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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > etching methodに関連した英語例文

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etching methodの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 6852



例文

SHEET-TYPE ETCHING EQUIPMENT OF WAFER AND SHEET-TYPE ETCHING METHOD OF WAFER例文帳に追加

ウェーハの枚葉式エッチング装置及びウェーハの枚葉式エッチング方法 - 特許庁

ETCHING SOLUTION FOR TITANIUM-CONTAINING LAYER AND ETCHING METHOD FOR TITANIUM-CONTAINING LAYER例文帳に追加

チタン含有層用エッチング液及びチタン含有層のエッチング方法 - 特許庁

METHOD FOR ANISOTROPIC ETCHING OF BASE MATERIAL AND APPARATUS FOR ETCHING BASE MATERIAL例文帳に追加

基材の異方性食刻方法及び基材の食刻装置 - 特許庁

RESIST RESIN COMPOSITION FOR GLASS ETCHING AND METHOD FOR ETCHING GLASS SUBSTRATE例文帳に追加

ガラスエッチング用レジスト樹脂組成物及びガラス基板エッチング方法 - 特許庁

例文

ETCHING METHOD, ETCHING APPARATUS, COMPUTER PROGRAM, AND COMPUTER MEMORY MEDIUM例文帳に追加

エッチング方法、エッチング装置、コンピュータプログラム及びコンピュータ記憶媒体 - 特許庁


例文

ETCHING GAS FLOW CONTROLLER AND CONTROL METHOD OF LOCAL DRY ETCHING DEVICE例文帳に追加

局所ドライエッチング装置のエッチングガス流制御装置及び方法 - 特許庁

METHOD FOR ADJUSTING CHARACTERISTIC OF ETCHING BY SWITCHING GASES DURING ETCHING例文帳に追加

エッチング中にガスを切り替えてエッチングの特性を調節する方法 - 特許庁

ETCHING METHOD, ETCHING APPARATUS AND COMPUTER READABLE STORAGE MEDIUM例文帳に追加

エッチング方法、エッチング装置およびコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 - 特許庁

MASK FOR QUARTZ GLASS ETCHING AND METHOD FOR QUARTZ GLASS ETCHING例文帳に追加

石英ガラスエッチング加工用マスクおよび石英ガラスエッチング加工方法 - 特許庁

例文

PLASMA ETCHING METHOD OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND SEMICONDCUTOR ETCHING SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板のプラズマエッチング方法および半導体エッチング基板 - 特許庁

例文

MASKING MATERIAL FOR REACTIVE ION ETCHING, MASK AND DRY ETCHING METHOD例文帳に追加

反応性イオンエッチング用のマスク材料、マスク及びドライエッチング方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR ETCHING METAL TITANIUM AND ETCHING METHOD USING IT例文帳に追加

金属チタンのエッチング用組成物及びそれを用いたエッチング方法 - 特許庁

SELECTIVE ELECTROCHEMICAL ETCHING METHOD AND ETCHING SOLUTION USED THEREFOR例文帳に追加

選択的電気化学エッチング方法およびそれに用いるエッチング液 - 特許庁

ETCHING METHOD AND ETCHING SHAPED ARTICLE THEREBY例文帳に追加

エッチング方法及びその方法によって成形されたエッチング成形品 - 特許庁

A chemical wet etching by alkali or acid and a physical dry etching such as a sputter etching are used as the etching method.例文帳に追加

エッチング法としてはアルカリや酸による化学的湿式エッチング、スパッタエッチングなどの物理的ドライエッチングが使用される。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING CONTACT HOLE AND PLASMA ETCHING METHOD例文帳に追加

コンタクトホール形成方法およびプラズマエッチング方法 - 特許庁

DIELECTRIC DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND ETCHING METHOD例文帳に追加

誘電体デバイスの製造方法及びエッチング方法 - 特許庁

ETCHING METHOD AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

エッチング方法及び半導体装置の作製方法 - 特許庁

ETCHING METHOD AND THIN FILM TRANSISTOR MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

