「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(96ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a negative type resist composition through which problems associated with the performance improvement technology in the microfabrication of semiconductor elements are solved and characteristics including high sensitivity, high resolution, good pattern shapes and good line edge roughness are satisfied in the semiconductor microfabrication using especially electron beams and X-rays.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線又はＸ線を用いた半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスの特性を満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To solve problems on a technique adaptable to reduction in the thickness of a film for lithography using far ultraviolet light and to provide a radiation sensitive resin composition capable of reproducing a desired resist pattern which retains satisfactory intrasurface uniformity, has high resolving power and collapses hardly even in a thin film process.例文帳に追加

遠紫外光を使用するリソグラフィの薄膜化に対応する技術課題を解決することであり、具体的には薄膜プロセスにおいても十分な面内均一性が保持され、高解像力でパターン倒れの少ない、所望のレジストパターンを再現し得る感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an adhesive composition having sufficient bond strength, with sufficient inclusion of various fillers, rapid drying time after spreading, easily operable for both full coating and pattern spreading and applicable to various bases to realize sufficient bond strength between the base and the adhesive layer.例文帳に追加

十分な接着力を有し、各種の充填剤を十分充填でき、塗工後の乾燥時間が短く、全面塗工およびパターン塗工の何れも容易に行え、各種の基体に塗工することができ、基体と感圧接着剤層との十分な接着強度を実現できる接着剤組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having sensitivity to a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam and usable in a mix and match process where exposure is performed using at least two kinds of exposure light sources selected from a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線に対する感度を有し、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光するミックスアンドマッチ工程に使用できるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The uneven pattern is formed on a part of the molded material, that is composed of the thermoplastic resin, by radiating an active energy ray on a part of the above molded material without forming a film of a radiation- sensitive resist composition, and then by brining a solvent into contact with the surface of this molded material to dissolve a part of the molded maturely of the thermoplastic resin.例文帳に追加

熱可塑性樹脂からなる成形体表面の一部に、感放射線レジスト組成物の塗膜を形成することなく活性エネルギー線を照射し、次いで該成形体表面に溶媒を接触させて熱可塑性樹脂成形体の一部を溶解させることにより、該成形体表面に凹凸パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of finishing a substrate to be processed for forming a minute pattern with a good yield as a sandblasting mask material with the superior resolution after development, adhesion and sandblasting resistant adhesion, a photosensitive resin laminate, a surface finishing method for a substrate to be processed, and a method for manufacturing a back plate of a plasma display.例文帳に追加

現像後の解像性及び密着性並びに耐サンドブラスト密着性に優れ、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、被加工基材の表面加工方法及びプラズマディスプレイの背面板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method comprises forming a film on a substrate by using a photosetting/thermosetting composition containing no hardening catalyst, exposing and developing to form a film pattern and is characterized in that the developing method is carried out by using an aqueous solution of a basic hardening catalyst for promoting the thermosetting reaction as a developer solution.例文帳に追加

硬化触媒を含有しない光硬化性・熱硬化性組成物を用いて基材上に形成した皮膜を露光、現像して皮膜パターンを形成する方法であって、その現像方法が、熱硬化反応促進用の塩基性硬化触媒の水溶液を現像液として用いることを特徴としている。 - 特許庁

To provide an antireflection film forming composition, having high power to absorb reflected light and capable of forming an antireflection film which has full resistance, even with respect to a developing solution on which a resist pattern excellent in shape can easily be formed at a high etching rate, even if the antireflection film is made thick and difference in level on a substrate is planarized.例文帳に追加

反射光に対して吸収能が高く、エッチングレートが高く反射防止膜を厚膜にし基板上の段差を平坦化しても形状に優れたレジストパターンが容易に形成でき、かつ現像液に対しても充分な耐性を有する反射防止膜を形成できる反射防止膜形成用組成物を提供すること。 - 特許庁

In the birefringence pattern member obtained by forming at least one optical anisotropic layer 12 formed from the same layer forming composition and including two or more regions having respectively different birefringence properties in the layer on a light reflecting layer 11, the reflectance of mirror surface luminance of the light reflecting layer 11 is 8% or more.例文帳に追加

光反射性層１１上に、同一の層形成組成物から形成され、層内に複屈折性が異なる領域を二つ以上含んだ光学異方性層１２が少なくとも一層形成されてなる複屈折パターン部材であって、前記光反射性層１１の鏡面輝度反射率が８％以上である複屈折パターン部材。 - 特許庁

