「cvd method」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

COMBINATORIAL THIN FILM DEPOSITION METHOD AND COMBINATORIAL PLASMA-ENHANCED CVD APPARATUS例文帳に追加

コンビナトリアル薄膜形成方法及びコンビナトリアルプラズマＣＶＤ装置 - 特許庁

MICROWAVE PLASMA CVD SYSTEM AND METHOD FOR PRODUCING DIAMOND FILM例文帳に追加

マイクロ波プラズマＣＶＤ装置およびダイヤモンド膜を成長する方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCTION OF CARBON FIBER, SUBSTRATE CARTRIDGE, AND THERMAL CVD DEVICE例文帳に追加

カーボンファイバの製造方法、基板カートリッジおよび熱ＣＶＤ装置 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND CVD RAW MATERIAL FOR THE MANUFACTURE例文帳に追加

半導体装置の製造方法とその製造用ＣＶＤ原料 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITING GAS BARRIER SILICON OXIDE THIN FILM BY CVD PROCESS例文帳に追加

ＣＶＤ法によるガスバリア性酸化珪素薄膜の成膜方法 - 特許庁

Further, the inner layer is formed by the CVD method which can give excellent adhesiveness, and the outermost layer is formed by the PVD method which can give a compressive residual stress.例文帳に追加

そして、内層を密着性に優れるCVD法にて形成し、最外層を圧縮残留応力が付与できるPVD法にて形成する。 - 特許庁

FILM-FORMING APPARATUS, PLASMA CVD APPARATUS, METHOD OF FORMING FILM, AND SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

成膜装置、プラズマＣＶＤ装置、成膜方法及びスパッタ装置 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING LAYER INSULATION FILM BY VACUUM UV CVD例文帳に追加

真空紫外光ＣＶＤによる層間絶縁膜の製造方法 - 特許庁

To provide a manufacturing method of hydrogen separation membrane capable of forming a silica separation membrane having high hydrogen selective permeability by a CVD (chemical vapor deposition) method.例文帳に追加

CVD法により高い水素選択透過性を有するシリカ分離膜を形成せしめる水素分離膜の製造法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR CLEANING CVD SYSTEM FOR GRAPHITE NANOFIBER THIN FILM DEPOSITION例文帳に追加

グラファイトナノファイバー薄膜形成用ＣＶＤ装置のクリーニング方法 - 特許庁

FUNCTIONAL THIN FILM FORMING METHOD BY HIGH FREQUENCY PLASMA CVD DEVICE例文帳に追加

高周波プラズマＣＶＤ装置による機能性薄膜形成方法 - 特許庁

PLASMA CVD APPARATUS, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置、薄膜の製造方法及び磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁

FILM QUALITY DETECTING METHOD IN PLASMA CVD EQUIPMENT, AND FORMING METHOD OF SILICON OXIDE FILM例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置の膜質検出方法およびシリコン酸化膜の成膜方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING CARBON NANOTUBE AND PLASMA CVD(CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) APPARATUS FOR IMPLEMENTING THE METHOD例文帳に追加

カーボンナノチューブの作製方法及びその方法を実施するプラズマＣＶＤ装置 - 特許庁

CVD APPARATUS, METHOD OF FORMING FILM, AND METHOD OF MANUFACTURING INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加

ＣＶＤ装置および製膜方法ならびに情報記録媒体の製造方法 - 特許庁

To provide plasma CVD device and method equipped with on-site plasma cleaning, which removes impurity contamination and improves productivity.例文帳に追加

不純物汚染を無くし、生産性を向上させる現場プラズマクリーニングを備えたプラズマCVD装置及び方法を与える。 - 特許庁

Provided is a method of forming a hydrocarbon-containing polymer film on a semiconductor substrate by a capacitively-coupled plasma CVD apparatus.例文帳に追加

容量結合型プラズマCVD装置により半導体基板上に炭化水素系ポリマー膜を形成する方法が与えられる。 - 特許庁

The first silicon film 2 is formed by a hot CVD method, and the second film 3 is formed by a high-density plasma CVD method.例文帳に追加

ここで、熱ＣＶＤ法によって、第１のシリコン膜２を形成し、高密度プラズマＣＶＤ法によって、第２のシリコン膜３を形成する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method capable of stably forming an amorphous silicon deposited film in catalyst CVD process, and to provide a method for treating a catalyst body used for catalyst CVD process.例文帳に追加

本発明は、触媒ＣＶＤにおいて、アモルファスシリコン堆積膜を安定して成膜が可能な装置及び方法を提供する。 - 特許庁

ATMOSPHERIC PRESSURE CVD DEVICE AND EXHAUST GAS FLOW CONTROL METHOD THEREFOR例文帳に追加

常圧ＣＶＤ装置及び常圧ＣＶＤ装置の排ガス流制御方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR DEPOSITING SILICON THIN FILM BY THERMOPLASMA CVD例文帳に追加

熱プラズマＣＶＤによるシリコン薄膜の堆積方法及びその装置 - 特許庁

PLASMA ENHANCED CVD SYSTEM, AMORPHOUS SILICON-BASED THIN FILM, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置、非晶質シリコン系薄膜及びその製造方法 - 特許庁

