「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(93ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a radiation-sensitive composition which can suppress contamination of a baking furnace, a photomask, and the like, due to sublimation of a radiation-sensitive polymerization initiator component, will not generates foreign substances in a developer, also excels in developability and pattern profile, and is used for forming a colored layer of a color filter.例文帳に追加

感放射線性重合開始剤成分の昇華による焼成炉やフォトマスク等の汚染を抑制でき、かつ液中異物を生じることがなく、しかも現像性、パターン形状等にも優れた、カラーフィルタの着色層の形成に用いられる感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new radiation-sensitive acid generator having excellent storage stability, high transparency for radiation and high sensitivity, and to provide a positive radiation-sensitive resin composition containing the above radiation-sensitive acid generator and being excellent in the storage stability, sensitivity, resolution, pattern profile and so on.例文帳に追加

保存安定性に優れ、放射線に対する透明性が高く、かつ高感度の新規感放射線性酸発生剤、並びに該感放射線性酸発生剤を含有し、保存安定性、感度、解像度、パターン形状等に優れたポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a top layer film forming composition for forming a top layer film that hardly causes intermixing with a photoresist film, keeps a stable film state hardly eluting in an immersion liquid, can suppress generation of a development peeling defect, and allows formation of a resist pattern with high resolution.例文帳に追加

フォトレジスト膜とのインターミキシングが生じ難く、液浸液に溶出し難く安定な被膜を維持可能であり、現像剥離欠陥の発生を抑制することが可能であり、高解像度のレジストパターンを形成可能な上層膜を形成するための上層膜形成組成物を提供する。 - 特許庁

The imprinting method comprises irradiating, with UV rays, an aggregate of two or more superimposed imprint structures whose imprint resist layer, on a substrate, composed of a UV-curable resin composition has been pressed with an irregular pattern of a mold in such a way that the rays penetrate the gravity-center part of the aggregate.例文帳に追加

基板上の紫外線硬化樹脂組成物からなるインプリントレジスト層にモールドの凹凸パターンを押し付けたインプリント構造体を複数重ね合わせてなる集合体に対し、該集合体の重心部を通過するように紫外線を照射するインプリント方法である。 - 特許庁

On the basis of each accompaniment sequence information and according to the priority shown by priority information PR, the edition processing part ED converts accompaniment pattern information into accompaniment data AC matching the main melody of the original melody data OMa, and generates new musical composition data NM of a desired data size having the converted accompaniment data AC.例文帳に追加

編集処理部ＥＤは、各伴奏シーケンス情報に基づき、優先情報ＰＲが示す優先性に従って、原曲データＯＭａの主旋律に適した伴奏データＡＣに変換し、変換された伴奏データＡＣをもつ所望データサイズの新曲データＮＭを生成する。 - 特許庁

When a self-photographing mode is designated, a face position detecting means 180 detects the present face position from a through picture; and a reference position of a face, in a composition pattern preset by an evaluation value calculating part 181, is compared with the present face position to calculate an evaluation value.例文帳に追加

セルフ撮影モードが指定されたときには、スルー画から顔位置検出手段１８０で現在の顔位置を検出して、評価値算出手段１８１に予め設定された構図パターン中の顔の基準位置と現在の顔位置とを比較し評価値を算出する。 - 特許庁

To provide an ink composition for manufacturing a color filter which can be accurately transferred to a base material to be printed following a projecting and recessed pattern and can prevent white omission when the color filter is manufactured using a letterpress reversed printing method and to provide a method for manufacturing the color filter using the ink.例文帳に追加

凸版反転印刷法によるカラーフィルターを作製する際、凹凸パターン通りに、精度良く、インキ組成物を被印刷基材に転写することができ、かつ、転写時の白抜け防止を可能とするカラーフィルター作製用インキ組成物および該インキを用いたカラーフィルターの製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problems of a performance improving technique in microfabrication of a semiconductor element with a high energy line, an X-ray, an electron beam or EUV light, and to provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and good line edge roughness.例文帳に追加

高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition excellent in suitability to coating particularly on a substrate of a larger diameter by a spin coating method, capable of stably performing microfabrication, excellent in shelf stability and suitable for use as a chemical amplification type resist forming a resist film which gives a good pattern shape.例文帳に追加

