic/hydrophobic pattern is obtained by bringing a composition containing a hydrophobic compound having an optically active group into contact with a support having a surface where hydrophilic graft chains are present, adding imagewise energy to the composition, fixing the hydrophobic compound.例文帳に追加

親水性グラフト鎖が存在する表面を有する支持体上に、光活性基を有する疎水性化合物を含有する組成物を接触させ、画像様にエネルギーを付与して、該疎水性化合物を固定化して親／疎水性パターンを得ることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an excellent in resolution such as a critical dimension with no bridge defects, LWR and DOF, and having favorable sensitivity and PED stability; and to provide a resist film using the composition, and a pattern forming method.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ＬＷＲ及びＤＯＦに優れると共に、感度及びＰＥＤ安定性も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a highly sensitive and high-resolution positive type photosensitive resin composition which is excellent in hardening film property, and which is characterized by the fact that it causes little decrease in the film thickness or no loss of the pattern shape and that there is no scum of the photosensitive resin composition remaining in the exposure part.例文帳に追加

本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、膜減りが少なく、パターン形状の崩れがなく、更に露光部の感光性樹脂組成物の残り（スカム）がない特性を有する高感度で高解像度、かつ硬化膜物性に優れるものである。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which shows sufficient transmitting property when an exposure light source at ≤160 nm, specifically, F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used and which is improved in surface roughness, development defect, scum and resolving power, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源使用時に十分な透過性を示し、表面ラフネス、現像欠陥、スカム、解像力が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition excellent in photo speed, critical demension (CD) uniformity, dissolution rate in negative tone developer (NTD) and pattern fidelity; a coated substrate comprising a layer of the photoresist composition; and a method of forming photolithographic patterns.例文帳に追加

フォトスピード、限界寸法（ｃｒｉｔｉｃａｌ ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ；ＣＤ）均一性、ネガティブトーン現像剤（ＮＴＤ）中での溶解速度、及び、パターン忠実度に優れた、フォトレジスト組成物、フォトレジスト組成物の層を含むコーティングされた基体及びフォトリソグラフィパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

Alternatively, when further performing an electrolytic plating process for forming a conductive metal layer 6 on the surface of the conductive composition layer by electrolytic plating so that the conductor pattern layer includes the conductive composition layer and the conductive metal layer, the electrolytic plating processing is performed after the cutting process.例文帳に追加

或いは更に導電性組成物層の表面に電解めっきで導電性金属層６を形成し導電体パターン層が導電性組成物層と導電性金属層を含む層とする電解めっき工程を行うときは、裁断工程の後に行う。 - 特許庁

The positive type photosensitive resin composition is prepared by dissolving (A) a hydroxypolyamide as a PBO precursor, (B) a photosensitive quinonediazido compound and (C) a silicon-containing surfactant having a specified structure (hydrophilic silicone oil) in a solvent and a heat resistant pattern is formed using the composition.例文帳に追加

（Ａ）ＰＢＯ前駆体であるヒドロキシポリアミド、（Ｂ）感光性キノンジアジド化合物、及び（Ｃ）特定の構造を有するシリコン系界面活性剤（親水性シリコンオイル）を溶剤に溶解し、ポジ型感光性樹脂組成物を調製し、それを用いて耐熱性パターンを作製する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in photosensitivity, resolution, adhesion, mechanical strength and flexibility, and useful to increase the density and resolution of a printed circuit, a photosensitive element using the composition, a method for producing a resist pattern and a method for producing a printed circuit board.例文帳に追加

光感度、解像度、密着性、機械強度及び柔軟性が優れ、プリント配線の高密度化及び高解像化に有用である感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has high sensitivity for direct drawing exposure and which has favorable resolution, adhesion and peeling property, and to provide a photosensitive element, a resist pattern forming method, and a method for manufacturing a printed wiring board which uses the photosensitive resin composition.例文帳に追加

直接描画露光においても高感度であり、解像度、密着性及び剥離特性がいずれも良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity to exposure, a photosensitive resin composition capable of forming a pattern uniform in thickness and a color filter for a display with desired patterns such as colored layers, a black matrix, a protective layer and a gap holding material with a high degree of accuracy.例文帳に追加

