「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(94ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain an inorganic particle-containing resin composition capable of forming an inorganic particle-containing resin layer having excellent flexibility and transferability, causing neither deformation nor peeling in pattern of sintered compact formed through an etching process and baking process, a transfer film having the inorganic particle-containing resin layer and to provide a method for producing a PDP capable of forming a pattern having a high dimensional accuracy, having excellent workability.例文帳に追加

可撓性、転写性に優れ、エッチング工程および焼成工程を経て形成される焼結体のパターンに変形やはがれを生じさせることのない無機粒子含有樹脂層を形成することのできる無機粒子含有樹脂組成物、当該無機粒子含有樹脂層を有する転写フィルムを提供すること、および寸法精度が高いパターンを形成でき、作業性に優れたＰＤＰの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing wiring includes a step of ejecting locally a composition containing a conductive material on a first pattern so as to form a conductor functioning as a pillar, a step of forming a dielectric so as to cover the conductor, a step of etching the dielectric so as to expose a part of the conductor, and a step of forming a second pattern on the exposed conductor.例文帳に追加

本発明の配線の作製方法は、第１のパターン上に導電性材料を含む組成物を局所的に吐出してピラーとして機能する導電体を形成するステップと、前記導電体が覆われるように絶縁体を形成するステップと、前記導電体の一部が露出するように前記絶縁体をエッチングするステップと、露出した前記導電体上に第２のパターンを形成するステップとを有することを特徴とする。 - 特許庁

The method for forming the resist pattern further has a process for bridging sections brought into contact with the resist layers in the resin composition by supplying the acid from the resist layers and forming bridging layers coating the resist layers and a process for removing sections excepting the bridging layers in the resin composition and obtaining the resist pattern with the resist layers and the bridging layers coating the resist layers.例文帳に追加

基板１の一面上に形成され、かつパターン化され、かつ酸を供給可能なレジスト層４においてその表面４ａを、フルオロカーボン１６を含むガス雰囲気下でプラズマ処理する工程と、プラズマ処理されたレジスト層の表面に酸の存在下で架橋する樹脂組成物を付着させる工程と、レジスト層からの酸の供給により、樹脂組成物のうちレジスト層に接する部分を架橋させ、レジスト層を被覆する架橋層を形成する工程と、樹脂組成物のうち架橋層以外の部分を除去し、レジスト層とこれを被覆する架橋層とを有するレジストパターンを得る工程とを備えるレジストパターンの形成方法。 - 特許庁

For the purposes of this Law, any composition of lines or colours or any three-dimensional form, or any material, whether or not associated with lines or colors, is deemed to be an industrial design, provided that such composition, form or material gives a special appearance to a product of industry or handicraft and can serve as a pattern for a product of industry or handicraft, and appeals to and is judged by the eye. 例文帳に追加

本法の適用上，線若しくは色彩の何らかの組合せ，又は何らかの立体形態，又は何らかの素材は，線又は色彩に関連するか否かに拘らず，意匠であるとみなされる。ただし，当該組合せ，形態，又は素材が工業製品若しくは手工芸品に特別の外観を与えるものであり，工業製品若しくは手工芸品について模様として使用でき，また，視覚に訴え，かつ，視覚により判断されることを条件とする。 - 特許庁

The method has steps of forming an internal electrode pattern, forming a laminate, forming a laminate block, coating an outer periphery of the laminate block using a second dielectric material composition layer added with more SiO_2 to the first dielectric material composition in a non-sintered dielectric layer, forming a laminate chip, sintering the chip, and forming an external electrode.例文帳に追加

積層セラミックコンデンサの製造方法は、内部電極パターンを形成する工程、積層体を形成する工程、積層体ブロックを形成する工程、未焼成誘電体層中の第１の誘電体材料組成物に対してさらに多量のＳｉＯ_２が添加された第２の誘電体材料組成物層を用いて積層体ブロックの外周を被覆する工程、積層体チップを形成する工程、焼成工程、外部電極を形成する工程を有する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which eliminates the need for prebake in a process of forming a resist film and has high sensitivity, in particular, high sensitivity and good pattern forming properties to active energy rays having a maximum emission wavelength in the range of 400-410 nm from a semiconductor laser as an irradiation source.例文帳に追加

