「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(75ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a negative photosensitive resin composition which enables to form a pattern by irradiation with active energy rays, can form a protective film against etching, an interlayer dielectric and a surface protective film, and is excellent in sensitivity, resolution, pattern shape and alkali developability.例文帳に追加

活性エネルギー線の照射によりパターン形成が可能で、エッチングに対する保護膜、層間絶縁膜、表面保護膜を形成しうるネガ型感光性樹脂組成物であって、感度、解像性、パターン形状及びアルカリ現像性に優れるネガ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

There is provided a spider web pattern coating method wherein a spider web pattern is formed on a substrate by coating the substrate with a coating composition having a viscosity of 0.5 Pa sec or higher at a shear rate of 10,000 sec^-1 and a solids content of 40-95 mass% by means of a spider web spray gun.例文帳に追加

乱糸ガンを用いて粘度がせん断速度１０，０００ｓｅｃ^−１において０．５Ｐａ・ｓｅｃ以上かつ固形分濃度が４０〜９５質量％である塗料組成物を塗装することにより被塗物上に乱糸模様を形成する乱糸模様塗装方法。 - 特許庁

To provide a resist composition used for an imprint lithography process, by which fault in a resist pattern can be prevented to improve the durability of a mold for molding a UV curable resin, and to provide a method for forming resist pattern using the same and method for forming an array substrate using the same and an array substrate manufactured using the same.例文帳に追加

インプリントリソグラフィ工程でレジストパターンの不良を防止して、モールドの寿命を向上させることができるレジスト組成物、これを利用したレジストパターン形成方法、これを利用したアレイ基板の製造方法、及び、これを利用して製造されたアレイ基板を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, exposure dependence, resolution, roughness characteristics, and focus latitude, which reduces scum, and which forms a pattern with an adequate shape, and to provide a resist film and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

感度、露光量依存性、解像力、ラフネス特性、及びフォーカス余裕度に優れ、スカムを低減し、かつ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a colored photosensitive composition which is used to form a green colored pattern in a color filter, has excellent curability and a large development latitude in the formation, reduces pattern defects in development, and can suppress crystal deposition of a photopolymerization initiator.例文帳に追加

カラーフィルタにおける緑色着色パターンの形成に用いられ、その形成の際に、硬化性に優れ、現像ラチチュードが大きく、更には、現像時のパターン欠けが抑制され、且つ、光重合開始剤の結晶析出を抑制しうる着色感光性組成物を得ること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having no development residue, while keeping a high residual film ratio, capable of forming a pattern film having excellent low dielectric characteristics without spoiling film properties such as a light transmittance or solvent resistance even after high-temperature baking, in a developing process for forming the pattern film.例文帳に追加

パターン膜を形成する現像工程において、高い残膜率を維持したまま、現像残渣がなく、高温ベーキング後においても光透過率、耐溶剤性等の塗膜物性を損なうことなく、低誘電特性に優れたパターン膜を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high radiation sensitivity, having a developing margin of forming a satisfactory pattern shape even when exceeding the optimum developing time in a developing process, and can form easily a pattern-like thin film excellent in tightness.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The decorative sheet is constituted by forming a pattern layer on a base material sheet and characterized in that (a) the pattern layer is formed from an aqueous composition comprising a quinacridone red pigment and (b) the average primary particle size of the quinacridone red pigment is 250 nm or below.例文帳に追加

基材シート上に絵柄模様層が形成されている化粧シートであって、（ａ）前記絵柄模様層が、キナクリドン系赤色顔料を含む水性組成物により形成され、（ｂ）前記キナクリドン系赤色顔料の平均一次粒径が２５０ｎｍ以下であることを特徴とする化粧シート。 - 特許庁

To provide a pattern forming method using a radiation sensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, etc., and in suitability to coating particularly on a substrate of an increased diameter by a spin coating method and excellent also in shelf stability, capable of stable microfabrication and capable of giving a good pattern shape.例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物が感度、解像度等に優れ、特に大口径化された基板へのスピンコート法による塗布性に優れ、かつ保存安定性に優れており、微細加工を安定的に行うことができ、良好なパターン形状を与えることができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide: a composition for forming an acid transfer resin film, from which an acid transfer resin film excellent in selectivity of diffusion of acid and removability is obtained; an acid transfer resin film obtained using the same; and a pattern forming method by which a pattern is formed through the existing photolithography process using the acid transfer resin film.例文帳に追加

