「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(93ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a radiation-sensitive resin composition which is a material of a resist film capable of obtaining good pattern configuration, excellent in depth of focus, less liable to elute into an immersion liquid for liquid immersion lithography, such as water, having a large receding contact angle to the immersion liquid, and less liable to cause development defects.例文帳に追加

良好なパターン形状を得ることが可能で、焦点深度に優れ、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive ink composition and the like by which, when applying a conductive ink to an object of application to form a pattern, a volume resistivity close to that of bulk silver can be obtained even by firing at ≤150°C for 30 min (low temperature firing), though depending on the thickness of the film applied.例文帳に追加

導電性インキを塗布対象物に塗布してパターンを形成するにあたり、塗布された膜厚にも依存するが１５０［℃］以下３０分間の焼成（低温焼成）によっても、バルク銀に近い体積抵抗率が得られる、導電性インキ組成物などを提供する。 - 特許庁

The composition for forming a color pattern contains (A) a pigment, (B) a dispersion resin having an acid value of 20 to 300 mg/g and a weight average molecular weight of 3,000 to 100,000, (C) a photopolymerizable compound, (D) a photopolymerization initiator, and (E) an organic solvent, and satisfies the following condition.例文帳に追加

（Ａ）顔料、（Ｂ）酸価２０〜３００ｍｇ／ｇ、重量平均分子量３，０００〜１００，０００である分散樹脂、（Ｃ）光重合性化合物、（Ｄ）光重合開始剤、及び（Ｅ）有機溶剤を含有し、下記の条件を満たすことを特徴とする着色パターン形成用組成物。 - 特許庁

To provide a photosensitive siloxane composition which has such properties as high heat resistance, high transparency and a low dielectric constant, and which is for use in formation of a planarizing film for a TFT substrate or an interlayer insulation film having a pattern of good resolution or a core or cladding material of an optical waveguide.例文帳に追加

高耐熱性、高透明性、低誘電率性の特性を併せ持ち、かつ良好な解像度のパターンを有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物を提供する - 特許庁

A pattern having a water-repellent/oil-repellent portion is formed using a radiation-sensitive resin composition, and a high refractive index resin solution using a solvent having a low wetting property to the water-repellent/oil-repellent portion is applied thereon to form two areas different from each other in refractive index.例文帳に追加

撥水・撥油性部位を持つパターンを感放射線性樹脂組成物を用いて形成し、その上に、撥水・撥油性部位に対し濡れ性が小さい溶剤を用いた高屈折率の樹脂溶液を塗布することにより、屈折率の異なる二つの領域を形成する方法。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition which can suppress contamination of a baking furnace, a photomask, and the like, due to sublimation of a radiation-sensitive polymerization initiator component, will not generates foreign substances in a developer, also excels in developability and pattern profile, and is used for forming a colored layer of a color filter.例文帳に追加

感放射線性重合開始剤成分の昇華による焼成炉やフォトマスク等の汚染を抑制でき、かつ液中異物を生じることがなく、しかも現像性、パターン形状等にも優れた、カラーフィルタの着色層の形成に用いられる感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new radiation-sensitive acid generator having excellent storage stability, high transparency for radiation and high sensitivity, and to provide a positive radiation-sensitive resin composition containing the above radiation-sensitive acid generator and being excellent in the storage stability, sensitivity, resolution, pattern profile and so on.例文帳に追加

保存安定性に優れ、放射線に対する透明性が高く、かつ高感度の新規感放射線性酸発生剤、並びに該感放射線性酸発生剤を含有し、保存安定性、感度、解像度、パターン形状等に優れたポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a top layer film forming composition for forming a top layer film that hardly causes intermixing with a photoresist film, keeps a stable film state hardly eluting in an immersion liquid, can suppress generation of a development peeling defect, and allows formation of a resist pattern with high resolution.例文帳に追加

フォトレジスト膜とのインターミキシングが生じ難く、液浸液に溶出し難く安定な被膜を維持可能であり、現像剥離欠陥の発生を抑制することが可能であり、高解像度のレジストパターンを形成可能な上層膜を形成するための上層膜形成組成物を提供する。 - 特許庁

The imprinting method comprises irradiating, with UV rays, an aggregate of two or more superimposed imprint structures whose imprint resist layer, on a substrate, composed of a UV-curable resin composition has been pressed with an irregular pattern of a mold in such a way that the rays penetrate the gravity-center part of the aggregate.例文帳に追加

