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etching methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 6852件
TUNGSTEN/POLYSILICON ETCHING METHOD例文帳に追加
タングステン/ポリシリコンゲートのエッチング方法 - 特許庁
ETCHING METHOD OF NITRIDE SEMICONDUCTOR例文帳に追加
窒化物半導体のエッチング方法 - 特許庁
METHOD OF DRY-ETCHING SILICON NITRIDE FILM例文帳に追加
窒化珪素膜のドライエッチング方法 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD OF SILICON NITRIDE FILM例文帳に追加
窒化シリコン膜のドライエッチング方法 - 特許庁
ATMOSPHERIC PLASMA ETCHING METHOD FOR TUNGSTEN例文帳に追加
タングステンの常圧プラズマエッチング方法 - 特許庁
VIA ETCHING METHOD FOR ORGANIC SILICA GLASS例文帳に追加
有機シリカガラスのビアエッチング方法 - 特許庁
DRY ETCHING SYSTEM AND METHOD FOR DETECTING END POINT OF DRY ETCHING例文帳に追加
ドライエッチング装置およびドライエッチングの終点検出方法 - 特許庁
ETCHING METHOD AND DEPOSITION FILM FORMATION DEVICE HAVING ETCHING FUNCTION例文帳に追加
エッチング方法及びエッチング機能付き堆積膜形成装置 - 特許庁
END POINT DETECTING METHOD OF PLASMA ETCHING, AND PLASMA ETCHING DEVICE例文帳に追加
プラズマエッチングの終点検出方法及びプラズマエッチング装置 - 特許庁
PLASMA ETCHING DEVICE AND PLASMA ETCHING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
プラズマエッチング装置およびそれを用いたプラズマエッチング方法 - 特許庁
PLASMA ETCHING SYSTEM AND PLASMA ETCHING METHOD FOR QUARTZ CRYSTAL PLATE例文帳に追加
水晶板のプラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法 - 特許庁
ETCHING APPARATUS, ETCHING METHOD, AND PLATE MEMBER TO BE USED THEREFOR例文帳に追加
エッチング装置、エッチング方法、およびそれに用いるプレート部材 - 特許庁
REFILLING METHOD OF ETCHING SOLUTION IN SINGLE WAFER ETCHING例文帳に追加
ウェーハの枚葉式エッチングにおけるエッチング液の補給方法 - 特許庁
SUBSTRATE ETCHING APPARATUS, AND SUBSTRATE ETCHING METHOD USING SAME例文帳に追加
基板エッチング装置及びそれを用いた基板エッチング方法 - 特許庁
ALKALINE ETCHING SOLUTION FOR SEMICONDUCTOR WAFER AND ALKALINE ETCHING METHOD例文帳に追加
半導体ウェーハ用のアルカリエッチング液及びアルカリエッチング方法 - 特許庁
ETCHING SOLUTION FOR ALUMINUM FOIL AND ETCHING METHOD FOR ALUMINUM FOIL例文帳に追加
アルミニウム箔用エッチング液およびアルミニウム箔のエッチング方法 - 特許庁
PLASMA ETCHING METHOD, PLASMA ETCHING APPARATUS, AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加
プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置並びに記憶媒体 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD AND DRY ETCHING APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加
ドライエッチング方法及びこの方法に用いるドライエッチング装置 - 特許庁
SILICON SUBSTRATE ETCHING METHOD AND SILICON SUBSTRATE ETCHING APPARATUS例文帳に追加
シリコン基板のエッチング方法、及びシリコン基板のエッチング装置 - 特許庁
CLEANING METHOD FOR PLASMA ETCHING EQUIPMENT AND PLASMA ETCHING EQUIPMENT例文帳に追加
プラズマエッチング装置のクリーニング方法、およびプラズマエッチング装置 - 特許庁
ETCHING LIQUID COMPOSITION FOR POLYIMIDE RESIN AND ETCHING METHOD例文帳に追加
ポリイミド系樹脂用エッチング液組成物及びエッチング方法 - 特許庁
ETCHING METHOD OF SILICON NITRIDE FILM, ETCHING APPARATUS AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加
窒化シリコン膜のエッチング方法、エッチング装置及び記憶媒体 - 特許庁
PLASMA ETCHING METHOD, PLASMA ETCHING SYSTEM AND PLASMA PROCESSING SYSTEM例文帳に追加
プラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置及びプラズマ処理装置 - 特許庁
PLASMA ETCHING APPARATUS, PLASMA ETCHING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
プラズマエッチング装置、プラズマエッチング方法および半導体装置 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF ETCHING MACHINING COMPONENT例文帳に追加
エッチング加工部品の製造方法 - 特許庁
METAL ETCHING WASTEWATER TREATMENT METHOD例文帳に追加
金属エッチング排水の処理方法 - 特許庁
METHOD FOR TREATMENT OF COPPER ETCHING WASTE LIQUID例文帳に追加
銅エッチング廃液の処理方法 - 特許庁
METHOD FOR REGENERATING COPPER-ETCHING WASTE LIQUID例文帳に追加
銅エッチング廃液の再生方法 - 特許庁
ETCHING METHOD OF FERROELECTRIC FILM例文帳に追加
強誘電体膜のエッチング方法 - 特許庁
DEPTH MEASURING METHOD, DEPTH MEASURING DEVICE, ETCHING METHOD AND ETCHING DEVICE例文帳に追加
深さ測定方法、深さ測定装置、エッチング方法及びエッチング装置 - 特許庁
CLEANING APPARATUS, ETCHING APPARATUS, CLEANING METHOD, AND ETCHING METHOD例文帳に追加
洗浄装置及びエッチング装置並びに洗浄方法及びエッチング方法 - 特許庁
FLEXIBLE BOARD AND ITS ETCHING METHOD例文帳に追加
フレキシブル基板とそのエッチング方法 - 特許庁
SEMICONDUCTOR DEVICE AND ETCHING METHOD例文帳に追加
半導体装置及びエッチング方法 - 特許庁
ETCHING METHOD FOR COMPOUND SEMICONDUCTOR例文帳に追加
化合物半導体のエッチング方法 - 特許庁
COPPER-LAYER ETCHING METHOD, ETCHING TREATMENT LIQUID, AND COPPER-WIRING MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
銅層エッチング方法、エッチング処理液及び銅配線の製造方法 - 特許庁
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