特に大口径化された基板へのスピンコート法による塗布性に優れ、微細加工を安定的に行うことができ、保存安定性に優れ、良好なパターン形状を与えるレジスト被膜を形成する化学増幅型レジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has excellent polymerization curability when exposed to light and high exposure sensitivity and which is capable of forming a color pattern having excellent profile characteristics, a photospacer having excellent cross-sectional shape uniformity and excellent height uniformity, and a protective film having excellent uniformity and hardness even with a short heating time.例文帳に追加

露光時の重合硬化性に優れ、露光感度が高く、短い加熱処理時間でもプロファイル特性に優れる着色パターン、断面形状の均一性および高さ均一性に優れるフォトスペーサー、均一性や硬度に優れる保護膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a green photosensitive coloring composition for a color filter having high luminance, enabling suppression of brightness reduction in color filter formation process, being excellent in heat resistance and allowing a good pattern shape of a filter segment; and a color filter using this, which has high luminance and high definition.例文帳に追加

高輝度であって、カラーフィルタの形成工程においても明度の低下を抑制することができ、耐熱性に優れ、フィルタセグメントのパターン形状についても良好なカラーフィルタ用緑色感光性着色組成物、及びこれを用いた高輝度及び高精細のカラーフィルタを提供すること。 - 特許庁

Housing base material is coated on its surface with a coating composition including a curable soft or semi-rigid polymer, organic polymer particles having the shell-core structure to give the housing material for pet animals having the coating film, on the surface, that has finely uneven pattern on the surface, elasticity and self-repairing property.例文帳に追加

建材基材の表面に、硬化性軟質ないし半硬質ポリマーとコア／シェル構造を有する有機ポリマー粒子とを含む塗布組成物を塗布して、表面に微細な凹凸を有し、弾力性、自己修復性を有する塗膜を設けたことを特徴とする愛玩動物用建材。 - 特許庁

To provide a polymer which is high in sensitivity, resolution and light transmittance, when used for resist compositions for DUV excimer laser lithography or the like, is little in defects, when developed, and is excellent in copolymerizability with other monomers, to provide a resist composition, and to provide a method for producing a substrate on which a resist pattern is formed.例文帳に追加

ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、現像時のディフェクトが少なく、他の単量体との共重合性に優れた重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type resist composition which exhibits sufficient transmissivity when an exposure light source for F_2 excimer laser light (157 nm) is used, has a fast etching speed, and improves roughness of a sample surface after dry etching, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源使用時に十分な透過性を示し、エッチング速度が速く、かつドライエッチングを実施した後のサンプル表面の荒れが改善された化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

When, using such the photocurable/thermosetting conductive composition, a pattern of a coating film is formed by exposure and development and then hardened by heating at 80-300°C, the fine conductive circuit having excellent conductivity and adhesiveness can easily be formed without the use of a complicated process.例文帳に追加

このような光硬化性熱硬化性導電組成物によれば、塗膜のパターンを露光現像にて形成し、その後、８０℃〜３００℃で熱硬化することにより、導電性と密着性が共に優れる微細な導電回路を複雑な工程を経ることなく容易に形成することができる。 - 特許庁

To provide a laminate which is produced by forming a pattern layer on a substrate layer made of a rubber-reinforced resin composition and covering it with a transparent resin layer, excellent in appearance, easy of production, and also excellent in adhesion between layers and/or in solvent resistance of an anchor coat layer.例文帳に追加

ゴム強化樹脂組成物からなる基材層に図柄層を形成して透明樹脂層で被覆してなる積層体であって、外観に優れ、製造が容易な積層体、さらには各層間の密着性及び／又はアンカーコート層の耐溶剤性にも優れた積層体を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the color filter is characterized in that a colored layer pattern is formed by a screen printing method by using an ink composition for forming the colored layer containing pigment in a range of 24 to 95 wt.% by a solid content ratio.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、固形分比で２４重量％〜９５重量％の範囲内で顔料を含有する着色層形成用インク組成物を用い、スクリーン印刷法により着色層パターンを形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative development excellent in line width roughness (LWR), exposure latitude (EL) and depth of focus (DOF) and a pattering process using the same, in order to more stably form a high-accuracy fine pattern for manufacturing a highly-integrated and high-accuracy electronic device.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ（ＬＷＲ）、露光ラチチュード（ＥＬ）及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition for an inkjet which is coated by an inkjet system, is optically settable with efficiency even if exposure is low, and further, can make thermosettability after optical setting satisfactory, thus can form a fine resist pattern with high precision.例文帳に追加