酸の拡散の選択性及び除去性に優れた酸転写樹脂膜が得られる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いてなる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition permitting easy change in its refractive index of a material resulting in a sufficiently large difference in refractive indices thereby to give a stable refractive index pattern and an optical material which are not affected by service conditions thereafter, and a method for forming the refractive index pattern and the optical material.例文帳に追加

材料の屈折率変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した屈折率差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によらずに安定な屈折率パターンおよび光学材料を与える組成物ならびにそれを形成するための方法を提供すること。 - 特許庁

In the permanent pattern forming method, a photosensitive composition is applied to the surface of a substrate so as to be a dry film thickness 1.2-3.0 times the hardened film thickness of a permanent pattern formed eventually on the substrate, which is dried to form a photosensitive layer, and is then exposed and developed.例文帳に追加

基材上に最終的に形成される永久パターンにおける硬化膜厚の１．２〜３．０倍の乾燥膜厚となるように前記基材の表面に感光性組成物を塗布し、乾燥して感光層を形成した後、露光し、現像する永久パターン形成方法である。 - 特許庁

By irradiating the composition with radiation through a pattern mask, the above component (C) and the component (A) in the irradiated part are decomposed to produce a difference in the refractive index between the irradiated part and the non- irradiated part to form a pattern having different refractive indices.例文帳に追加

この組成物にパターンマスクを介して放射線を照射することにより、放射線照射部の上記（Ｃ）成分および（Ａ）成分が分解し、放射線照射部と放射線未照射部との間に屈折率の差を生じ、屈折率が異なるパターンが形成される。 - 特許庁

To obtain a nap-raised warp knit fabric having a raised needle loop surface to enable clear drawing of a relief pattern or a printed pattern, having excellent abrasion resistance, usable as an upholstery fabric resistant to pilling, and usable also as a basic fabric of an artificial leather by applying a resin composition or an adhesive to the pile surface.例文帳に追加

ニードルループ面が起毛されていて凹凸模様や捺染模様を鮮明に描出することが出来、耐摩耗性に優れ、椅子張地等に使用してピリングの発生がなく、パイル面に樹脂組成物や接着剤を塗布して人工皮革の原布としても使用し得る起毛経編布帛を得る。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polyamideimide resin composition which excels in sensitivity, resolution, adhesion in development, and heat resistance, can be exposed with an i-line and developed with an alkaline aqueous solution, and yields a pattern of a good profile, a method for producing a pattern and an electronic component.例文帳に追加

感度、解像度、現像時の密着性、及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるると共に、ｉ線で露光が可能で、アルカリ水溶液で現像が可能なポジ型感光性ポリアミドイミド樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polyamideimide resin composition which excels in sensitivity, resolution, adhesion in development, and heat resistance, can be exposed with an i-line and developed with an alkaline aqueous solution, and yields a pattern of a good profile, a method for producing a pattern and an electronic component.例文帳に追加

感度、解像度、現像時の密着性、及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られると共に、ｉ線で露光が可能で、アルカリ水溶液で現像が可能なポジ型感光性ポリアミドイミド樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high sensitivity, high resolution and a high radiation transmittance, excellent in smoothness of a pattern surface in micropattern and capable of preventing partial insolubilization in overexposure without impairing basic solid state properties as a resist such as pattern shape, dry etching resistance and heat resistance.例文帳に追加

パターン形状、ドライエッチング耐性、耐熱性等のレジストとしての基本物性を損なわずに、高感度、高解像度で、放射線透過率が高く、微細寸法でのパターン表面の平滑性に優れ、かつ過露光時の部分不溶化を解消しうる感放射性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali developing type color photosensitive resin composition and its hardened product which gives sufficient surface hardening property and hardening depth when exposed and can form a colored pattern with excellent resolution even when a thick film colored pattern is formed by photolithography.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法により厚膜の着色パターンを形成する場合でも、露光の際に充分な表面硬化性と硬化深度が得られ、解像性に優れた着色パターンを形成できるアルカリ現像型の着色感光性樹脂組成物及びその硬化物を提供する。 - 特許庁