基板上の紫外線硬化樹脂組成物からなるインプリントレジスト層にモールドの凹凸パターンを押し付けたインプリント構造体を複数重ね合わせてなる集合体に対し、該集合体の重心部を通過するように紫外線を照射するインプリント方法である。 - 特許庁

On the basis of each accompaniment sequence information and according to the priority shown by priority information PR, the edition processing part ED converts accompaniment pattern information into accompaniment data AC matching the main melody of the original melody data OMa, and generates new musical composition data NM of a desired data size having the converted accompaniment data AC.例文帳に追加

編集処理部ＥＤは、各伴奏シーケンス情報に基づき、優先情報ＰＲが示す優先性に従って、原曲データＯＭａの主旋律に適した伴奏データＡＣに変換し、変換された伴奏データＡＣをもつ所望データサイズの新曲データＮＭを生成する。 - 特許庁

When a self-photographing mode is designated, a face position detecting means 180 detects the present face position from a through picture; and a reference position of a face, in a composition pattern preset by an evaluation value calculating part 181, is compared with the present face position to calculate an evaluation value.例文帳に追加

セルフ撮影モードが指定されたときには、スルー画から顔位置検出手段１８０で現在の顔位置を検出して、評価値算出手段１８１に予め設定された構図パターン中の顔の基準位置と現在の顔位置とを比較し評価値を算出する。 - 特許庁

To provide an ink composition for manufacturing a color filter which can be accurately transferred to a base material to be printed following a projecting and recessed pattern and can prevent white omission when the color filter is manufactured using a letterpress reversed printing method and to provide a method for manufacturing the color filter using the ink.例文帳に追加

凸版反転印刷法によるカラーフィルターを作製する際、凹凸パターン通りに、精度良く、インキ組成物を被印刷基材に転写することができ、かつ、転写時の白抜け防止を可能とするカラーフィルター作製用インキ組成物および該インキを用いたカラーフィルターの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for forming a color filter barrier plate which has excellent compatibility of an ink repellent agent, favorable surface appearance after making a film and pattern shape, and excellent surface ink repellency, and on the other hand, maintains surface ink repellency even after ordinary washing or a lapse of time.例文帳に追加

撥インキ剤の相溶性に優れ、製膜後の表面外観ならびにパターン形状が良好であり、表面撥インキ性に優れる一方で、通常の洗浄や時間が経過しても表面撥インキ性を維持することができるカラーフィルター隔壁形成用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To solve the problems of a performance improving technique in microfabrication of a semiconductor element with a high energy line, an X-ray, an electron beam or EUV light, and to provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and good line edge roughness.例文帳に追加

高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition excellent in suitability to coating particularly on a substrate of a larger diameter by a spin coating method, capable of stably performing microfabrication, excellent in shelf stability and suitable for use as a chemical amplification type resist forming a resist film which gives a good pattern shape.例文帳に追加

特に大口径化された基板へのスピンコート法による塗布性に優れ、微細加工を安定的に行うことができ、保存安定性に優れ、良好なパターン形状を与えるレジスト被膜を形成する化学増幅型レジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has excellent polymerization curability when exposed to light and high exposure sensitivity and which is capable of forming a color pattern having excellent profile characteristics, a photospacer having excellent cross-sectional shape uniformity and excellent height uniformity, and a protective film having excellent uniformity and hardness even with a short heating time.例文帳に追加

露光時の重合硬化性に優れ、露光感度が高く、短い加熱処理時間でもプロファイル特性に優れる着色パターン、断面形状の均一性および高さ均一性に優れるフォトスペーサー、均一性や硬度に優れる保護膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a green photosensitive coloring composition for a color filter having high luminance, enabling suppression of brightness reduction in color filter formation process, being excellent in heat resistance and allowing a good pattern shape of a filter segment; and a color filter using this, which has high luminance and high definition.例文帳に追加

高輝度であって、カラーフィルタの形成工程においても明度の低下を抑制することができ、耐熱性に優れ、フィルタセグメントのパターン形状についても良好なカラーフィルタ用緑色感光性着色組成物、及びこれを用いた高輝度及び高精細のカラーフィルタを提供すること。 - 特許庁