To provide an original plate for letterpress printing with which the problems with the use of the conventional negative film and its alternative and the problems with formation of a mask pattern by an ink composition directly on the surface of a photosensitive resin layer can be simultaneously solved and a method for manufacturing a letterpress printing plate using the original plate for letterpress printing.例文帳に追加

凸版印刷において、従来のネガフィルムおよびその代替品を用いた場合の問題点と、感光性樹脂層表面に直接インク組成物によりマスクパターンを形成する場合の問題点とを同時に解決することのできる凸版印刷用原版と、該凸版印刷用原版を用い凸版印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁

Further, an optical waveguide comprising a substrate plate 1 and a cladding layer 2 formed on the substrate plate 1, and formed with a core part 3 having a prescribed pattern and transmitting light signals, in the cladding layer 2 is provided with that at least one of the cladding layer 2 and core part 3 is formed by a resin composition containing the above trisoxetane ether compound.例文帳に追加

さらに、基板１と、その基板１上に形成されたクラッド層２とを備え、上記クラッド層２中に所定パターンで、光信号を伝搬するコア部３が形成されてなる光導波路であって、上記クラッド層２およびコア部３の少なくとも一方が、上記トリスオキセタンエーテル化合物を含有する樹脂組成物によって形成されている。 - 特許庁

To provide a new radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation and superior developability, excellent in adhesiveness to a substrate as well as in basic solid state properties as a resist, e.g. sensitivity, resolution and pattern shape, causing no development defects in microfabrication and capable of producing semiconductor devices in a high yield.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、現像性に優れ、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、基板に対する接着性にも優れ、かつ微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The developing liquid composition for a thick-film resist to be used for forming a thick-film resist pattern on a substrate comprises an organic quaternary ammonium base as the main agent and contains at least one kind of defoaming agent selected from among polyethylene oxide compounds, polypropylene oxide compounds and ethylene oxide/propylene oxide adducts.例文帳に追加

支持体上に厚膜レジストパターンを形成するために用いられる現像液組成物であって、有機第四級アンモニウム塩基を主剤とし、ポリエチレンオキシド化合物、ポリプロピレンオキシド化合物およびエチレンオキシド・プロピレンオキシド付加物の中から選ばれる少なくとも１種の消泡剤とを含有することを特徴とする、厚膜レジスト用現像液組成物。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a positive-type photosensitive resin composition capable of obtaining a high-sensitivity, high-resolution pattern, having low linear expansion coefficient and giving uniform film thickness because of the superior dispersibility of an alkali soluble resin, a photosensitive diazo quinone compound and an inorganic oxide colloid solution to each other, and to provide a semiconductor device and a display device.例文帳に追加

高感度で高解像度のパターンを得ることができ、低線膨張係数を有し、アルカリ可溶性樹脂と感光性ジアゾキノン化合物と無機酸化物のコロイド溶液との分散性に優れるため膜厚が均一なポジ型感光性樹脂組成物の製造方法並びに半導体装置及び表示素子を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a lactone copolymer resin which is highly transparent to radiation, can solve the problem on how to take a trade-off between resolution and exposure latitude and is suitable as a resin component in a chemical amplification resist to provide the resist with excellent dry etching resistance and pattern figure; and a radiation-sensitive resin composition containing the lactone copolymer resin.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、特に解像度と露光余裕とのトレードオフの問題を解決でき、しかもドライエッチング耐性、パターン形状等にも優れた化学増幅型レジストの樹脂成分として好適なラクトン系共重合樹脂、および当該ラクトン系共重合樹脂を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an alkaline development type photocuring conductive paste composition which is superior in adhesion to the substrate after firing and adhesion between the layers, and can easily form a conductive circuit pattern of large area and high definition by photolithography technology, is especially useful for forming an underlayer electrode circuit of a bus electrode formed on the front face substrate of a plasma display panel.例文帳に追加

焼成後の基板への密着性、層間の密着性に優れ、フォトリソグラフィー技術により容易に大面積に高精細の導電回路パターンを形成でき、特にプラズマディスプレイパネルの前面基板に形成されるバス電極の下層電極回路形成に有用なアルカリ現像型光硬化性導電性ペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a (co)polymer which is useful as a resist material or the like, especially a (co)polymer for a resist material which is suitable for microfabrication using excimer laser or electron beam, its production method, a resist composition using this (co)polymer and a pattern forming method.例文帳に追加