To provide a novel radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent basic physical properties for a resist pattern such as in sensitivity, resolution, and pattern shapes, without causing development defects during fine machining, to manufacture semiconductor elements at a high yield.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an information carrying sheet on which an information pattern can be accurately detected in a near-infrared wavelength region and which is useful to ascertain whether securities are true, and an ink composition having absorption in a near-infrared wavelength region and useful to form the information pattern.例文帳に追加

近赤外波長域に吸収をもつインキ組成物に関し、近赤外波長域で情報パターンを精度よく検出でき、証券類などの真偽を判別するのに有用な情報担持シート及び前記情報パターンを形成するのに有用なインキ組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition and its use capable of forming a pattern comprising a polyimide coat of ≥20 μm thickness with high resolution upon development after exposure through a photomask, particularly to provide a method for forming a pattern comprising such a polyimide coat.例文帳に追加

フォトマスクを介して露光させた後、現像することによって、高解像度にて厚み２０μｍ以上のポリイミド被膜からなるパターンを形成することができる感光性樹脂組成物とその利用、特に、そのようなポリイミド被膜からなるパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

In the pattern forming method, a resist composition containing a polymer or compound containing at least a perfluoroalkylacetal as an acid decomposable group and an acid generator is applied on a substrate, exposed in a desired pattern and developed using supercritical carbon dioxide under ≤200 atm.例文帳に追加

酸分解性基としてパーフルオロアルキルアセタールを少なくとも含む重合体または化合物と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物を基板上に塗布し、所望のパタン露光処理を施して、２００気圧以下の超臨界二酸化炭素を用いて現像を行なうパタン形成方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition or the like which has a nearly uniform sensitivity distribution to exposure light having a wavelength of 400-410 nm, is not affected by variation in exposure wavelength during laser exposure, excels in pattern reproducibility, suppresses variation in pattern profile, and can be handled in a daylight environment.例文帳に追加

４００〜４１０ｎｍの波長の露光光に対する感度分布が略一定で、レーザ露光時の露光波長のばらつきによる影響を受けず、パターン再現性に優れ、パターン形状のバラツキが極めて抑制され、明室環境下の取り扱いが可能な感光性組成物などの提供。 - 特許庁

To provide a colorant-containing curable composition having high sensitivity, wide development latitude, in particular excellent lightfastness and heat resistance as well as superior pattern forming property (developability) and excellent solvent resistance without elution of dye after cured, and capable of forming a pattern image of high resolution.例文帳に追加

高感度かつ広い現像ラチチュードを有すると共に、特に耐光性および耐熱性並びにパターン形成性（現像性）に優れ、かつ硬化後の染料の溶出がなく、耐溶剤性に優れ、解像度の高いパターン像を形成し得る着色剤含有硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive-type resist composition which is usable for forming patterns by using a high-energy ray having a wave length of 300 nm or shorter or an electron beam and can solve a problem of the occurrence of pattern exfoliation or pattern falling-down due to the penetration of a developing solution into an interface between the resist film and a substrate.例文帳に追加

３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成する際に使用できるレジスト組成物であって、レジスト膜と基板との界面に現像液が入り込み、パターンはがれやパターン倒れが生じるという問題を解決する。 - 特許庁

The method comprises (202) forming a pattern of clustered selective growth regions on a wafer for manufacturing an LSI, (203) analyzing optical constant data of the entire pattern, to obtain the thickness and the composition of a selectively grown layer and (206) feeding back the result to the next batch and thereafter, thereby controlling the process.例文帳に追加

ＬＳＩを製造するウエハ上に選択成長領域が密集したパターンを形成し（２０２）、そのパターン全体の光学定数データを解析することで選択成長層の膜厚や組成を求め（２０３）、その結果を次バッチ以降にフィードバックする（２０６）ことで、プロセス管理を行う。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and dry etching resistance, in lithography especially using an electron beam, an X-ray or an EUV ray, and to provide a resist-film and pattern formation method utilizing the same.例文帳に追加