エッチング方法及び薄膜トランジスタの作製方法 - 特許庁

ETCHING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

エッチング方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

ETCHING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

エッチング方法及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT AND ETCHING METHOD例文帳に追加

半導体素子の製造方法、及びエッチング方法 - 特許庁

ETCHING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

エッチング方法及び半導体素子の製造方法 - 特許庁

PHOTOMASK BLANK, METHOD FOR PROCESSING THE SAME, AND ETCHING METHOD例文帳に追加

フォトマスクブランク、その加工方法、及びエッチング方法 - 特許庁

To a plasma etching trial method which can obtain etching parameters with a less-fluctuated etching rate.例文帳に追加

エッチング速度の変動が少ないエッチングパラメータが得られるプラズマエッチングの試行方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method and an etching apparatus, capable of uniformly etching a wafer.例文帳に追加

より均一にウエハをエッチングすることができるエッチング方法、及び、エッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method capable of performing etching at a high etching rate while avoiding notching.例文帳に追加

ノッチングを回避するとともに、高エッチングレートでのエッチングが可能なエッチング方法を提供する。 - 特許庁

ETCHING DEVICE AND METHOD例文帳に追加

エッチング処理装置及びエッチング処理方法 - 特許庁

WET ETCHING SYSTEM AND METHOD THEREFOR例文帳に追加

ウエットエッチング装置およびウエットエッチング方法 - 特許庁

METHOD TO FORM DOUBLE ETCHING STRUCTURE例文帳に追加

二重食刻構造を形成する方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR WET ETCHING例文帳に追加

ウェットエッチング装置およびウェットエッチング方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR WET ETCHING例文帳に追加

ウェットエッチング方法およびウェットエッチング装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR PLASMA ETCHING例文帳に追加

プラズマエッチング処理方法およびその装置 - 特許庁

METHOD OF DETECTING ETCHING DEPTH ON REAL TIME BASIS例文帳に追加

エッチング深さのリアルタイム検出方法 - 特許庁

PLASMA ETCHING DEVICE AND METHOD例文帳に追加

プラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD OF GRAZE ETCHING例文帳に追加

グレーズエッチング装置及びグレーズエッチング方法 - 特許庁

METHOD FOR DRY-ETCHING TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM例文帳に追加

透明導電性膜のドライエッチング方法 - 特許庁

METHOD OF SELECTIVELY ETCHING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板の選択的エッチング方法 - 特許庁

PLASMA ETCHING TREATMENT METHOD AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加

プラズマエッチング処理方法及びその装置 - 特許庁

PRE-TREATING METHOD FOR ETCHING SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

半導体ウェーハエッチングの前処理方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM例文帳に追加

透明導電性膜のドライエッチング方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR ETCHING GLASS SUBSTRATE例文帳に追加

ガラス基板エッチング方法及びその装置 - 特許庁

PLASMA ETCHING DEVICE AND METHOD THEREFOR例文帳に追加

プラズマエッチング装置、及びプラズマエッチング方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR ETCHING POROUS BODY例文帳に追加

多孔質体のエッチング方法及び装置 - 特許庁

METHOD OF ETCHING TiW UNDERBUMP LAYER例文帳に追加

TiWアンダーバンプ層のエッチング方法 - 特許庁

ETCHING TREATMENT APPARATUS AND HEATING METHOD THEREOF例文帳に追加

エッチング処理装置及びその加熱方法 - 特許庁

DRY ETCHING SYSTEM AND ITS MAINTAINING METHOD例文帳に追加

ドライエッチング装置及びそのメンテナンス方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR SILICON ETCHING例文帳に追加

シリコンエッチング方法およびシリコンエッチング装置 - 特許庁

METHOD OF PROCESSING IN ETCHING DIELECTRIC LAYER例文帳に追加

誘電体層をエッチングする処理方法 - 特許庁

例文

GATE ETCHING METHOD FOR HIGH VOLTAGE FET例文帳に追加

高電圧FET用ゲートエッチング方法 - 特許庁




  
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