露光感度の高い感光性樹脂組成物、さらに、均一な厚みのパターン形成が可能な感光性樹脂組成物と、着色層、ブラックマトリックス、保護層、ギャップ保持材等の所望のパターンを高い精度で備えるディスプレー用カラーフィルタとを提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the artificial marble comprises the steps of forming the resin layer 1 with the pattern for representing a marble design on an inner surface in a casing mold 3, then casting the casting resin composition 8 in the mold 3, molding and curing the composition to manufacture the artificial marble 4.例文帳に追加

注型用金型３内の内面に大理石柄を表現する模様付き樹脂層１を形成した後、注型用金型３内に注型用樹脂組成物８を注入し、成形硬化させて人造大理石４を製造する方法に関する。 - 特許庁

After a resin composition 3 for ink fixing is impregnated into paper 2 and the paper 2 is attached to the surface of a substrate 1, the impregnated resin composition 3 is dried for adhering the paper 2 to the surface of the substrate 1 and a pattern is drawn on the paper 2 with ink 5.例文帳に追加

紙２にインク定着用樹脂組成物３を含浸させて基材１の表面に紙２を貼付した後、含浸させたインク定着用樹脂組成物３を乾燥させて紙２を基材１の表面に固着し、この紙２にインク５で絵柄を描く。 - 特許庁

To provide a curable composition for color filters having good pattern forming property and excellent adhesion to a hard surface as a substrate even when the composition contains a colorant at high concentration.例文帳に追加

着色剤を高濃度に含有する場合であっても、良好なパターン形成性を有し、基材である硬質表面との密着性に優れたカラーフィルタ用硬化性組成物、解像力の着色パターンを形成してなるカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of forming a dense pattern independently of standing waves and capable of further forming a resist pattern having a high aspect ratio by using an underlayer film excellent in dry etching resistance and usable as a thin film in combination with a specified polysiloxane-base radiation-sensitive resin composition having high transparency at ≤193 nm wavelength, and to provide a bilayer film for pattern formation.例文帳に追加

ドライエッチング耐性に優れ薄膜として使用可能な下層膜と、１９３ｎｍ以下の波長において透明性の高い特定のポリシロキサン系感放射線性樹脂組成物とを組み合わせて用いることにより、定在波による影響を受けることがなく、緻密なパターンを形成することができ、さらに高いアスペクト比を有するレジストパターンを形成することができるパターン形成方法およびパターン形成用多層膜を提供する。 - 特許庁

In this electromagnetic shielding filter 10, a plate having a rough surface fcp on the inside of the recessed groove 32 of a printing surface is used as an intaglio 31 for printing and forming a conductive composition layer 3 by a conductive composition containing conductive particles and a resin binder, and a rough face fc is formed on the surface of the conductor pattern layer simultaneously with printing as the conductor pattern layer 2 on a transparent substrate 1.例文帳に追加

電磁波遮蔽フィルタ１０は、透明基材１上の導電体パターン層２として、導電性粒子と樹脂バインダを含む導電性組成物で導電性組成物層３を印刷形成する為の凹版３１に、版面の凹状溝３２の内面を粗面ｆｃｐとした版を用い、印刷と同時に導電体パターン層の表面に粗面ｆｃを賦形する。 - 特許庁

To provide a hard mask composition for forming an inorganic hard mask film having an excellent etching selectivity to an organic hard mask film over the organic hard mask film used in etching of a fine pattern of a semiconductor device, and a method for manufacturing semiconductor devices in which an underlying layer pattern of a semiconductor device is formed using a hard mask formed using the hard mask composition.例文帳に追加

半導体素子の微細パターンの食刻に用いられる有機系ハードマスク膜の上部に、有機系ハードマスク膜に対する食刻選択比に優れた無機系ハードマスク膜の形成のためのハードマスク用組成物、及びこれを利用して形成されるハードマスクを用いて半導体素子の被食刻層パターンを形成する半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The decorative sheet has a laminated structure comprising a transparent sheet laminated on a substrate sheet through a pattern layer, an adhesive layer and a protecting layer laminated on the transparent sheet wherein the pattern layer, the adhesive layer and the protecting layer are formed by (1) a composition not containing an organic solvent or (2) a composition containing an organic solvent having a carbon number of ≤5.例文帳に追加

基材シート上に模様層および接着剤層を介して透明シートが積層され、前記透明シート上に保護層が積層された積層構造を有しており、 前記模様層、前記接着剤層および前記保護層は、１）有機溶剤を含まない組成物又は２）炭素数が５以下の有機溶剤を含む組成物により形成されていることを特徴とする化粧シート。 - 特許庁