波長２５０ｎｍ以下の光、特にＡｒＦエキシマレーザー光に対して高感度で、ドライエッチング耐性に優れ、遠紫外光エキシマレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適なレジスト組成物用樹脂およびレジスト組成物、レジスト組成物に適したこのような樹脂の製造方法、並びに、このレジスト組成物を用いた微細なパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a light-curable resin composition enabling formation of an optically functional sheet having a fine pattern, and sufficiently satisfying adhesion to a sheet base material, mold releasability from a mold, a high refractive index of a work layer, surface hardness, flexibility and flaw resistance of the sheet, and to provide the optically functional sheet showing excellent front luminance.例文帳に追加

本発明は、微細なパターンを有する光学機能性シートを形成可能とし、シート基材との密着性、金型との離型性、加工層の高屈折率、表面硬度とシートの柔軟性・耐擦傷性を十分に満足できる光硬化性樹脂組成物および正面輝度に優れた光学機能性シートを提供せんとするものである。 - 特許庁

The composition of a matter for forming a conductive film composed of an aqueous photosensitive resin element an aqueous metal organic compound element, which can form an electrically conductive film by being calcined, and an aqueous solvent element are coated on a substrate, and after exposure and development based on the required conductive film pattern are performed, the substrate is calcined to form the required conductive film.例文帳に追加

水溶性の感光性樹脂成分と、焼成することにより導電性膜を形成可能な水溶性金属有機化合物成分と、水系溶媒成分とからなる導電性膜形成用組成物を基板上に塗布し、必要な導電性膜パターンに基づく露光および現像を施した後焼成して、必要な導電性膜を形成する。 - 特許庁

The conduction wire 23 is formed by applying a conductive paste-like composition obtained by mixing silver fine particles into phenol resin in a given pattern by screen printing then firing it, and its both end parts of thereof 23 are led out to a corner part on one side of a light incident side on the light guide plate front surface 212 to form external input terminals 232, 232.例文帳に追加

通電配線２３は、銀微細粒子をフェノール系樹脂に混ぜて得られる導電性ペースト状組成物をスクリーン印刷により所定のパターンに塗着し焼成して形成され、その両端部が導光板前面２１２における光入射側の一方のコーナー部に引き出されて、外部入力端子２３２、２３２が形成されている。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition (with sufficient radiation sensitivity and developability) which can easily form a microscopic and sophisticated pattern, and satisfies both storage stability and short-time low-temperature firing, and to provide a cured film excellent in required characteristics such as heat resistance and compression characteristics as well as to provide a method of forming the cured film.例文帳に追加

本発明の目的は、容易に微細かつ精巧なパターンを形成でき、保存安定性と短時間での低温焼成とを両立し、かつ十分な放射線感度及び現像性を有する感放射線性樹脂組成物、並びに耐熱性、圧縮特性等の要求特性に優れる硬化膜及び硬化膜の形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a resist composition superior in dissolution contrast by simultaneously satisfying high sensitivity, excellent line edge roughness and excellent density independence, and to provide a pattern-forming method using it.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

An image composition device is provided with: a detecting means for detecting an area having a feature on a common pattern from each of two images for different subjects; and a combining means for superposing at least parts of the two images with weight detected by the detecting means and integrating them.例文帳に追加

被写体が異なる２つの画像において、２つの画像のそれぞれから共通した絵柄上の特徴を有する領域を検出する検出手段と、検出手段により検出された領域の少なくとも一部同士を重み付けして重ね合わせることにより、その２つの画像を継ぎ合わせる合成手段とを備えた画像合成装置を提供する。 - 特許庁

To prevent streaks for which marks of mirror surface working of an intaglio printing plate appear on a surface of a primer layer exposed at an opening from becoming optical defects, when forming a conductor pattern layer of an electromagnetic wave shielding material, as a conductive composition layer comprising conductive particles and a resin binder by a drawing primer type intaglio printing method on a transparent base material by interposing a primer layer.例文帳に追加

電磁波遮蔽材の導電体パターン層を導電性粒子と樹脂バインダからなる導電性組成物層として、プライマ層を介在さて透明基材上に引抜プラマイ方式凹版印刷法で形成した時に、凹版版面の鏡面加工の跡が開口部で露出するプライマ層表面に現れる筋が光学欠陥になるのを防ぐ。 - 特許庁