レジスト膜を形成する工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度、特に半導体レーザーを照射源とした最大発光波長が４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲内にある活性エネルギー線に対して高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a photosensitive resin composition which suppresses peeling of a pattern from a substrate after development of a photoresist in a process for producing electronic parts such as a semiconductor element, is excellent also in shelf life stability in the solution state and has good heat resistance and adhesiveness to a base material after heating at a high temperature.例文帳に追加

本発明は、半導体素子等の電子部品の製造工程におけるフォトレジストの現像後の基板からのパターンの剥がれを低減し、溶液状態での保存安定性にも優れ、更に高温加熱処理後において良好な耐熱性と基材への接着性を有する感光性樹脂組成物を提供するものである。 - 特許庁

To provide a monomer polymer and an organic composition containing the same for forming an organic anti-reflection film which absorbs a light-exposing origin between a layer to be etched and a photoresist film in order to prevent a pattern disintegration under the influence of a standing wave generated at the lower part of a photoresist film at the time of a photolithographic processing.例文帳に追加

本発明は、フォトリソグラフィ工程時にフォトレジスト膜の下部で発生した定在波の影響によるパターンの崩壊を防止するために、被エッチング層とフォトレジスト膜との間で露光源を吸収する有機反射防止膜形成用単量体、重合体及びこれを含む有機組成物が開示される。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in sensitivity in exposure and resolution of a resist pattern after development, less liable to scum in a developing step, having good plating resistance and useful as alkali-developable DFR (dry film resist) for manufacturing substrates for a printed wiring board, for a lead frame and for a semiconductor package.例文帳に追加

露光時の感度及び現像後のレジストパターンの解像性に優れるとともに、現像工程におけるスカムの発生が少なく、耐めっき性が良好で、アルカリ現像型プリント回路板用、リ−ドフレ−ム用及び半導体パッケ−ジ用の基板作製用ＤＦＲとして有用な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a copolymer for semiconductor lithography, controlling a composition of a repeating unit containing a hydroxyl group in a low molecular weight region to improve shift pattern shape in a semiconductor lithography process which is a factor largely affecting a processing precision, an integration degree and yield.例文帳に追加

加工精度に大きく影響し、集積度やさらには歩留まりを左右する大きなファクターである、半導体リソグラフィー工程におけるレジストパターン形状を改善するために低分子領域における水酸基含有繰り返し単位の組成を制御した半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thermosetting resin composition which can be suitably used as an electronic material, particularly as a film-forming material for coating a conductor circuit pattern and excels in the balance of properties (flexibility, a high elongation, high flexural property, adhesion to a substrate, high insulation property, and environmental stability).例文帳に追加

本発明は、電子材料、特には、導体回路パターンを被覆するための被覆形成材として好適に用いることができる、物性バランス（柔軟性、高伸び率、高い屈曲性、基材との接着性、高い絶縁性、耐環境安定性）に優れた熱硬化性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁

The pattern forming material has on a support a photosensitive layer formed of a photosensitive composition comprising at least a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, wherein the binder comprises a polymer having an I/O value of 0.300-0.650 and the photopolymerization initiator comprises a hexaarylbiimidazole compound having a hydrophilic group.例文帳に追加

バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含む感光性組成物からなる感光層を支持体上に有してなり、前記バインダーが、Ｉ／Ｏ値が０．３００〜０．６５０のポリマーを含み、前記光重合開始剤が、親水性基を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物を含むパターン形成材料である。 - 特許庁

A copper-plated laminated board 10 comprises a prepreg 14 wherein non-woven fabric is coated/impregnated with a resin composition before being dried, and irregularities 16 formed in compression molding when combining a copper foil 15 while a wiring pattern is formed by etching with the copper foil 15, constituting a printed wiring board.例文帳に追加

銅張積層板１０は、不織布に樹脂組成物を塗布含浸させ乾燥してつくられたプリプレグ１４と、銅箔１５を複合させるときに圧縮成形加工により形成された凹凸部１６とを有しており、配線パターンは、銅箔１５へのエッチングにより形成されプリント配線板が構成されている。 - 特許庁