The solvent composition for pattern printing of a plasma display is a solvent composition which is used when forming an element pattern constituting the plasma display by a printing method, and includes a compound in which one of the two terminal alkyl groups of dipropylene glycol dialkyl ether is a methyl group, and the other is a 3C or 5C straight-chain or branched-chain alkyl group.例文帳に追加

本発明のプラズマディスプレイパターン印刷用溶剤組成物は、プラズマディスプレイを構成する素子パターンを印刷法により形成する際に使用する溶剤組成物であって、ジプロピレングリコールジアルキルエーテルの２つの末端アルキル基の一方がメチル基であり、もう一方が炭素数３又は炭素数５の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基である化合物を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which solves problems in a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, and to specifically provide a positive resist composition excellent in various properties such as PEB temperature dependency and exposure margin without deteriorating sensitivity, pattern profile, etc., and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケーション本来の性能向上のための技術における課題を解決したポジ型レジスト組成物、より具体的には、感度・パターンプロファイル等を劣化させることなく、ＰＥＢ温度依存性・露光マージンなどの諸性能に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In a decorative material 1 wherein a color layer 3 and a pattern layer 4 are provided on a base material 2 and a surface protective layer 7 is formed from an ionizing radiation curable resin composition, a uniform coating film layer 5 wherein a curable resin is crosslinked and cured and a pattern 6 high in the permeability of the ionizing radiation curable resin composition are interposed under the surface protective layer 7.例文帳に追加

基材２上に着色層３、模様層４を有し、表面保護層７が電離放射線硬化性樹脂組成物で形成してある化粧材１に、表面保護層７の下に、硬化性樹脂が架橋硬化した一様均一な塗膜層５と、電離放射線硬化性樹脂組成物の浸透性がより高い模様６とを介在させることにより、課題を解決することができた。 - 特許庁

A photosensitive resin composition, containing a carboxylic resin, a polymerizable monomer, a polymerization initiator, a functional material and glass frit, wherein a glass material based on vanadium pentoxide (V_2O_5) having low reactivity with a carboxyl group is used as the glass frit, is used as the photosensitive resin composition for forming a functional pattern, to form a functional pattern, such as a black matrix.例文帳に追加

カルボキシル基含有樹脂、重合性モノマー、重合開始剤、機能性材料、およびガラスフリットとを含有してなり、前記ガラスフリットとしてカルボキシル基との反応性の低い五酸化バナジウム（Ｖ_2Ｏ_5）を主成分とするガラス材料を用いた感光性樹脂組成物を、ブラックマトリックスなどの機能性パターンを形成するための機能性パターン形成用感光性樹脂組成物として用いる。 - 特許庁

The pattern forming composition is a photosensitive negative pattern forming composition comprising a metal fine particle dispersion containing metal fine particles and a dispersant keeping these in a dispersed state, wherein the dispersant is a photosensitive dispersant which itself is photosensitized and becomes detached from the metal fine particles to release the particles from the dispersed state.例文帳に追加

金属微粒子及びそれを分散状態に保つ分散剤を含む金属微粒子分散液からなる光感受性ネガ型パターン形成用組成物であって、前記分散剤が、それ自身が感光して金属微粒子から遊離し、分散状態の解除を引き起こすことができる光感受性分散剤であることを特徴とする、上記光感受性ネガ型パターン形成用組成物。 - 特許庁

After a metallic film or a semiconductor film on a semiconductor substrate is dry-etched to form a wiring layer having a prescribed pattern or after an insulating layer is formed on a semiconductor substrate with a formed wiring layer and dry-etched in a prescribed pattern, chemical treatment is carried out with a resist removing composition prepared by adding a sugar alcohol to a composition comprising a fluorine compound, an organic solvent and water.例文帳に追加

半導体基板上の金属膜又は半導体膜をドライエッチングし、所定のパターンを有する配線層を形成した後、あるいは、配線層が形成された半導体基板上に絶縁層を形成し、これを所定のパターンにドライエッチングした後、フッ素化合物、有機溶媒及び水を含有し、糖アルコールを添加したレジスト剥離用組成物により薬液処理する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition superior in sensitivity with respect to an exposure light source having the wavelength of 405±10 nm and resolution, having satisfactory tenting properties, and capable of being developed by an alkali aqueous solution, a photosensitive resin laminated body using the photosensitive resin composition, a method for forming a resist pattern on the substrate using the photosensitive resin stacked body, and the use of the resist pattern.例文帳に追加

