「cvd method」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

PLASMA CVD FILM DEPOSITION SYSTEM, METHOD FOR CONFIRMING IGNITION OF PLASMA, METHOD FOR CONFIRMING PROPERTY OF CVD FILM AND METHOD FOR CONFIRMING STAIN OF SYSTEM例文帳に追加

プラズマＣＶＤ成膜装置、プラズマ着火確認方法、ＣＶＤ膜性状確認方法及び装置汚れ確認方法 - 特許庁

THIN FILM DEPOSITION METHOD AND THIN FILM DEPOSITION SYSTEM BY PLASMA CVD METHOD例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法による薄膜形成方法及び薄膜形成装置 - 特許庁

PLASMA TREATMENT METHOD AND APPARATUS AS WELL AS PLASMA CVD METHOD AND APPARATUS例文帳に追加

プラズマ処理方法及び装置並びにプラズマＣＶＤ方法及び装置 - 特許庁

FILM FORMING METHOD AND CVD APPARATUS FOR PERFORMING THE METHOD例文帳に追加

膜の形成方法及びその方法を実施するためのＣＶＤ装置 - 特許庁

A method of forming a film, containing carbon on a semiconductor substrate in the CVD reaction chamber, comprises processes of: bringing the CVD reaction chamber into contact with the active oxygen species, transferring the semiconductor substrate into the CVD reaction chamber, evaporating the film containing carbon on the semiconductor substrate, transferring the semiconductor substrate out of the CVD reaction chamber, and bringing the CVD reaction chamber into contact with active fluorine species.例文帳に追加

CVD反応チャンバ内で半導体基板上に炭素含有膜を形成する方法は、CVD反応チャンバを活性酸素種と接触させる工程と、半導体基板をCVD反応チャンバ内に移送する工程と、炭素含有膜を半導体基板上に蒸着する工程と、半導体基板をCVD反応チャンバ外へ移送する工程と、CVD反応チャンバを活性フッ素種と接触させる工程と、から成る。 - 特許庁

CVD-SiC FILM-COATED MEMBER AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

ＣＶＤ−ＳｉＣ膜被覆部材およびその製造方法 - 特許庁

PLASMA CVD DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING SILICON-BASED THIN FILM例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置及びシリコン系薄膜の製造方法 - 特許庁

CVD SYSTEM, METHOD FOR CONTROLLING FILM DEPOSITION RATE AND SOLAR BATTERY例文帳に追加

ＣＶＤ装置、成膜速度制御方法、及び、太陽電池 - 特許庁

METHOD AND EQUIPMENT FOR DEPOSITING FILM BY PLASMA CVD PROCESS例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法による堆積膜形成方法及び装置 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS OF CLEANING CVD APPARATUS例文帳に追加

ＣＶＤ装置のクリーニング方法およびそのためのクリーニング装置 - 特許庁

PLASMA CVD APPARATUS, THIN FILM PRODUCTION METHOD AND LAMINATED SUBSTRATE例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置、薄膜製造方法、及び、積層基板 - 特許庁

PLASMA-CVD FILM FORMING METHOD AND APPARATUS例文帳に追加

プラズマＣＶＤ成膜方法及びプラズマＣＶＤ成膜装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR FORMING PLASMA CVD FILM例文帳に追加

プラズマＣＶＤ製膜方法及びプラズマＣＶＤ製膜装置 - 特許庁

RAW MATERIAL SOLUTION DISCHARGE DEVICE, VAPORIZER FOR CVD, SOLUTION VAPORIZING CVD DEVICE, FLOW CONTROL METHOD, AND THIN FILM FORMING METHOD例文帳に追加

原料溶液吐出器、ＣＶＤ用気化器、溶液気化式ＣＶＤ装置、流量制御方法及び薄膜形成方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR TREATING DISCHARGE GAS OF CVD SYSTEM例文帳に追加

ＣＶＤ装置の排出ガス処理方法とその処理装置 - 特許庁

LOW PRESSURE CVD DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF THIN-FILM DEVICE例文帳に追加

減圧ＣＶＤ装置、および薄膜装置の製造方法 - 特許庁

PLASMA CVD SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING HARD CARBON FILM例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置および硬質炭素膜の製造方法 - 特許庁

CVD APPARATUS FOR FORMING HARD CARBON FILM, AND FILM FORMING METHOD例文帳に追加

硬質カーボン成膜用ＣＶＤ装置および成膜方法 - 特許庁

FORMATION OF DEPOSITION FILM BY MICROWAVE PLASMA CVD METHOD例文帳に追加

マイクロ波プラズマＣＶＤ法による堆積膜形成方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND NORMAL-PRESSURE CVD APPARATUS例文帳に追加