The method of forming conductive patterns includes: (1) a step of preparing a base material; (2) a step of forming patterns on the base material using a conductive pattern forming composition and a printing method; and (3) a step of positioning the base material formed with the patterns between two microwave-permeable panels, and baking the patterns using microwaves.例文帳に追加

本発明によると、１）基材を用意する段階と、２）導電性パターン形成用組成物及び印刷方法を利用し、上記基材上にパターンを形成する段階と、３）上記パターンが形成された基材をマイクロウェーブを透過させる２枚のパネルの間に位置させ、マイクロウェーブを利用して上記パターンを焼成する段階とを含む。 - 特許庁

Then, after forming a conductive layer comprising a prescribed wiring circuit pattern on the insulating layer, the coating comprising the photosensitive resin composition is formed on the conductive layer, and subjected to exposure, development and further heating treatment, to form a coating layer comprising the polyimide film on the conductive layer, and to thereby manufacture the circuit board with the metal support.例文帳に追加

つぎに、上記絶縁層上に所定の配線回路パターンからなる導体層を形成した後、この上記導体層上に上記感光性樹脂組成物からなる被膜を形成し、露光，現像後、さらに加熱処理を行ない上記導体層上にポリイミド膜からなる被覆層を形成することにより金属支持体付回路基板を製造する。 - 特許庁

The image forming method includes forming a coating film of a curable composition containing an electron-donating dye on a substrate, curing the coating film into a predetermined pattern to form a cured portion and an uncured portion, developing a color in the uncured portion by acid development to form a color developed portion, and curing the whole coating film including the color developed portion.例文帳に追加

本発明にかかる画像形成方法は、基材上に、電子供与性染料を含有する硬化性組成物の塗膜を形成し、前記塗膜を所定パターンに硬化させて硬化部と未硬化部を形成し、酸現像により前記未硬化部を発色させ、発色部を形成し、前記発色部を含む塗膜全体を硬化処理することを特徴とする。 - 特許庁

The light guide comprises substrate 1 and clad layer 2 formed on the substrate 1, and core part 3 which propagates a light signal in a specified pattern is formed in the clad layer 2, and at least either one of the clad layer 2 and the core part 3 is formed with the resin composition for forming a light guide.例文帳に追加

そして、基板１と、その基板１上に形成されたクラッド層２とを備え、上記クラッド層２中に所定パターンで、光信号を伝搬するコア部３が形成されてなる光導波路であって、上記クラッド層２およびコア部３の少なくとも一方が、上記光導波路形成用樹脂組成物によって形成されている。 - 特許庁

To provide a method for forming an electrode or a wiring pattern, which is made of a metal thin film that is uniform and has high adhesiveness, from a solution-free and resin-free raw material containing no solution and no resin component, by using an aerosol deposition method having a different film-formation principle from those of a screen printing method using a conventional metal paste composition, a photo-lithographic method and the like.例文帳に追加

従来の金属ペースト組成物を用いたスクリーン印刷法、フォトリソグラフィー法等とはその成膜原理が異なるエアロゾルデポジション法を用い、溶液や樹脂成分を含まない溶液，樹脂フリーの原料から、均一かつ密着性の高い金属薄膜からなる電極又は配線パターンを形成することができる方法を提供する。 - 特許庁

The pattern forming material contains at least a compound which generates an acid when irradiated with radiation and a composition obtained by bringing a binder resin having carboxyl groups and/or phenolic hydroxyl groups, a compound having two or more vinyl ether groups in one molecule and a nitrogen-containing resin binder into an acid catalyzed addition reaction.例文帳に追加