４０５±１０ｎｍの波長の露光光源に対する感度、解像度に優れ、テンティング性の良好な、アルカリ性水溶液によって現像しうる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂積層体、該感光性樹脂積層体を用いて基板上にレジストパターンを形成する方法、及び該レジストパターンの用途を提供する。 - 特許庁

A composition for nano-imprinting comprising (a) a multi-functional epoxy resin, (b) a cationic polymerization initiator and (c) a solvent can be used for forming a resin pattern having high hardness, and a substrate having a resin pattern which is simply formed thereon provides a mold suitable for nano-imprinting.例文帳に追加

（ａ）多官能エポキシ樹脂、（ｂ）カチオン重合開始剤、及び（ｃ）溶剤を含有することを特徴とするナノインプリント用モールド形成組成物によれば、高い硬度を有する樹脂パターンを形成することができ、基板上に樹脂パターンを形成するのみでナノインプリント用モールドとして使用できる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency for radiation, excellent basic performances as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching durability, pattern profile, and suitable as a chemical amplification type resist having high resolution property in a fine pattern region.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本性能に優れるとともに、微細パターン領域での高い現像性を有する化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for obtaining a resin pattern which has good strippability while having satisfactory chemical resistance, and which exhibits good adhesiveness to a metal film on a base material, and to provide a method for manufacturing an etched substrate using such a resin pattern.例文帳に追加

十分な薬品耐性を有しながら良好な剥離性をもち、かつ基材上の金属膜との間で良好な接着性を示すような樹脂パターンを得るための感光性樹脂組成物を提供すること、及びそのような樹脂パターンを使用した被エッチング基体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition suitable for use as a chemical amplification type negative type resist developable with an alkali developing solution having the conventional concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern in an ordinary line-and- space pattern (1L1S) and excellent also in focus latitude.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、通常のライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）において、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、かつフォーカス余裕度にも優れた化学増幅型ネガ型レジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures excellent sensitivity even when applied to an LDI system, and enables to form a resist pattern having good resist shape free of undercut, overhang, etc., and a photosensitive film, a resist pattern forming method and a permanent resist using the same.例文帳に追加

ＬＤＩ方式に適用した場合でも優れた感度が得られ、且つ、アンダーカットやオーバーハング等のない良好なレジスト形状を有するレジストパターンが形成可能な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及び永久レジストを提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which provides a resist pattern achieving sufficiently high resolution, adhesion and tent reliability at the same time when used for forming a resist pattern on a substrate, and which suppresses generation of scum in development.例文帳に追加

基板上にレジストパターンを形成するために用いられたときに、解像度、密着性及びテント信頼性を同時に十分に高いレベルで達成するレジストパターンが得られ、更に、現像の際のスカムの発生も十分に抑制される感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition adaptable to a short-wavelength radiation typified by far UV capable of meeting progress of scale down in an integrated circuit device, having high transparency to radiations and excellent in basic properties as a resist, such as sensitivity, resolution, pattern profile and line edge roughness of a pattern.例文帳に追加

集積回路素子における微細化の進行に対応しうる遠紫外線に代表される短波長の放射線に適応可能で、放射線に対する透明性が高く、かつ感度、解像度、パターンプロファイル、パターンのラインエッジラフネス等のレジストとしての基本物性に優れる。 - 特許庁

To provide a resin composition for pattern reverse, which can be suitably embedded in resist patterns without mixing with the resist patterns formed on a substrate, shows excellent adhesion property with the patterns, and is excellent durability against oxygen ashing and storage stability; and to provide a method for forming a reversed pattern.例文帳に追加

基板に形成されたレジストパターンとミキシングすることがなく、このパターン間に良好に埋め込むことができ、且つパターンとの密着性に優れると共に、酸素アッシング耐性及び保存安定性に優れるパターン反転用樹脂組成物及び反転パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type radiation sensitive resin composition, forming a favorable resist pattern when resist formed on a substrate by coating is exposed, heated and developed, and also restraining the occurrence of cracks when the substrate where the resist pattern is formed is plated.例文帳に追加

基板上に塗布して形成されるレジストを露光、加熱処理、現像すると良好なレジストパターンを形成でき、かつ、該レジストパターンが形成された基板にめっき処理を行うときクラックの発生を抑制することができるポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