特に電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive photoresist composition for a thick film from which a favorable resist pattern having high resolution can be obtained even on a support having a part made of copper on its surface, and to provide a method for manufacturing a thick film resist pattern.例文帳に追加

上面に銅によって形成された部分を有する支持体上においても高解像性を有し、良好なレジストパターンを得ることが可能な厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法を提供することを提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative development excellent in line width variation (LWR), exposure latitude (EL) and focal depth allowance (DOF) in order to stably form a high accuracy fine pattern for the manufacture of a highly integrated and high accuracy electronic device, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming a resist pattern which satisfies various properties required by FPC and excels particularly in flame retardancy, flexibility and hot press resistance, and capable of making sensitivity and resolution sufficiently high when the resist pattern is formed.例文帳に追加

ＦＰＣに要求されている各種特性を十分に満足するものであり、特に難燃性、可撓性及び耐熱プレス性が十分に優れたレジストパターンを形成でき、しかもそのレジストパターンを形成する際の感度及び解像度を十分に高くできる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative-tone development, of which variation of line width (LWR), exposure latitude (EL), and degree of focal margin (DOF) are excellent, in order to more stably form a highly precise fine pattern for manufacturing a highly integrated and highly precise electronic device, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyimide precursor composition, which shows high sensitivity and high resolution and a part of which is developable excellently with an alkali solution, a pattern forming method capable of forming a pattern showing excellent heat resistance and chemical resistant, and a highly reliable electronic component.例文帳に追加

高感度及び高解像度を示す感光性ポリイミド前駆体樹脂組成物、またその一部はアルカリ水溶液で良好な現像が実現でき、優れた耐熱性、耐薬品性を示すパターンが製造可能なパターンの製造法及び信頼性に優れた電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming technique capable of efficiently forming a high resolution pattern for use in microfabrication using a radiation sensitive composition as a photoresist which can be developed with an aqueous alkali solution, has high sensitivity characteristics and is reversed from negative type to positive type in accordance with dose.例文帳に追加

アルカリ水溶液によって現像可能であり、高感度な特性を有し、照射量によってネガ型からポジ型に反転する感放射線組成物をホトレジストに用いて、微細加工に用いる高解像度なパターンを効率よく形成することのできるパターン形成技術を提供する。 - 特許庁

The method is applied to various methods, for example, a substrate is coated with the composition, exposed to light to form a metal fine particle, which is developed to form a pattern containing the metal fine particle and an electroless plating pattern is formed by an electroless plating treatment.例文帳に追加

このような方法は種々の方法に応用でき、例えば、基板に、前記組成物を塗布し、露光して金属微粒子を生成させたのち現像して金属微粒子を含むパターンを形成し、無電解めっき処理することにより無電解めっきパターンを形成することもできる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for forming a colored layer capable of forming pixels of high quality, preventing a pixel pattern from being chipped or separated when developed, even at a low exposure light energy, and free from rinsing irregularities (spot-like color irregularities generated on the pixel pattern, after being developed and rinsed).例文帳に追加

低露光量であっても現像時に画素パターンの欠けや剥がれを生じることなく、さらに水ムラ（現像・水洗後に画素パターン上に発生するシミ状の色ムラ）のない高品質な画素を形成することができる着色層形成用感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition and a resist pattern forming method capable of suppressing the occurrence of development defects at an unexposed part while securing hydrophobicity during liquid immersion exposure and hydrophilicity during developing on a resist-coated surface and maintaining excellence in the resulting pattern shape.例文帳に追加

レジスト被膜表面における液浸露光時の疎水性と現像時の親水性とを確保し、かつ得られるパターン形状の良好性を保持しつつ、未露光部における現像欠陥の発生を抑制できる感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a resist composition which prevents occurrence of defects in a resist pattern in an imprint lithography process and can improve the durability of a mold, a method for forming a resist pattern using the same, a method of fabricating an array substrate using the same, and an array substrate fabricated using the same.例文帳に追加

インプリントリソグラフィ工程でレジストパターンの不良を防止して、モールドの寿命を向上させることができるレジスト組成物、これを利用したレジストパターン形成方法、これを利用したアレイ基板の製造方法、及び、これを利用して製造されたアレイ基板を提供する。 - 特許庁