放射線照射により酸を生じる化合物およびカルボキシル基および／またはフェノール性水酸基を有するバインダ樹脂、１分子中に少なくとも２個以上のビニルエーテル基を有する化合物、および窒素含有樹脂結合剤を酸触媒付加反応させて得られる組成物を少なくとも含むパタン形成材料を用いる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, satisfactory line width roughness and satisfactory density distribution dependency in microfabrication of a semiconductor element using actinic rays or radiation, particularly KrF excimer laser light, electron beams or EUV light, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインウィズスラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having satisfactory sensitivity and resolving power and giving a resist pattern free from residue on development and having no density dependency even when an acid decomposable resin containing an introduced alicyclic hydrocarbon part is used in micro- photofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light of 193 nm wavelength.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光（波長１９３ｎｍ）を使用するミクロフォトファブリケ−ションにおいて、脂環式炭化水素部位が導入された酸分解性樹脂を用いたときでも、十分な感度及び解像力を有し、現像残査及び疎密依存性のないレジストパターンを与えるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a photosensitive resin composition which can maintain high adhesion and peeling characteristics, even if using a less rugged circuit board and is superior in plating and etching resistance and resolution, and a photosensitive element and a resist pattern which uses this resin composite, and to provide a printed circuit board.例文帳に追加

表面の凹凸が少ない回路形成用基板を用いる場合であっても、該基板に対する密着性と剥離特性との双方を高水準で維持することができ、耐めっき性、耐エッチング性及び解像性に優れた感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition or a transfer material being developable with a low alkaline developing solution even in the case of any of positive type and negative type photosensitive resin compositions or a photosensitive resin layer transfer material, having high resolution giving a pattern having excellent removing solution resistance after heat curing and exhibiting excellent aging stability of a photosensitive material.例文帳に追加

ポジ型、ネガ型の何れの感光性樹脂組成物、又は感光性樹脂層転写材料においても弱アルカリ性現像液による現像が可能で、解像度が高く、熱硬化処理後の剥離液耐性に優れたパターンが得られ、かつ感材の経時安定性にも優れた感光性樹脂組成物或いは転写材料を提供する。 - 特許庁

A pattern of a liquid-like composition in which a silver fine particle is dissolved or dispersed in a solvent is formed on the surface of a TFT array substrate 2 and is heated under atmosphere containing hydrogen radical, and the silver fine particle is sintered, thus allowing the hydrogen radical to react with an oxide film on the surface of the silver fine particle in sintering and reducing the oxide film.例文帳に追加

銀微粒子を溶媒に溶解又は分散させた液状組成物のパターンをＴＦＴアレイ基板２の表面に形成し、水素ラジカルを含む雰囲気下でこのパターンを加熱して、銀微粒子を焼結させるので、焼結の際、この水素ラジカルと銀微粒子の表面の酸化膜とを反応させることができ、酸化膜を還元することができる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition, in which the problems of the performance improvement technique of a microphoto application of its own using far ultraviolet ray, particularly ArF excimer laser beam are solved and concretely, the improvement of sensitivity and resolution and a problem of generation of development defect at the time of developing are resolved and which is small in roughness and fineness dependency and capable of obtaining an excellent resist pattern.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、具体的には、感度及び解像力に優れ、現像の際の現像欠陥発生の問題が解消され、疎密依存性が少なく優れたレジストパターンが得られるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

A color filter 10 is manufactured by using a colored pattern containing any one of a diketopyrrolopyrrole pigment, a halogenated zinc phthalocyanine pigment, a triarylmethane dye and an azo dye, a protective film formed of a radiation-sensitive resin composition containing an alkali-soluble resin and a compound expressed by the formula (1) or the formula (2), and a spacer.例文帳に追加

ジケトピロロピロール系顔料、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン系顔料、トリアリールメタン系染料およびアゾ系染料の内の何れかを含む着色パターンと、アルカリ可溶性樹脂並びに下式（１）または下式（２）の化合物を含有する感放射線性樹脂組成物から形成される保護膜とスペーサとを用いてカラーフィルタ１０を製造する。 - 特許庁

To obtain such an inorganic particle-containing resin composition and a transcribing film usable suitably for forming a pattern with a high dimensional accuracy and that is excellent in the storage stability and is preferably used for the formation of a panel material such as a dielectric layer in a plasma display panel, an electrode, a phosphor, a color filter, a partition wall and a black stripe (a matrix).例文帳に追加

寸法精度の高いパターンを形成するために好適に使用することが可能な、保存安定性に優れる、プラズマディスプレイパネルの誘電体層、電極、蛍光体、カラーフィルター、隔壁、ブラックストライプ（マトリクス）などのパネル材料の形成に好ましく用いられる無機粒子含有樹脂組成物および転写フィルムを提供すること。 - 特許庁

Industrial Design shall mean a creation on the shape, configuration, or the composition of lines or colors, or lines and colors, or the combination thereof in a three or two dimensional form which gives aesthetic values and can be realized in a three or two dimensional pattern and can be used to produce a product, good or an industrial commodity and a handy craft. 例文帳に追加