Housing base material is coated on its surface with a coating composition including a curable soft or semi-rigid polymer, organic polymer particles having the shell-core structure to give the housing material for pet animals having the coating film, on the surface, that has finely uneven pattern on the surface, elasticity and self-repairing property.例文帳に追加

建材基材の表面に、硬化性軟質ないし半硬質ポリマーとコア／シェル構造を有する有機ポリマー粒子とを含む塗布組成物を塗布して、表面に微細な凹凸を有し、弾力性、自己修復性を有する塗膜を設けたことを特徴とする愛玩動物用建材。 - 特許庁

This radiation-sensitive resin composition is used for forming a resist film for use in a resist pattern formation method including a liquid dipping exposure process using bicyclohexyl as a liquid for liquid dipping exposure, and the static contact angle of a formed resist film to the hydroxyl is 30-90°.例文帳に追加

液浸露光用液体としてビシクロヘキシルを用いた液浸露光工程を含むレジストパターン形成方法で使用されるレジスト膜の形成に用いられ、形成されたレジスト膜の、ビシクロヘキシルに対する静的接触角が３０〜９０°である感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide a powder coating composition which is adaptable to any powder coating material, can be produced easily at a low cost without changing the production process, and can form a satin-like uneven-patterned coating film with high design properties expressed by a homogeneous, compact, and fine pattern.例文帳に追加

任意の粉体塗料に適用可能で、製造工程を何ら変更する事無く容易且つ安価に粉体塗料を得ることができ、均一かつ緻密で微細な模様で表現される、意匠性の高いサテン調の凹凸模様塗膜を形成する粉体塗料組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a stripping liquid composition for removing a color resist to be used in the process of manufacturing a color filter of a TFT-LCD so that defective color filter substrates which are conventionally mostly discarded because of the difficulty of removal of the color resist pattern can be reused and the production yield can be improved.例文帳に追加

カラーレジストパターンの除去が困難でほとんど廃棄された不良のカラーフィルター基板を再使用して生産収率を向上させることができるＴＦＴ-ＬＣＤのカラーフィルター製造工程中に使用されるようにカラーレジストを除去するための剥離液組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive refractive index variable composition which can easily vary the refractive index of a material to produce sufficiently large difference in the varied refractive indices and which can give a stable refractive index pattern or an optical material without depending on the conditions for use afterwards.例文帳に追加

材料の屈折率変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した屈折率差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によらずに安定な屈折率パターンや光学材料を与えることができる感放射線性屈折率変化性組成物を提供すること。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition for a thermal flow pattern forming system contains (a) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (b) a resin or a mixture which is decomposed by the action of the acid to increase it solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（ｂ）酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂又は混合物、を含有することを特徴とするサーマルフローパターン形成方式用ポジ型感光性組成物。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high radiation sensitivity, having such a development margin as to form a good pattern profile even in a developing time exceeding the optimum developing time in a developing step, and capable of easily forming a patterned thin film excellent in adhesion.例文帳に追加

高い放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a new radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, having excellent basic properties as a resist, e.g. sensitivity, resolution and pattern shape, not causing development defects in microfabrication and capable of producing semiconductor devices in a high yield.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Since the photosensitive resin composition can be developed with only an aqueous alkali solution as a developing solution at a high developing speed, a good light-colored negative type pattern film having high sensitivity, high resolution and little reduction in film thickness can be formed while preventing coloration.例文帳に追加

このような感光性樹脂組成物によれば、アルカリ水溶液のみを現像液として用い、迅速な現像速度において現像でき、その結果、高感度および高解像度で、膜減りの少ない、良好なネガ型のパターンの皮膜を、着色を防止して淡色で形成することができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an artificial marble having natural stock feeling, transparent feeling, depth feeling and high grade feeling which do not incorporate in prior art by forming a resin layer with a pattern having the transparent feeling and the depth feeling and using a translucent type as a casting resin composition.例文帳に追加

透明感や深み感のある模様付き樹脂層を形成すると共に、注型用樹脂組成物として半透明タイプのものを用いることによって、従来にない天然素材感、透明感、深み感、高級感を備えた人造大理石の製造方法を提供する。 - 特許庁