Two or more kinds of pattern thermistors which are different in composition and resistance-temperature characteristic are combined and a temperature region formed with an envelope coming into contact with all resistance-temperature characteristic curves of the respective pattern thermistors is simulated.例文帳に追加

組成並びに抵抗—温度特性が異なる２種類以上のパターンサーミスタを並列に組合せ、各々のパターンサーミスタの抵抗—温度特性と、各々のパターンサーミスタの抵抗—温度特性曲線のすべての曲線と接する包絡線によって形成される温度領域をシュミレートする。 - 特許庁

To provide a copolymer which is suppressed in pattern defects such as water mark and in abnormality of sensitivity or pattern shape due to elution of additives such as a radiation-sensitive acid generator and which gives surface characteristics preferable to immersion lithography, and a composition containing the copolymer.例文帳に追加

ウオーターマーク等のパターン欠陥や、感放射線性酸発生剤等の添加物の溶出による感度やパターン形状の異常等を抑えることができる、液浸リソグラフィーに好適な表面特性を与える共重合体と、該共重合体を含む組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition developable with an alkali developing solution having a normal concentration, capable of forming a resist pattern having high resolution and a rectangular cross-sectional shape as an ordinary line-and-space pattern and excellent also in sensitivity, developability, dimensional faithfulness, etc.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液を適用でき、かつ通常のライン・アンド・スペースパターンにおいて、高解像度で断面形状が矩形であるレジストパターンを形成することができ、感度、現像性、寸法忠実度等にも優れるネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high sensitivity, high resolution and high radiation transmittance, excellent in smoothness of a pattern surface in micro dimensions and capable of avoiding partial insolubilization in over-exposure without impairing basic solid state properties as a resist such as pattern shape, dry etching resistance and heat resistance.例文帳に追加

パターン形状、ドライエッチング耐性、耐熱性等のレジストとしての基本物性を損なわずに、高感度、高解像度で、放射線透過率が高く、微細寸法でのパターン表面の平滑性に優れ、かつ過露光時の部分不溶化を解消しうる感放射性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition capable of enhancing coating uniformity by reducing blots in coating; extremely improving a pattern shape by containing a cosolvent with a specific structure so that reverse taper in vacuum drying is prevented; and also preventing a problem of pattern width nonuniformity from being posed.例文帳に追加

塗布時の染みを減らし、塗布均一性を向上させ、真空乾燥時に逆テーパ状とならないように特定構造の共溶媒を含んで、パターン形状を著しく改善するだけでなく、パターン幅の不均一問題を発生しないフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having high sensitivity and high resolving power in the production of a semiconductor device, having a rectangular shape, ensuring low edge roughness of a line pattern and causing a small size shift, in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高感度であって高解像力を有し、しかも矩形形状を有し、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、更に酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

Further, this is the multi-layered printed circuit board equipped with an insulating layer composed of the insulating resin solution composition formed on a substrate having a wiring pattern, and with other wiring patterns formed on the insulating layer so as to be electrically connected with the wiring pattern.例文帳に追加

配線パターンを有する基材上に形成された上記の絶縁性樹脂溶液組成物からなる絶縁層、および該配線パターンと電気的に接続するように該絶縁層上に形成された別の配線パターンを具備してなることを特徴とする多層プリント配線板。 - 特許庁

The method for forming laminating patterns comprises a first step of printing a part except a predetermined pattern with an ink composition containing an aqueous solvent type resin on a base, a second step of laminating two or more layers of a coating agent composition permeable in an aqueous solvent with a component different from the ink composition, and a third step of removing the composition with the solvent.例文帳に追加

基材上に、水性溶剤可溶型樹脂を含有するインキ組成物で所定パターン以外の部分を印刷する第一の工程、該印刷面上に、該インキ組成物と異なる成分で水性溶剤が浸透可能なコーティング剤組成物を２層以上積層する第二の工程、水性溶剤でインキ組成物を除去する第三の工程をこの順に有することを特徴とする積層パターン形成方法。 - 特許庁