1153万例文収録!

「dislocation cluster」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > dislocation clusterに関連した英語例文

セーフサーチ:オフ

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

dislocation clusterの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 6



例文

To provide a single crystal pulling-up device with which the single crystal low in the density of grown-in defects called as infrared scatter or dislocation cluster can be grown.例文帳に追加

赤外散乱体や転位クラスター等と呼ばれるgrown-in欠陥の密度の低い単結晶を育成することのできる単結晶引き上げ装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for growing a high-quality single crystal having a large diameter and long length, capable of collecting a wafer having grown-in defects such as metastasis dislocation cluster and infrared scatter reduced as much as possible by a CZ method.例文帳に追加

CZ法にて転位クラスターや赤外線散乱体のようなGrown-in欠陥を、できるだけ少なくしたウェーハを採取できる、径の大きい長尺の高品質単結晶の育成方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for confirming a position where OSF or a nucleus of the OSF hard to be detected is present in the case of a silicon single crystal containing oxygen in low concentration and a method for detecting a dislocation cluster, and to improve the quality of the silicon single crystal by utilizing these methods.例文帳に追加

低酸素濃度のシリコン単結晶の場合に検出されにくいOSFあるいはOSFの核が存在している位置を確認する方法と、併せて転位クラスタを検出する方法を提供し、さらなるシリコン単結晶の高品質化を図ることを主目的とする。 - 特許庁

To provide a method for easily and inexpensively manufacturing a P-doped silicon single crystal which is composed of an indefective area without including a V area, an OSF area, and a huge dislocation cluster (LSEPD, LFPD) area and has a high pressure resistance and excellent electrical properties.例文帳に追加

例えば、V領域、OSF領域および巨大転位クラスタ(LSEPD、LFPD)領域を含まない、高耐圧の優れた電気特性を持つ無欠陥領域のPドープシリコン単結晶を簡単かつ安価で製造する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

例文

To provide a silicon wafer and a method for manufacturing thereof, in which neither a COP nor a dislocation cluster is contained, a defect (grown-in defect containing oxide silicon) like oxygen precipitation nucleus which exists in an OSF nucleus and P_V region not actualized in an as-grown state is disappeared or reduced.例文帳に追加

COPや転位クラスターが含まれず、as−grown状態では顕在化していないOSF核やP_V領域に存在する酸素析出核のような欠陥(酸化シリコンを含むgrown−in欠陥)が消滅もしくは低減されているシリコンウェーハおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁


例文

The base wafer 22 of the SOI wafer is composed of a single silicon crystal grown by the Czockralski method and the whole surface of the wafer 22 is on the outside of an OSF region, does not contain the defective region detected by the Cu deposition method, and contains an I region in which the dislocation cluster caused by interstitial silicon exists.例文帳に追加

ベースウエーハ22が、チョクラルスキー法により育成されたシリコン単結晶であり、該ウエーハ全面がOSF領域の外側であって、Cuデポジション法により検出される欠陥領域を含まず、且つ格子間シリコンに起因した転位クラスタが存在するI領域を含むものからなることを特徴とするSOIウエーハ26。 - 特許庁




  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2026 GRAS Group, Inc.RSS