The chemically embossed foamed decorative material is obtained by at least applying a pattern to the surface of a molded article, which comprises a foamable resin composition containing a halogen-free resin, a foaming agent and a metal compound foaming accelerator but not a liquid component, by ink containing a foaming inhibitor.例文帳に追加

非ハロゲン樹脂、発泡剤および金属化合物発泡促進剤を含有し、かつ液状成分は含有しない発泡性樹脂組成物からなる成形品の表面に、発泡抑制剤含有インキで少なくとも部分的に模様を付与し、加熱発泡したケミカルエンボス発泡装飾材。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition for exposure with far UV adaptable to exposure in the far UV region using ArF or KrF as a light source in production of a semiconductor device, ensuring improved dimensional uniformity of a resist pattern and excellent also in various properties as a resist, such as resolving power and focal depth.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、レジストパターンの寸法均一性が改善され、さらに解像力、焦点深度などのレジスト諸特性にも優れた遠紫外線露光用ポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive variable refractive index composition for an optical material so that the refractive index of the material can be varied by an easy method, the difference in the varied refractive indices is sufficiently large, and a stable refractive index pattern and optical material can be obtained without depending on the succeeding use conditions.例文帳に追加

材料の屈折率変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した屈折率差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によらずに安定な屈折率パターンや光学材料を与えることができる感放射線性、屈折率変化性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a resin for a resist usable in a photosensitive composition excellent in transparency to short wavelength light, having high dry etching resistance and capable of forming a resist pattern having good resolution and high adhesion by alkali development and a monomer for producing the resin.例文帳に追加

短波長光に対する透明性が優れるとともに高いドライエッチング耐性を備え、かつアルカリ現像で解像性の良好で密着性の高いレジストパターンを形成することができる感光性組成物に用いることができるレジスト用樹脂およびそれを製造するためのモノマーの提供。 - 特許庁

In addition, the core is manufactured by performing pattern exposure and development after laminating an optical curing film formed of an epoxy resin composition containing an epoxy resin having 3,4-epoxy cyclohexenyl skeleton, liquid-like bisphenol epoxy resin, solid bisphenol epoxy resin and an optical cation curing agent.例文帳に追加

またコアは、３，４−エポキシシクロヘキセニル骨格を有するエポキシ樹脂、液状ビスフェノール型エポキシ樹脂、固形ビスフェノール型エポキシ樹脂、及び光カチオン硬化剤を含有するエポキシ樹脂組成物で形成される光硬化性フィルムをラミネートした後に、パターン露光及び現像することによって作製される。 - 特許庁

Addition of a resol resin of 1-4 pts.wt. to the polyimide compound can provide the polyimide composition that can form a prescribed pattern in a good state by alkali development using the aqueous alkali solution, has plating resistance, and provides the flexible wiring board.例文帳に追加

このポリイミド化合物に１重量部から４重量部のレゾール樹脂を添加させることで、アルカリ水溶液によるアルカリ現像によって良好に所定のパターンが形成できると共に、耐めっき性が付与されたポリイミド組成物及びフレキシブル配線板を提供することができる。 - 特許庁

When the plastic lens is produced by polymerizing the composition and curing the polymer, a polymerization pattern in which the highest polymerization temperature is 125-140°C is used.例文帳に追加

エピスルフィド基を１分子中に少なくとも１個以上有する化合物を主成分として含む組成物を重合硬化させプラスチックレンズを製造するにあたり、加熱重合時の最高温度が１２５℃以上１４０℃以下であることを特徴とする重合パターンを用いて、プラスチックレンズを製造する。 - 特許庁

The method uses the etching composition which effectively protects a pattern or a storage electrode composed of polysilicon and selectively eliminates the oxidized film in a wet etching process, as a result the oxidized film is eliminated in a high etching ratio and impairment of polysilicon film is inhibited.例文帳に追加

ポリシリコンで構成されたパターン又はストレージ電極を効果的に保護することができるエッチング組成物を用いて、ウエットエッチング工程で酸化膜を選択的に除去するので、高いエッチング選択比で酸化膜を除去できるとともに、ポリシリコン膜の損傷を防止することができる。 - 特許庁

The pattern forming material comprises a photosensitive resin composition containing a binder, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a condensed cyclic compound having an aromatic ring and having two or more hydroxyl groups in at least one aromatic ring.例文帳に追加

バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び芳香族環を有する縮合した環状化合物であって少なくとも１つの芳香環に２つ以上の水酸基を有する化合物を含む感光性樹脂組成物からなることを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁

In the beginning, both men and women wore furisode for their Japanese dress; the story is told of a young woman who modeled after and then wore the famous furisode made of purple silk crepe of the young man she loved--which is said to be the cause of the Great Meireki Fire (of 1657, also called the "Furisode Fire")--which seems to suggest that in terms of color, pattern and composition, there was very little difference between men's and women's furisode at that time. 例文帳に追加

元は男女とも和服に振袖を採用し、明暦の大火の原因と伝えられる紫縮緬の振袖も少女が意中の若衆の衣装を写して着用したものといわれ、色柄や構造に男女差がほとんど無かったことが伺える。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a photospacer (photospacer to maintain a cell gap between a color filter substrate and a TFT substrate) of which plastic deformation is very small, and the resin composition for the photospacer useful therefor, of which the developing property in pattern forming the photospacer is satisfactory.例文帳に追加

塑性変形量が極めて小さいフォトスペーサー（カラーフィルターとＴＦＴ基板との間のセルギャップを維持するフォトスペーサー）、およびこれに有用なフォトスペーサー用樹脂組成物であって、フォトスペーサーのパターンを形成する際の現像性が良好な樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist composition for a thick film suitable for forming a thick film having high sensitivity, ensuring good developed profile and suitable for use as a connection terminal forming material, and provide a thick film photoresist layered product, a method for producing a resist pattern usng the same and a method for producing a connection terminal.例文帳に追加

高感度で、現像プロファイルが良好である上に、接続端子形成用材料として好適な厚膜形成に適する厚膜用化学増幅型ホトレジスト組成物、厚膜ホトレジスト積層体、これを用いたレジストパターンの製造方法及び接続端子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To solve problems relating to the techniques for improving the performance in microfabrication of a semiconductor device using high energy rays, X rays, electron beams or EUV light, and to provide a positive resist composition satisfying requirements of high sensitivity, high resolution, a favorable pattern profile and favorable line edge roughness.例文帳に追加

高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplifying positive or negative radiation sensitive composition capable of stably forming a fine pattern excellent in machining performance in a small space, critical dimension uniformity, maintainability and stability as a resist, having small density dependence in high accuracy.例文帳に追加

レジストとして、狭スペースの加工性能、多様なパターンデザインにおけるＣＤ均一性および保存安定性に優れ、粗密依存性が小さく、微細パターンを高精度で安定に形成することができる化学増幅型ポジ型またはネガ型の感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having good sensitivity, resolution, adhesion and tent reliability, and excellent in scum dispersibility and suppression of occurrence of sludge in a developer, and also to provide a photosensitive element using the same, a resist pattern forming method, and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

感度、解像度、密着性及びテント信頼性が良好であり、現像液におけるスカム分散性及びスラッジの発生低減に優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition capable of allowing formation of a photoresist film that has a little amount of an eluted substance in a liquid for immersion exposure, with which the film is brought into contact during immersion exposure, that shows a large receding contact angle with the liquid for immersion exposure, and gives a fine resist pattern with high accuracy.例文帳に追加

液浸露光時に接触する液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、液浸露光用液体との後退接触角が大きい、微細なレジストパターンを高精度に形成することが可能なフォトレジスト膜を形成し得る感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In manufacturing the substrate, constituting the liquid crystal display device with a liquid crystal interposed between itself and the facing substrate, and having at least the alignment control protrusions, the alignment control protrusions are formed by pattern inversion effect of a positive photosensitive resin composition.例文帳に追加

対向する基板との間で液晶を挟持する液晶表示装置を構成する、少なくとも配向制御用突起を有する基板の製造において、該配向制御用突起が、ポジ型感光性樹脂組成物のパターン反転効果により形成されてなるものとする。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition can form a resist film to be used in a resist pattern forming method including a liquid immersion exposure step using bicyclohexyl as the liquid immersion exposure liquid, wherein the refractive index of the resist film to radiation having a wavelength of 193 nm is 1.64 to 1.75.例文帳に追加

液浸露光用液体としてビシクロヘキシルを用いた液浸露光工程を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト膜を形成することができ、レジスト膜の、波長１９３ｎｍの放射線に対する屈折率が１．６４〜１．７５である感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