インクジェット方式により塗工される硬化性組成物であって、露光量が少なくても、効率的に光硬化させることができ、更に光硬化後の熱硬化性を良好にすることができ、従って微細なレジストパターンを精度よく形成することができるインクジェット用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

On the oriented film, the liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound is applied and is maintained at a temperature exhibiting a liquid crystal phase, and the liquid-crystalline component is aligned in the alignment directions which are different from each other in accordance with the directions of the slow axes 71a, 71b in each region corresponding to the multiple pattern regions.例文帳に追加

配向膜上に、重合性液晶化合物を含む液晶組成物を塗布し液晶相を示す温度に保持して、複数のパターン領域に対応する領域毎に、液晶性成分を互いに異なる配向方向７１ａ，７１ｂに配列させる。 - 特許庁

This substrate 1 with electrodes has a plurality of electrodes 20 formed on a substrate 10 by a predetermined pattern; and, in each electrode 20, side surfaces 21 thereof or the side surfaces 21 and parts in the vicinities thereof have a composition different from that of the other part 23 and are formed into insulation parts 22 having insulating properties.例文帳に追加

電極付き基板１は基板１０上に所定のパターンで形成された複数の電極２０を有するもので、電極２０は側面２１若しくは側面２１及びその近傍部分が他部分２３と異なる組成を有し絶縁性を有する絶縁部２２となっている。 - 特許庁

To provide a compound having a sulfonyl structure, giving excellent resist pattern and useful as an acid generating agent sensitive to active radiation such as far ultraviolet radiation, a radiation-sensitive acid generating agent produced by using the compound and a positive-type or negative-type chemical- amplification radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

遠紫外線等の活性放射線に感応する酸発生剤として有用で、優れたレジストパターンを可能にするスルホニル構造を有する化合物、それを用いた感放射線性酸発生剤並びに化学増幅型のポジ型およびネガ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a thermosetting resin composition which can be suitably used as an electronic material, especially as a covering material for covering a conductor circuit pattern, is excellent in low-temperature curability and low stress property, has adhesiveness and flexibility, and is especially excellent in electric insulation reliance.例文帳に追加

本発明は、電子材料、特には、導体回路パターンを被覆するための被覆形成材として好適に用いることができる、低温硬化性、低応力性能に優れ、接着性や屈曲性も兼ね備え、電気絶縁信頼に特に優れた熱硬化性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which simultaneously satisfies sufficiently high sensitivity, high definition, successful pattern geometry and good invacuo PED and line edge roughness under irradiation with electron beams or X-rays, further has high sensitivity and high contrast in characteristic evaluation by irradiation with EUV light.例文帳に追加

電子線又はＸ線照射下で十分な高感度、高解像性、良好なパターン形状と、良好な真空中ＰＥＤとラインエッジラフネスを同時に満足し、さらにＥＵＶ光の照射による特性評価においても高感度で高コントラストなポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition prevented from occurrence of change of the line width of a resist pattern by PED and that of T forms and that of stationary waves even on a substrate high in reflectance and high in resolution and useful as a chemically sensitizable resist.例文帳に追加

ＰＥＤによりレジストパターンが線幅の変化を生じたりＴ型形状になったりすることがなく、反射率の高い基板上でも定在波を発生することがなく、解像性能に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist polymer capable of obtaining a resist composition which excels in a pattern shape, resistance to dry etching, line width stability against the change in heating temperature after exposure and the like and has sufficient sensitivity and an excellent image resolving degree, and a resist monomer for obtaining the polymer.例文帳に追加

パターン形状、ドライエッチング耐性、露光後の加熱温度の変化に対する線幅安定性等に優れ、十分な感度を有し、解像度にも優れるレジスト組成物を得ることができるレジスト用重合体、および該重合体を得るためのレジスト用単量体を提供する。 - 特許庁

To provide a positive-type photoresist composition, which ensures improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and has an effect of improving the margin for exposure (particularly a margin for exposure of isolated lines), that is, ensures small changes in the line width of isolated lines when light exposure is varied.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、更に露光マージン（特に孤立ラインの露光マージン）に対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition which has superior storage stability for resist liquid and post-exposure temporal stability as well as high sensitivity and high resolving power in pattern formation by irradiation with an electron beam or EUV in microprocessing of a semiconductor element.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上及び技術の課題を解決することであり、電子線又はＥＵＶの照射によるパターン形成において、高い感度及び解像度とともに、レジスト液の保存安定性及び引き置き経時安定性に優れたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The optimum Yes/No type question tree is rapidly prepared by excluding retrieval conditions with no retrieval result existing in a data group to be divided prior to the pattern preparation of the Yes/No type question tree without preparing all the considered question tree composition patterns.例文帳に追加