工業意匠(以下「意匠」という)とは，形状，輪郭又は立体若しくは平面形状における線又は色彩からなる構図若しくは線及び色彩又はそれらの組合せに関する創作であって，美的価値を有し，立体又は平面図形に実現可能で，製品，物品，工業製品又は手工芸品の生産に使用されるものである。 - 特許庁

The group III nitride semiconductor epitaxial substrate 10 comprises forming an ELO growth layer 4 of the composition of Al_xGa_1-xN (0≤x≤1) on a group III nitride layer 2 formed on a substrates 1, wherein the ELO (Epitaxial Lateral Overgrowth) growth layer 4 is formed using a mask pattern 3 consisting of carbon formed on the group III nitride layer 2.例文帳に追加

基板１上に形成されたＩＩＩ族窒化物層２上にＡｌ_ｘＧａ_１−ｘＮ（０≦ｘ≦１）なる組成のＥＬＯ成長層４が形成されてなり、ＥＬＯ（Epitaxial Lateral Overgrowth）成長層４は、ＩＩＩ族窒化物層２上に形成された炭素からなるマスクパターン３を用いて形成されたＩＩＩ族窒化物半導体エピタキシャル基板１０。 - 特許庁

To provide a polymer suitable for a positive photosensitive resin composition that includes no halogen atoms in its skeleton, is highly transparent to an i-ray from a mercury lamp and highly sensitive, can be developed with a developing liquid (2.38% TMAH aqueous solution) usually employed in a manufacturing process of a semiconductor device, and gives a thermoset relief pattern when cured at 280°C.例文帳に追加

骨格中にハロゲン原子を含まず、水銀ランプのｉ線に対する透明性が高く高感度であり、半導体装置の製造工程で通常使用される現像液（２．３８％ＴＭＡＨ水溶液）による現像が可能であり、２８０℃のキュアで熱硬化レリーフパターンが得られるポジ型感光性樹脂組成物に適したポリマーを提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern capable of effectively preventing occurrence of halation and stationary waves at the time of forming, on a highly reflective film like a metallic film, a positive chemically amplifiable resist having a fundamental composition comprising an acid generating compound by irradiation with radiation and a resin to be increased in solubility in an aqueous alkaline solution by action of an acid.例文帳に追加

放射線照射により酸を発生する化合物及び酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分から成る基本組成を有するポジ型化学増幅型レジストを金属膜などの高反射性膜に施す際に、有効にハレーション及び定在波の発生を防止してレジストパターンを形成しうる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition free of any safety problem, excellent in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a good development margin that a good pattern profile can be formed in a developing step even after the lapse of the optimum developing time, and to provide an interlayer dielectric and microlenses formed of the same.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびにそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること - 特許庁

The microcup array is manufactured by (a) coating a male mold where a pattern is preformed with a thermosetting or thermoplastic precursor composition to form a contiguous precursor layer on the male mold; (b) bringing the precursor layer into contact with a transfer sheet; (c) curing the precursor to form a cured microcapsule array; and (d) releasing the microcup array from the mold.例文帳に追加

マイクロカップアレイを製造するために、ａ）予めパターン形成した雄型上に熱硬化性または熱可塑性前駆体組成物を被覆して、隣接する前駆体層を雄型上に形成し、ｂ）前駆体層をトランスファーシートと接触させ、ｃ）前駆体を硬化させて、硬化したマイクロカップアレイを形成し、およびｄ）マイクロカップアレイから型をリリースする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition useful for a process using light with shorter wavelength than KrF excimer laser light, for example, F_2 excimer laser light (157 nm) or EUV (vacuum ultraviolet light 13 nm), allowing formation of resist pattern with high resolution and good shape of cross section, and to provide an alkali-soluble polysiloxane resin capable of providing a substrate provided with the resist layer.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー以下の短波長光、例えば、Ｆ_２エキシマレーザー（１５７ｎｍ）やＥＵＶ（真空紫外線１３ｎｍ）を光源とするプロセスに有用であり、高解像性で断面形状の良好なレジストパターンを形成可能なポジ型レジスト組成物およびそのレジスト層を設けた基材を提供できるアルカリ可溶性ポリシロキサン樹脂を提供すること。 - 特許庁