To provide a fluorine-containing resin achieving excellent ink repellency and its persistence, an ink falling property and its persistence, and a developing property, and to provide a photosensitive resin composition from which a coating film excellent in ink repellency and its persistence and the ink falling property and its persistence can be formed and a minute pattern can also be formed.例文帳に追加

優れた撥インク性、その持続性、インク転落性、その持続性及び現像性を奏する含フッ素樹脂、及び優れた撥インク性、その持続性、インク転落性、その持続性に優れた塗膜を形成することができ、さらには微細なパターン形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

This electroconductive ink composition comprises a metal powder treated with a surfactant, a resin and a volatile solvent, and is used in a printing method where an ink coating film image formed on the surface of a silicone blanket is transferred onto a substrate to be printed, and the resultant accurate pattern is printed on the substrate to be printed.例文帳に追加

シリコーンブランケット表面に画像形成されたインキ塗膜を被印刷基材上に転写して精密パターンを被印刷基材上に印刷する印刷法に用いられるインキ組成物であって、界面活性剤で処理された金属粉末、樹脂及び揮発性溶剤を含有する導電性インキ組成物を用いる。 - 特許庁

In the method for producing a fine pattern, the photosensitive resin composition is shaped into a film by casting and drying on a substrate, and this film is exposed through a photomask, developed with alcohol, glycol or monoalkyl ether of glycol, and subjected to dehydration ring closure by heating or with a cyclodehydrating reagent to form a polyimide film having a repeating unit represented by formula (2).例文帳に追加

前記の感光性樹脂組成物を基板上に流延・乾燥して製膜し、フォトマスクを介してこれを露光し、アルコール、グリコールまたはグリコールのモノアルキルエーテルで現像後、加熱あるいは脱水環化試薬を用いて脱水閉環して、式（２）で表される繰り返し単位を有するポリイミド膜とする微細パターンの製造方法。 - 特許庁

To provide a resist composition that can be preferably used in an ultra-micro lithography process such as manufacture of an ultra LSI and a high-capacity microchip and the other photo-fabrication and is superior in line width roughness, and further in resolution and defocusing latitude in contact hole pattern formation and superior in exposure margin.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a polymerizable composition which has high light shielding properties in an infrared region, has high light transmissivity in a visible light region, has a desired shape formed by alkali development and can form a pattern excellent in durability (durability to high temperature and high humidity, adhesiveness to substrate and the like).例文帳に追加

本発明の目的は、赤外領域における遮光性が高く、可視光領域における透光性が高く、かつ、アルカリ現像によって、所望の形状を有するとともに、耐久性（高温、高湿に対する耐久性や、基板に対する密着性など）に優れたパターンを形成可能な重合性組成物を提供する。 - 特許庁

A photosensitive composition containing a compound for generating an acid by irradiation with a beam of active light or a radiation, a specific basic compound having a polar group, a specific basic compound having no polar groups, and a specific surfactant, and a pattern forming method using the same are provided.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、極性基を有する特定の塩基性化合物、極性基を有さない特定の塩基性化合物、及び、特定の界面活性剤を含有することを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The resin composition for the spacer for forming the spacer image pattern on the substrate for a liquid crystal display device contains (1) a resin having at least an allyl group, (2) a resin having at least the allyl group and hydroxyl group or (3) a resin mixture composed of the resin having the allyl group and the resin having the hydroxyl group.例文帳に追加

液晶表示装置用基板上にスペーサー画素パターンを形成するためのスペーサー用樹脂組成物が、（１）少なくともアリル基を有する樹脂、（２）少なくともアリル基と水酸基とを有する樹脂、又は（３）アリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂、を含有するスペーサー用樹脂組成物である。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition for exposure with far UV adaptable to exposure in the far UV region using ArF or KrF as a light source in production of a semiconductor device, ensuring improved dimensional uniformity of a resist pattern and excellent also in various properties as a resist, such as resolving power, focal depth and development defects.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、レジストパターンの寸法均一性が改善され、さらに解像力、焦点深度、現像欠陥などのレジスト諸特性にも優れた遠紫外線露光用ポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method for the color filter is characterized in that development is performed after exposure and exposure is performed again after forming a pattern in a step for creating the color filter using the negative type colored photosensitive composition containing binder polymer, a photopolymerizable monomer or oligomers, an optical initiator, dye or pigment, and an organic solvent.例文帳に追加