考えられる質問木構成パターンの全てを作成するのではなく、Ｙｅｓ／Ｎｏ型質問木のパターンを作成する前に、分割対象となるデータ群に検索結果が存在しない検索条件を除外し、これによって、最適なＹｅｓ／Ｎｏ型質問木を、高速に作成するシステムである。 - 特許庁

The multicolor pattern coating composition of this invention is composed by dispersing a coloring paint into an aqueous dispersion medium in particles, wherein the aqueous dispersion medium has the viscosity of 0.1-5.0 Pa s and the specific gravity of 0.95-1.10, and the specific gravity difference of the aqueous dispersion medium and the coloring paint is not more than 0.05.例文帳に追加

本発明の多彩模様塗料組成物は、水性分散媒に、着色塗料が粒状に分散されてなり、水性分散媒の粘度が０．１〜５．０Ｐａ・ｓ、比重が０．９５〜１．１０であり、水性分散媒と着色塗料の比重差が０．０５以下であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a resin for a resist usable in a photosensitive composition excellent in transparency to short wavelength light, having high dry etching resistance and capable of forming a resist pattern having good resolution and high adhesion by alkali development and a monomer for producing the resin.例文帳に追加

短波長光に対する透明性が優れるとともに高いドライエッチング耐性を備え、かつアルカリ現像で解像性の良好で密着性の高いレジストパターンを形成することができる感光性組成物に用いることができるレジスト用樹脂およびそれを製造するためのモノマーの提供。 - 特許庁

In addition, the core is manufactured by performing pattern exposure and development after laminating an optical curing film formed of an epoxy resin composition containing an epoxy resin having 3,4-epoxy cyclohexenyl skeleton, liquid-like bisphenol epoxy resin, solid bisphenol epoxy resin and an optical cation curing agent.例文帳に追加

またコアは、３，４−エポキシシクロヘキセニル骨格を有するエポキシ樹脂、液状ビスフェノール型エポキシ樹脂、固形ビスフェノール型エポキシ樹脂、及び光カチオン硬化剤を含有するエポキシ樹脂組成物で形成される光硬化性フィルムをラミネートした後に、パターン露光及び現像することによって作製される。 - 特許庁

The method uses the etching composition which effectively protects a pattern or a storage electrode composed of polysilicon and selectively eliminates the oxidized film in a wet etching process, as a result the oxidized film is eliminated in a high etching ratio and impairment of polysilicon film is inhibited.例文帳に追加

ポリシリコンで構成されたパターン又はストレージ電極を効果的に保護することができるエッチング組成物を用いて、ウエットエッチング工程で酸化膜を選択的に除去するので、高いエッチング選択比で酸化膜を除去できるとともに、ポリシリコン膜の損傷を防止することができる。 - 特許庁

The pattern forming material comprises a photosensitive resin composition containing a binder, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a condensed cyclic compound having an aromatic ring and having two or more hydroxyl groups in at least one aromatic ring.例文帳に追加

バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び芳香族環を有する縮合した環状化合物であって少なくとも１つの芳香環に２つ以上の水酸基を有する化合物を含む感光性樹脂組成物からなることを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁

Addition of a resol resin of 1-4 pts.wt. to the polyimide compound can provide the polyimide composition that can form a prescribed pattern in a good state by alkali development using the aqueous alkali solution, has plating resistance, and provides the flexible wiring board.例文帳に追加

このポリイミド化合物に１重量部から４重量部のレゾール樹脂を添加させることで、アルカリ水溶液によるアルカリ現像によって良好に所定のパターンが形成できると共に、耐めっき性が付与されたポリイミド組成物及びフレキシブル配線板を提供することができる。 - 特許庁

When the plastic lens is produced by polymerizing the composition and curing the polymer, a polymerization pattern in which the highest polymerization temperature is 125-140°C is used.例文帳に追加

