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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > cvd methodに関連した英語例文

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cvd methodの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2115



例文

THIN FILM DEPOSITION METHOD BY ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA CVD, AND ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA CVD SYSTEM例文帳に追加

常圧プラズマCVDによる薄膜形成方法及び常圧プラズマCVD装置 - 特許庁

A method of cleaning the CVD reaction chamber by active oxygen species is provided.例文帳に追加

CVD反応チャンバを活性酸素種によってクリーニングする方法が与えられる。 - 特許庁

RF PLASMA CVD SIMULATOR, AND RF PLASMA CVD SIMULATION METHOD例文帳に追加

高周波プラズマCVDシミュレータ及び高周波プラズマCVDシミュレーション方法 - 特許庁

CVD FILM-FORMING APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING PLASTIC CONTAINER COATED WITH CVD FILM例文帳に追加

CVD成膜装置及びCVD膜コーティングプラスチック容器の製造方法 - 特許庁

例文

PLASMA CVD METHOD FOR FORMING FILM, PLASMA CVD DEVICE, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

プラズマCVD成膜方法及びプラズマCVD装置並びに半導体素子 - 特許庁


例文

LASER-ASSISTED CVD SYSTEM, LASER-ASSISTED CVD METHOD, PATTERN DEFECT CORRECTING SYSTEM, AND PATTERN DEFECT CORRECTING METHOD例文帳に追加

レーザCVD装置、レーザCVD法、パターン欠陥修正装置及びパターン欠陥修正方法 - 特許庁

HIGH FREQUENCY PLASMA CVD DEVICE, HIGH FREQUENCY PLASMA CVD METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR THIN FILM例文帳に追加

高周波プラズマCVD装置と高周波プラズマCVD法及び半導体薄膜製造法 - 特許庁

The radical shower CVD method is a CVD method of separating a plasma region from a film depositing region.例文帳に追加

ラジカルシャワーCVD法はプラズマ領域と成膜領域を分離したCVD法である。 - 特許庁

CLEANING METHOD OF PLASMA CVD SYSTEM例文帳に追加

プラズマ気相化学堆積装置のクリーニング方法 - 特許庁

例文

IN-LINE TYPE PLASMA CVD METHOD, AND APPARATUS THEREOF例文帳に追加

インライン式プラズマCVD法及びその装置 - 特許庁

例文

PLASMA CVD APPARATUS AND THIN FILM FORMING METHOD例文帳に追加

プラズマCVD装置及び薄膜形成方法 - 特許庁

PLASMA CVD FILM FORMING METHOD AND GAS BARRIER FILM例文帳に追加

プラズマCVD成膜方法およびガスバリア膜 - 特許庁

PLASMA CVD APPARATUS AND THIN FILM MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

プラズマCVD装置、及び、薄膜製造方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR FORMING CVD FILM例文帳に追加

プラズマCVD製膜装置及び製膜方法 - 特許庁

SHEET-TYPE VACUUM CVD METHOD AND DEVICE例文帳に追加

枚葉式減圧CVD方法及びその装置 - 特許庁

INLINE TYPE CVD DEVICE AND METHOD FOR FORMING FILM例文帳に追加

インライン型CVD装置および製膜方法 - 特許庁

PLASMA CVD DEVICE AND THIN-FILM MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

プラズマCVD装置及び薄膜製造方法 - 特許庁

PLASMA CVD APPARATUS AND DRY-CLEANING METHOD THEREFOR例文帳に追加

プラズマCVD装置とそのドライクリーニング方法 - 特許庁

PLASMA FILM FORMING METHOD AND PLASMA CVD APPARATUS例文帳に追加

プラズマ成膜方法及びプラズマCVD装置 - 特許庁

CVD SYSTEM AND SUBSTRATE-CLEANING METHOD THEREFOR例文帳に追加

CVD装置およびその基板洗浄方法 - 特許庁

PLASMA CVD SYSTEM AND THIN FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

プラズマCVD装置及び薄膜形成方法 - 特許庁

CVD DEVICE, AND DEVICE AND METHOD FOR REMOVING HARMFUL MATTER IN CVD DEVICE例文帳に追加

CVD装置、CVD装置内の有害物質除去装置及び除去方法 - 特許庁

HOT FILAMENT CVD SYSTEM AND FILAMENT STRUCTURE THEREOF, AND HOT FILAMENT CVD METHOD例文帳に追加

熱フィラメントCVD装置及びそのフィラメント構造並びに熱フィラメントCVD法 - 特許庁

PLASMA CVD DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING PLASTIC CONTAINER COATED WITH CVD FILM例文帳に追加

プラズマCVD成膜装置及びCVD膜コーティングプラスチック容器の製造方法 - 特許庁

CVD FILM DEPOSITION SYSTEM AND METHOD OF CLEANING INTERNAL ELECTRODE FOR CVD FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