バインダーポリマー、光重合性モノマーまたはオリゴマー、光開始剤、染料または顔料、有機溶剤を含有するネガ型着色感光性組成物を用いてカラーフィルターを作成する工程において、露光後現像しパターンを形成した後に再度露光することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition as a chemically amplifying resist which is sensitive to active radiation, for example, far UV rays represented by KrF excimer laser or ArF excimer laser and which can form a resist pattern with excellent uniformity in film thickness, excellent adhesion property with a substrate, accuracy, sensitivity, resolution and so on.例文帳に追加

活性放射線、例えばＫｒＦエキシマレーザーあるいはＡｒＦエキシマレーザーに代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、膜厚均一性が優れ、しかも基板接着性、精度、感度、解像度等にも優れたレジストパターンを与える感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The positive photosensitive composition for the method for forming a thermal flow pattern contains (a) a compound which generates an acid by irradiation with active rays or radiation and (b) resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and which decomposes by the effect of an acid to increase the solubility in an alkali developer.例文帳に追加

（ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするサーマルフローパターン形成方式用ポジ型感光性組成物。 - 特許庁

To provide a polymerizable composition which has a high light-shielding property in an infrared region and a high light transmission property in a visible light region and a desired shape by alkaline-developing and is capable of forming a pattern which is excellent in durability (resistance to high temperature and high humidity and adhesion to a substrate).例文帳に追加

本発明の目的は、赤外領域における遮光性が高く、可視光領域における透光性が高く、かつ、アルカリ現像によって、所望の形状を有するとともに耐久性（高温、高湿に対する耐久性や、基板に対する密着性など）に優れたパターンを形成可能な重合性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a multi-tank electrolytic copper plating method for quickening the speed of electrolytically plating an electrolytic plating layer on the surface of a conductive composition layer which includes silver particles and resin binder and is formed in a pattern shape on a substrate sheet, and to provide a method for manufacturing an electromagnetic wave shielding material with satisfactory productivity by using the multi-tank electrolytic copper plating method.例文帳に追加

基材シート上に銀粒子と樹脂バインダを含みパターン状に形成された導電性組成物層の表面に電解銅めっき層を電解めっきする速度を速くできる多槽電解銅めっき方法と、この方法を利用して電磁波遮蔽材を生産性よく製造できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition containing a photosensitive resin, a polymerizable unsaturated compound and a photopolymerization initiator with good compatibility with one another, giving a homogeneous solution, excellent in shelf stability, developable with water and giving a strong photo-cured body having good adhesiveness to a substrate and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

感光性樹脂、重合性不飽和化合物および光重合開始剤それぞれの相溶性が良く、溶液は均質系であり、保存安定性に優れ、水現像が可能であり、強固で基材への接着性が良好な光硬化物が得られる感光性組成物ならびにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pigment dispersion with an excellent pigment dispersion property and dispersion stability even in the case of using a minute pigment, a colored curable composition with the excellent removability of an uncured region containing the pigment dispersion, a high contrast color filter having a colored pattern using the same, and its manufacturing method.例文帳に追加

微細な顔料を用いた場合でも顔料の分散性・分散安定性に優れた顔料分散液、顔料分散液を含有する未硬化領域の除去性に優れた着色硬化性組成物、それを用いた着色パターンを有する高コントラストなカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and a good margin for light exposure in microfabrication particularly when KrF excimer laser, X-radiation, an electron beam or an ion beam is used.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上技術における課題を解決することであり、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好な露光量マージンの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative radiation-sensitive resin composition which can suppress indentation of a resist pattern and resist cracking by plating stress at a plating step and accurately form thick platings, even when descumming (O_2 plasma ashing) treatment is performed as pretreatment for plating, and which is excellent in resolution and adhesion.例文帳に追加

メッキ前処理としてデスカム（Ｏ_2プラズマアッシング）処理を行っても、メッキ工程時のメッキ応力によるレジストパターンへの押し込みやレジストのクラックを抑制することができ、厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができるとともに、解像度および密着性などに優れるネガ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a curable resin composition which can ensure satisfactory flame retardance without using a halogen-based flame-retardant and can obtain a cured product having a satisfactory elongation at break, a prepreg using the same, a metal-clad laminate, a sealing medium, a photosensitive film, a resist pattern-forming method, and a printed wiring board.例文帳に追加

