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dry etching methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 900件
To provide a dry etching method of carrying out etching having a uniform distribution of etching rate.例文帳に追加
均一な分布レートでエッチングするドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁
To provide a dry etching method which enables dry etching at lower temperatures, and to provide a dry etching system.例文帳に追加
より低い基板温度においてドライエッチングを可能にするドライエッチング方法およびドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD USING LIGHT EMISSION, DRY ETCHING CONTROL DEVICE AND DRY ETCHING DEVICE HAVING THE CONTROL DEVICE例文帳に追加
発光を利用したドライエッチング方法、ドライエッチング制御装置及びその制御装置を備えたドライエッチング装置 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR WINDING-UP TYPE DRY ETCHING例文帳に追加
巻取り式ドライエッチング方法及び装置 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD OF OXIDE SEMICONDUCTOR FILM例文帳に追加
酸化物半導体膜のドライエッチング方法 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR WINDING UP TYPE DRY ETCHING例文帳に追加
巻取り式ドライエッチング方法及び装置 - 特許庁
DRY ETCHING DEVICE AND NEUTRALIZATION METHOD OF SUBSTRATE例文帳に追加
ドライエッチング装置および基板の除電方法 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD AND DIFFRACTIVE OPTICAL ELEMENT例文帳に追加
ドライエッチング方法および回折型光学部品 - 特許庁
ANISOTROPIC DRY ETCHING METHOD AND APPARATUS OF COPPER例文帳に追加
銅の異方性ドライエッチング方法および装置 - 特許庁
DRY ETCHING SYSTEM AND ITS PLASMA CLEANING METHOD例文帳に追加
ドライエッチング装置およびそのプラズマクリーニング方法 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING EQUIPMENT例文帳に追加
ドライエッチング方法および半導体製造装置 - 特許庁
DRY ETCHING DEVICE AND ITS PLASMA CLEANING METHOD例文帳に追加
ドライエッチング装置及びそのプラズマクリーニング方法 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD AND DIFFRACTION TYPE OPTICAL COMPONENT例文帳に追加
ドライエッチング方法および回折型光学部品 - 特許庁
METHOD OF DRY ETCHING SILICON CARBIDE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加
炭化珪素半導体基板のドライエッチング方法 - 特許庁
DRY-ETCHING METHOD, DRY-ETCHING DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE例文帳に追加
ドライエッチング方法、ドライエッチング装置、半導体発光素子の製造方法及び表示装置の製造方法 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF MAGNETIC MEMORY DEVICE例文帳に追加
ドライエッチング方法及び磁気メモリ装置の製造方法 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD, AND PATTERNING METHOD FOR METAL THIN FILM例文帳に追加
ドライエッチング方法及び金属薄膜のパターニング方法 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD, FABRICATING METHOD OF SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加
ドライエッチング方法、及び半導体基体の作製方法 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
ドライエッチング方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
ドライエッチング方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
ドライエッチング方法、及び半導体素子の作製方法 - 特許庁
METHOD AND DEVICE OF DETECTING END POINT OF ETCHING AND DRY ETCHING SYSTEM例文帳に追加
エッチング終点検出方法及び装置並びにドライエッチング装置 - 特許庁
ETCHING GAS FLOW CONTROLLER AND CONTROL METHOD OF LOCAL DRY ETCHING DEVICE例文帳に追加
局所ドライエッチング装置のエッチングガス流制御装置及び方法 - 特許庁
MASKING MATERIAL FOR REACTIVE ION ETCHING, MASK AND DRY ETCHING METHOD例文帳に追加
反応性イオンエッチング用のマスク材料、マスク及びドライエッチング方法 - 特許庁
DRY ETCHING APPARATUS AND PROCESSING METHOD OF PROCESSING WORK例文帳に追加
ドライエッチング装置及び被加工物の加工方法 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD OF COMPOUND SEMICONDUCTOR MAULTILAYER FILM例文帳に追加
化合物半導体多層膜のドライエッチング方法 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD OF III-FAMILY NITRIDE SEMICONDUCTOR例文帳に追加
III族窒化物半導体のドライエッチング方法 - 特許庁
To provide a dry etching processing device and a dry etching method that form an etching groove to a uniform width.例文帳に追加
エッチング溝の幅を一様に形成することができるドライエッチング処理装置及びドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁
DRY-ETCHING METHOD OF LOW-PERMITTIVITY INTERLAYER INSULATING FILM例文帳に追加
低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法 - 特許庁
PLASMA DRY ETCHING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
プラズマドライエッチング方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT AND DRY ETCHING METHOD例文帳に追加
半導体素子を作製する方法、及びドライエッチング方法 - 特許庁
METHOD OF DRY ETCHING TRANSPARENT SUBSTRATE AND METHOD OF INSPECTING PHOTOMASK例文帳に追加
透明基板のドライエッチング方法及びホトマスクの検査方法 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD, MICROLENS ARRAY AND FORMING METHOD THEREOF例文帳に追加
ドライエッチング方法並びにマイクロレンズアレイ及びその作製方法 - 特許庁
DETECTION METHOD OF ETCHING END POINT IN DRY SEMICONDUCTOR ETCHING STEP例文帳に追加
半導体乾式エッチング工程でのエッチング終了点の検出方法 - 特許庁
DRY ETCHING EXHAUST GAS TREATING DEVICE AND METHOD FOR TREATING DRY ETCHING EXHAUST GAS USING TREATING DEVICE例文帳に追加
ドライエッチング排ガス処理装置及び当該処理装置を用いたドライエッチング排ガス処理方法 - 特許庁
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