半導体装置の製造方法および常圧ＣＶＤ装置 - 特許庁

APPARATUS FOR FORMING CVD FILM AND METHOD FOR CLEANING INNER ELECTRODE例文帳に追加

ＣＶＤ成膜装置及び内部電極の清掃方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING MULTI-SHOWER HEAD FOR CVD OF MULTILAYER STRUCTURE例文帳に追加

多層構造のＣＶＤ用マルチシャワーヘッドの製造方法 - 特許庁

The apparatus and the method for plasma CVD are provided.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ用の装置及びその方法が与えられる。 - 特許庁

PLASMA CVD APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁

CVD-SiC COVERED GRAPHITE MATERIAL AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

ＣＶＤ−ＳｉＣ被覆黒鉛材及びその製造方法 - 特許庁

PLASMA CVD DEVICE, AND SEMI-CONDUCTOR THIN FILM FORMING METHOD例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置および半導体薄膜の形成方法 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITING FILM BY CVD OR ALD例文帳に追加

ＣＶＤ又はＡＬＤによる膜の堆積のための方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF COMPONENT FOR GLASSY CARBON CVD DEVICE例文帳に追加

ガラス状炭素製ＣＶＤ装置用部品の製造方法 - 特許庁

PLASMA ENHANCED CVD SYSTEM AND METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置および薄膜トランジスタの製造方法 - 特許庁

LIQUID METAL VAPORIZATION UNIT FOR CVD SYSTEM, AND VAPORIZATION METHOD例文帳に追加

ＣＶＤ装置の金属液体気化ユニット及び気化方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING CVD FILM AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

ＣＶＤ膜の製造方法及び電子デバイスの製造方法 - 特許庁

CARBON-MADE JIG FOR CVD FILM DEPOSITION AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

ＣＶＤ成膜用炭素製治具及びその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SINGLE CRYSTAL DIAMOND BY PLASMA CVD PROCESS例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法による単結晶ダイヤモンドの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL WAVEGUIDE AND PLASMA ENHANCED CVD SYSTEM例文帳に追加

光導波路の製造方法およびプラズマＣＶＤ装置 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR WAFER AND PLASMA CVD SYSTEM例文帳に追加

半導体ウェハの製造方法およびプラズマＣＶＤ装置 - 特許庁

PLASMA CVD DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF SILICON MEMBRANE例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置及びシリコン系薄膜の製造方法 - 特許庁

PLASMA CVD SYSTEM AND METHOD FOR PERFORMING SELF CLEANING例文帳に追加

セルフクリーニングを実行するプラズマＣＶＤ装置及び方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING CARBON POLYMER FILM USING PLASMA CVD例文帳に追加

プラズマＣＶＤを使ったカーボンポリマー膜を形成する方法 - 特許庁

CATALYST CVD APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

触媒ＣＶＤ装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

PLASMA CVD DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING SILICON-BASED THIN FILM例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置及びシリコン系薄膜の製造方法 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR FORMING PLASMA CVD FILM例文帳に追加

プラズマＣＶＤ成膜装置及びプラズマＣＶＤ成膜方法 - 特許庁

To improve a remote plasma cleaning method for removing undesirable deposition by-products formed on walls, surfaces, etc. of a CVD process deposition chamber and a facility from the CVD process chamber and the facility.例文帳に追加

本発明は、CVDプロセス堆積チャンバ及び設備の壁、表面などに形成された不所望の堆積副生成物を、該CVDプロセス・チャンバ及び設備から除去するリモート・プラズマ・クリーニングを改善する。 - 特許庁

This is a semiconductor forming method for forming a semiconductor film on substrate by using bias catalyst CVD, high-density bias catalyst CVD, bias pressure-reduction CVD, bias atmospheric CVD.例文帳に追加

本発明は、バイアス触媒ＣＶＤ，高密度バイアス触媒ＣＶＤ，バイアス減圧ＣＶＤ，バイアス常圧ＣＶＤを利用して、基板に半導体膜を形成する半導体膜形成方法である。 - 特許庁

The Cu film 25 is deposited through a CVD method and then is polished to provide a Cu wiring 26.例文帳に追加

その後CVD法によってCu膜２５を堆積し、さらにCu膜２５を研磨することによって、Cu配線２６を得る。 - 特許庁

POWER UNIT FOR PLASMA GENERATION, PLASMA CVD SYSTEM COMPOSED OF THE POWER UNIT AND PLASMA CVD METHOD例文帳に追加

プラズマ発生用電源装置、該電源装置により構成されたプラズマＣＶＤ装置及びプラズマＣＶＤ法 - 特許庁