ハロゲン系難燃剤を用いずに十分な難燃性を確保することができ、十分な伸び率を有する硬化物を得ることが可能な硬化性樹脂組成物、並びに、それを用いたプリプレグ、金属張積層板、封止材、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板を提供すること。 - 特許庁

This photopolymerizable composition for forming the porous pattern comprises at least three components of a binder resin, a photosensitive compound, and a photopolymerization initiator, wherein the photosensitive compound is dissolvable in a poor solvent to the binder resin, and the photosensitive compound is contained in an amount of 30-80 wt% based on the total solid components.例文帳に追加

バインダー樹脂、感光性化合物および光重合開始剤の少なくとも３者からなる組成物であって、該感光性化合物は、該バインダー樹脂の貧溶媒に溶解可能で、かつ、該感光性化合物の全固形分中に占める割合が３０〜８０重量％であることを特徴とするものである。 - 特許庁

To provide a photosensitive siloxane composition which excels in stability when allowed to stand after exposure, causes no pattern drooping during heat curing, has such properties as high resolution, high heat resistance and high transparency after heat curing, and is used for forming a planarizing film for a TFT substrate, an interlayer insulation film and a core or clad material of an optical waveguide.例文帳に追加

露光後放置安定性に優れ、熱硬化中にパターンだれが生じることなく、熱硬化後に高解像度、高耐熱性、高透明性の特性を有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is used in the manufacturing step of a semiconductor such as an IC, in manufacturing step of a circuit board such as liquid crystals and thermal heads, and other photofabrication steps, having an excellent resolution and line edge roughness; and to provide a method for forming a pattern using the same.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition undergoing a change in refractive index, which can realize a change in the refractive index of a material by a simple method, giving a sufficiently great difference in refractive index due to the change, and can give a refractive index pattern and an optical material that are stable independent of the service conditions thereafter.例文帳に追加

材料の屈折率変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した屈折率差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によらずに安定な屈折率パターンや光学材料を与えることができる感放射線性、屈折率変化性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which solves problems relating to the techniques to improve the performance in microfabrication of semiconductor elements using high energy beams, in particular, which has high sensitivity and high resolution and satisfies both of a preferable pattern profile and line edge roughness for KrF excimer laser, X-rays, electron beams or ion beams.例文帳に追加

高エネルギー線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

For example, when a TAB of a liquid crystal display device is connected to a terminal of each ITO electrode 2, only the terminal to be connected of the ITO electrode 2 formed on a glass substrate 1 of a liquid crystal panel is coated with the composition, and drying, exposure and development are then carried out to form the anisotropic electroconductive pattern 3 only on the electrode 2.例文帳に追加

例えば、液晶表示装置のＴＡＢとＩＴＯ端子の接続を行う場合、液晶パネルのガラス基板上１に形成された各ＩＴＯ電極２の接続される端部のみに上記組成物を塗布し、乾燥、露光、現像を行って異方性導電パターン３を電極上のみに形成する。 - 特許庁

To provide a foamable polymer composition that gives a thermoplastic elastomer foamed article which has fine foams of a uniform size uniformly distributed inside the foamed article, is free from roughness or a concave and convex pattern on the surface due to foam collapse, non-uniformity in foam diameter or the like, and is excellent in appearance and also excellent in flexibility and mechanical characteristics.例文帳に追加

大きさの揃った微細な気泡が発泡体内部にムラなく均一に分布しており、表面に気泡の破裂や気泡径のムラなどに起因する荒れや凹凸模様がなく、外観に優れ、柔軟性、機械的特性にも優れる熱可塑性エラストマー発泡体を与える発泡性重合体組成物を提供すること。 - 特許庁

This invention relates to: novel salt forms of [R-(R^*,R^*)]-2-(4-fluorophenyl)-β,δ-dihydroxy-5-(1-methylethyl)-3-phenyl-4-[(phenylamino)carbonyl]-1H-pyrrole-1-heptanoic acid characterized by their X-ray powder diffraction pattern and solid-state NMR spectra; and methods for the preparation and pharmaceutical composition of the same.例文帳に追加