CVD成膜装置及びCVD成膜装置用内部電極の清掃方法 - 特許庁

SUSCEPTOR-COOLING METHOD OF NORMAL PRESSURE CVD SYSTEM AND NORMAL PRESSURE CVD DEVICE FOR THE SAME例文帳に追加

常圧CVD装置のサセプタ冷却方法及びそのための常圧CVD装置 - 特許庁

METHOD FOR FORMING SILICON THIN FILM BY PLASMA CVD METHOD例文帳に追加

プラズマCVD法によるシリコン系薄膜の形成方法 - 特許庁

DEPOSITION FILM FORMING SYSTEM AND METHOD IN PLASMA CVD METHOD例文帳に追加

プラズマCVD法による堆積膜形成装置及び方法 - 特許庁

PLASMA CVD UNIT, CLEANING METHOD AND FILM-FORMING METHOD例文帳に追加

プラズマCVD装置及びクリーニング方法及び成膜方法 - 特許庁

PLASMA CVD DEVICE, CLEANING METHOD, AND FILM-FORMING METHOD例文帳に追加

プラズマCVD装置及びクリーニング方法及び成膜方法 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITING GRAPHITE NANOFIBER THIN FILM BY THERMAL CVD METHOD例文帳に追加

熱CVD法によるグラファイトナノファイバー薄膜形成方法 - 特許庁

CATALYST CVD APPARATUS, METHOD FOR TREATING CATALYST BODY USED FOR CATALYST CVD APPARATUS, AND METHOD FOR FORMING FILM USING CATALYST CVD APPARATUS例文帳に追加

触媒CVD装置、触媒CVD装置に用いる触媒体の処理方法、及び、触媒CVD装置を用いた成膜方法 - 特許庁

REDUCED PRESSURE THERMAL CVD SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

減圧熱CVD装置および成膜方法 - 特許庁

PLASMA-ENHANCED FILM FORMING METHOD AND PLASMA- ENHANCED CVD APPARATUS例文帳に追加

プラズマ成膜方法及びプラズマCVD装置 - 特許庁

REMOTE PLASMA CVD APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING FILM例文帳に追加

リモートプラズマCVD装置及び膜形成方法 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR FORMING CVD FILM例文帳に追加

CVD成膜装置及びCVD成膜方法 - 特許庁

REMOTE PLASMA CLEANING METHOD OF CVD PROCESS CHAMBER例文帳に追加

CVDプロセス・チャンバのリモート・プラズマ・クリーニング方法 - 特許庁

TEMPERATURE CONTROLLING METHOD IN PLASMA CVD SYSTEM例文帳に追加

プラズマCVD装置における温度制御方法 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITING TUNGSTEN FILM AND CVD APPARATUS例文帳に追加

タングステン膜の形成方法およびCVD装置 - 特許庁

LOW PRESSURE CVD DEVICE AND ITS CLEANING METHOD例文帳に追加

減圧CVD装置およびそのクリーンニング方法 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR CVD FILM DEPOSITION例文帳に追加

CVD成膜装置及びCVD成膜方法 - 特許庁

SUSCEPTOR FOR PLASMA CVD DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, PLASMA CVD DEVICE AND MAINTENANCE METHOD FOR THE PLASMA CVD DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

プラズマCVD装置用サセプタ及びその製造方法、並びに、プラズマCVD装置、並びにその保守方法、並びに半導体装置の製造方法 - 特許庁

THREE-DIMENSIONAL HIGH-FREQUENCY PLASMA CVD APPARATUS AND THREE-DIMENSIONAL HIGH-FREQUENCY PLASMA CVD METHOD例文帳に追加

三次元高周波プラズマCVD装置並びに三次元高周波プラズマCVD法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR VAPORIZING LIQUID STARTING MATERIAL FOR CVD AND CVD DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

CVD用液体原料の気化方法、気化装置及びそれを用いたCVD装置 - 特許庁

PLASMA CVD SYSTEM, AND SOLAR CELLS AND PLASMA CVD METHOD MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

プラズマCVD装置並びに太陽電池およびこれを作製するプラズマCVD方法 - 特許庁

CVD APPARATUS AND METHOD FOR PERFORMING POST-TREATMENT PROCESS AFTER FILM FORMATION IN THE CVD APPARATUS例文帳に追加

CVD装置及びCVD装置における成膜後の後処理工程を行う方法 - 特許庁

PLASMA CVD FILM DEPOSITION METHOD AND FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

プラズマCVD成膜方法および成膜装置 - 特許庁

PLASMA CVD DEVICE AND INSULATING FILM FORMING METHOD例文帳に追加

プラズマCVD装置及び絶縁膜形成方法 - 特許庁

CVD APPARATUS AND METHOD FOR REPLACING RAW MATERIAL TANK例文帳に追加

CVD装置及び原料タンクの交換方法 - 特許庁

例文

PLASMA CVD APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM例文帳に追加

プラズマCVD装置および薄膜の製造方法 - 特許庁




  
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