PLASMA CVD APPARATUS, AND METHOD FOR FORMING PROTECTIVE FILM ON MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置および磁気記録媒体の保護膜形成方法 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD OF RECOVERING SOURCE MATERIAL FORM CVD WASTE GAS例文帳に追加

ＣＶＤ排ガスからのソース物質の回収機構及び回収方法 - 特許庁

The barrier film is formed by a method of discharge plasma CVD between rolls.例文帳に追加

バリア膜の形成は、ロール間放電プラズマＣＶＤ法により行う。 - 特許庁

PLASMA CVD DEVICE, SUBSTRATE TREATMENT SYSTEM, AND FILM FORMATION/SELF-CLEANING METHOD例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置、基板処理システム、及び製膜・セルフクリーニング方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING CARBON POLYMER FILM USING PLASMA CVD例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置を用いて炭素重合体膜を形成する方法 - 特許庁

CVD DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

ＣＶＤ装置及び半導体装置の製造方法及び半導体装置 - 特許庁

The carbon fiber is preferably formed by a thermal CVD method.例文帳に追加

前記炭素繊維は熱ＣＶＤ法によって形成することが好ましい。 - 特許庁

METHOD OF FORMING SINGLE CRYSTAL BY ATMOSPHERIC PRESSURE CVD PROCESS AND SYSTEM FOR THE SAME例文帳に追加

常圧ＣＶＤ法による単結晶生成方法及びその装置 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR BARRIER FILM AND PLASMA CVD EQUIPMENT USED THEREFOR例文帳に追加

バリアフィルムの製造方法およびこれに使用するプラズマＣＶＤ装置 - 特許庁

SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS, CVD APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRON DEVICE例文帳に追加

基板処理装置及びＣＶＤ装置並びに電子デバイスの製造方法 - 特許庁

MICROWAVE PLASMA CVD DEVICE AND METHOD OF FORMING DIAMOND THIN FILM例文帳に追加

マイクロ波プラズマＣＶＤ装置及びダイヤモンド薄膜を形成する方法 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITING LOW DIELECTRIC FILM BY VACUUM ULTRAVIOLET CVD例文帳に追加

真空紫外光ＣＶＤによる低誘電体膜の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PREVENTING DEPOSITION OF AMMONIUM CHLORIDE IN CVD EXHAUST PIPING例文帳に追加

ＣＶＤ排気系配管における塩化アンモニウムの付着防止方法 - 特許庁

The PVD method or CVD method is used for forming the electrolyte layer 30.例文帳に追加

電解質層３０の成膜にあたっては、ＰＶＤ法、ＣＶＤ法が用いられる得る。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR FORMING DEPOSITION FILM BY MICROWAVE PLASMA CVD METHOD例文帳に追加

マイクロ波プラズマＣＶＤ法による堆積膜形成方法および堆積膜形成装置 - 特許庁

PLASMA CVD EQUIPMENT, FILM FORMING METHOD USING THE SAME, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置と、それを用いた成膜方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

PLASMA PROCESSING METHOD/DEVICE BY PULSE DIVISION SUPPLY AND PLASMA CVD METHOD例文帳に追加

パルス分割供給によるプラズマ処理方法及び装置並びにプラズマＣＶＤ方法 - 特許庁

The ZnO thin film may be deposited by using a sputtering method, a CVD method, or the like.例文帳に追加

ＺｎＯ薄膜の堆積には、スパッタ法やＣＶＤ法等を用いることができる。 - 特許庁

The carbon layers can be formed by a sputtering method or a plasma CVD method.例文帳に追加

これらのカーボン層はスパッタリング法やプラズマＣＶＤ法により形成することができる。 - 特許庁

To provide a liquid aluminum raw material or CVD having sufficient stability suitable for various CVD methods and to provide a method for producing an aluminum-base thin film of the same raw material by a CVD method.例文帳に追加

各種ＣＶＤ法に適する充分な安定性を有する液体であるＣＶＤ用アルミニウム原料及び該原料によるアルミニウム系薄膜のＣＶＤ法による製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a copper single raw material for CVD having sufficient stability suitable for various CVD methods and lying in a state of liquid and to provide a method for producing a copper series thin film by a CVD method.例文帳に追加

各種ＣＶＤ法に適する充分な安定性を有し、単一で液体であるＣＶＤ用銅原料及び該原料による銅系薄膜のＣＶＤ法による製造方法を提供する。 - 特許庁

The phase change layer can be formed by using a MOCVD method, cyclic-CVD method or an ALD method.例文帳に追加

相変化層は、ＭＯＣＶＤ、サイクリック−ＣＶＤ及びＡＬＤのうちいずれか一方式で形成しうる。 - 特許庁

As a method for the vapor deposition may be either physical vapor deposition (PVD) method or chemical vapor deposition (CVD) method.例文帳に追加

蒸着させる方法としては、物理蒸着法（ＰＶＤ）でも化学蒸着法（ＣＶＤ）でもよい。 - 特許庁