Ｘ線粉末回析パターンおよび固体ＮＭＲスペクトルにより特徴付けられる［Ｒ−（Ｒ^*，Ｒ^*）］−２−（４−フルオロフェニル）−β，δ−ジヒドロキシ−５−（１−メチルエチル）−３−フェニル−４−［（フェニルアミノ）カルボニル］−１Ｈ−ピロール−１−ヘプタン酸の新規な塩形態、ならびに、それらの製造方法および医薬組成物。 - 特許庁

The electrode film 10 includes a transparent substrate member 1; a primer layer 2 disposed on one face S1 of the transparent substrate member 1; the conductive mesh 3 composed of a conductive composition disposed, in a predetermined pattern, on the primer layer 2; and a hard coat layer 4 disposed on the other face S2 of the transparent substrate member 1.例文帳に追加

この電極フィルム１０は、透明基材１と、透明基材１の一方の面Ｓ１に設けられたプライマー層２と、プライマー層２上に所定のパターンで設けられた導電性組成物からなる導電メッシュ３と、透明基材１の他方の面Ｓ２に設けられたハードコート層４とを有する。 - 特許庁

To prevent defective printing of a conductive ink printed layer using conductive ink, which is a conductive composition, as a pattern layer due to whiskers occurring, when the conductive ink splashes in forming the conductive ink printed layer by use of characteristics of an electromagnetic wave shielding material provided on a transparent substratum via a primer layer.例文帳に追加

パターン層として導電性組成物である導電インキを用いた導電インキ印刷層を、プライマー層を介して透明基材上に設けた電磁波シールド材ならではの特徴を活かして、導電インキ印刷層形成時に導電インキが飛散すると出来るヒゲの発生による印刷不良を防ぐ。 - 特許庁

The photosensitive film used for forming a permanent pattern comprises a support, a cushion layer, a barrier layer capable of suppressing transfer of substances, and a photosensitive layer, in this order, wherein the photosensitive layer is formed of a photosensitive composition which comprises (A) a binder, (B) a polymerizable compound, (C) a photopolymerization initiator and (D) a filler.例文帳に追加

支持体と、クッション層と、物質の移動を抑制可能なバリア層と、（Ａ）バインダー、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）体質顔料を含有する感光性組成物からなる感光層とをこの順に備えてなり、永久パターンの形成に用いられる感光性フィルムである。 - 特許庁

To provide a polymer which has dry etching resistance, is high in sensitivity, resolution and light transmittance, when used for resist compositions for DUV excimer laser lithography or the like, has small line edge roughness of resist patterns and can resist to thin resist films, to provide a resist composition, and to provide a method for producing a substrate on which a resist pattern is formed.例文帳に追加

ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、レジストパターンのラインエッジラフネスが小さく、レジスト膜の薄膜化に耐えることができるドライエッチング耐性を有する重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for forming an insulating film of an organic EL display element, which has a tapered shape as a pattern-cross-section shape and has high heat resistance bearing a process of eliminating moisture in an insulating film material and has film hardness resisting erosion of a chemical such as a resist separation liquid.例文帳に追加

パターン断面形状がテーパー形状であり、絶縁膜材料中の水分を排除するプロセスに耐える高い耐熱性を有し、レジスト剥離液等の薬品の侵食に耐える膜硬度を有する、有機ＥＬ表示素子の絶縁膜を形成するための感放射線性樹脂組成物を提供。 - 特許庁

The colored photosensitive composition used for correcting minute colored pattern defects in a color filter substrate with a colored layer formed on a substrate contains at least a pigment, an organic solvent and a polyfunctional acrylate monomer without containing a polymer, wherein the polyfunctional acrylate monomer contains a monomer having a soft segment.例文帳に追加

基板上に着色層が形成されたカラーフィルター基板の微小着色パターン欠陥を修正するために用いる着色感光性組成物にポリマーを含有させず、少なくとも、顔料と、有機溶剤と、多官能性アクリレートモノマーを含有させ、さらに、該多官能性アクリレートモノマーにはソフトセグメントを有するモノマーを含有させる。 - 特許庁