エピスルフィド基を１分子中に少なくとも１個以上有する化合物を主成分として含む組成物を重合硬化させプラスチックレンズを製造するにあたり、加熱重合時の最高温度が１２５℃以上１４０℃以下であることを特徴とする重合パターンを用いて、プラスチックレンズを製造する。 - 特許庁

In the beginning, both men and women wore furisode for their Japanese dress; the story is told of a young woman who modeled after and then wore the famous furisode made of purple silk crepe of the young man she loved--which is said to be the cause of the Great Meireki Fire (of 1657, also called the "Furisode Fire")--which seems to suggest that in terms of color, pattern and composition, there was very little difference between men's and women's furisode at that time. 例文帳に追加

元は男女とも和服に振袖を採用し、明暦の大火の原因と伝えられる紫縮緬の振袖も少女が意中の若衆の衣装を写して着用したものといわれ、色柄や構造に男女差がほとんど無かったことが伺える。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a photosensitive resin composition having good sensitivity, resolution, adhesion and tent reliability, and excellent in scum dispersibility and suppression of occurrence of sludge in a developer, and also to provide a photosensitive element using the same, a resist pattern forming method, and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

感度、解像度、密着性及びテント信頼性が良好であり、現像液におけるスカム分散性及びスラッジの発生低減に優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To solve problems relating to the techniques for improving the performance in microfabrication of a semiconductor device using high energy rays, X rays, electron beams or EUV light, and to provide a positive resist composition satisfying requirements of high sensitivity, high resolution, a favorable pattern profile and favorable line edge roughness.例文帳に追加

高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist composition for a thick film suitable for forming a thick film having high sensitivity, ensuring good developed profile and suitable for use as a connection terminal forming material, and provide a thick film photoresist layered product, a method for producing a resist pattern usng the same and a method for producing a connection terminal.例文帳に追加

高感度で、現像プロファイルが良好である上に、接続端子形成用材料として好適な厚膜形成に適する厚膜用化学増幅型ホトレジスト組成物、厚膜ホトレジスト積層体、これを用いたレジストパターンの製造方法及び接続端子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a chemically amplifying positive or negative radiation sensitive composition capable of stably forming a fine pattern excellent in machining performance in a small space, critical dimension uniformity, maintainability and stability as a resist, having small density dependence in high accuracy.例文帳に追加

レジストとして、狭スペースの加工性能、多様なパターンデザインにおけるＣＤ均一性および保存安定性に優れ、粗密依存性が小さく、微細パターンを高精度で安定に形成することができる化学増幅型ポジ型またはネガ型の感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photospacer (photospacer to maintain a cell gap between a color filter substrate and a TFT substrate) of which plastic deformation is very small, and the resin composition for the photospacer useful therefor, of which the developing property in pattern forming the photospacer is satisfactory.例文帳に追加

塑性変形量が極めて小さいフォトスペーサー（カラーフィルターとＴＦＴ基板との間のセルギャップを維持するフォトスペーサー）、およびこれに有用なフォトスペーサー用樹脂組成物であって、フォトスペーサーのパターンを形成する際の現像性が良好な樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition capable of allowing formation of a photoresist film that has a little amount of an eluted substance in a liquid for immersion exposure, with which the film is brought into contact during immersion exposure, that shows a large receding contact angle with the liquid for immersion exposure, and gives a fine resist pattern with high accuracy.例文帳に追加

液浸露光時に接触する液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、液浸露光用液体との後退接触角が大きい、微細なレジストパターンを高精度に形成することが可能なフォトレジスト膜を形成し得る感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In manufacturing the substrate, constituting the liquid crystal display device with a liquid crystal interposed between itself and the facing substrate, and having at least the alignment control protrusions, the alignment control protrusions are formed by pattern inversion effect of a positive photosensitive resin composition.例文帳に追加

対向する基板との間で液晶を挟持する液晶表示装置を構成する、少なくとも配向制御用突起を有する基板の製造において、該配向制御用突起が、ポジ型感光性樹脂組成物のパターン反転効果により形成されてなるものとする。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition can form a resist film to be used in a resist pattern forming method including a liquid immersion exposure step using bicyclohexyl as the liquid immersion exposure liquid, wherein the refractive index of the resist film to radiation having a wavelength of 193 nm is 1.64 to 1.75.例文帳に追加

液浸露光用液体としてビシクロヘキシルを用いた液浸露光工程を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト膜を形成することができ、レジスト膜の、波長１９３ｎｍの放射線に対する屈折率が１．６４〜１．７５である感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