euvを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 958件
EUV MASK INSPECTION DEVICE例文帳に追加
EUVマスク検査装置 - 特許庁
STENCIL MASK FOR EUV EXPOSURE, EUV EXPOSURE APPARATUS, AND EUV EXPOSURE METHOD例文帳に追加
EUV露光用ステンシルマスク、EUV露光装置、およびEUV露光方法 - 特許庁
COLLECTOR FOR EUV LIGHT SOURCE例文帳に追加
EUV光源用コレクタ - 特許庁
EUV MASK INSPECTION DEVICE AND EUV MASK INSPECTION METHOD例文帳に追加
EUVマスク検査装置、EUVマスク検査方法 - 特許庁
EUV EXPOSURE MASK BLANK, AND EUV EXPOSURE MASK例文帳に追加
EUV露光用マスクブランクおよびEUV露光用マスク - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF EUV MASK例文帳に追加
EUVマスクの製造方法 - 特許庁
EUV EXPOSURE APPARATUS, EUV EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
EUV露光装置、露光方法およびデバイス製造方法 - 特許庁
EUV EXPOSURE DEVICE, EUV EXPOSURE METHOD AND REFLECTION TYPE MASK例文帳に追加
EUV露光装置、EUV露光方法及び反射型マスク - 特許庁
EUV RADIATION SOURCE AND METHOD FOR GENERATING EUV RADIATION例文帳に追加
EUV放射源およびEUV放射を発生させる方法 - 特許庁
EUV RETICLE THERMAL MANAGEMENT SYSTEM例文帳に追加
EUVレチクルサーマルマネージメントシステム - 特許庁
METHOD OF FORMING EUV-RAY REFLECTING FILM, EUV MASK BLANK, AND REFLECTIVE MASK FOR EUV EXPOSURE例文帳に追加
EUV光反射膜の成膜方法とEUVマスクブランクならびにEUV露光用反射型マスク - 特許庁
LPP TYPE EUV LIGHT SOURCE APPARATUS例文帳に追加
LPP型EUV光源装置 - 特許庁
This material is particularly suited for micro-lithography, in particular EUV-lithography.例文帳に追加
この材料はマイクロリソグラフィー、特にEUVリソグラフィーに特に好適である。 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING MASK FOR EUV EXPOSURE, AND MASK FOR EUV EXPOSURE例文帳に追加
EUV露光用マスクの修正方法およびEUV露光用マスク - 特許庁
To provide an EUV irradiation source with high EUV conversion efficiency.例文帳に追加
高いEUV変換効率を有するEUV放射源を提供する。 - 特許庁
EUV RAY SPECTRUM MEASURING INSTRUMENT, AND EUV RAY POWER CALCULATION METHOD例文帳に追加
EUV光スペクトル測定装置およびEUV光のパワー算出方法 - 特許庁
IMAGING APPARATUS FOR EUV LIGHT OR X-RAY, AND EUV EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加
EUV光またはX線用撮像装置およびEUV露光装置 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING EUV LIGHT SOURCE, EUV EXPOSURE APPARATUS AND ELECTRON DEVICE例文帳に追加
EUV光源、EUV露光装置および電子デバイスの製造方法 - 特許庁
EUV LIGHT SOURCE, EUV EXPOSURE DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
EUV光源、EUV露光装置、及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁
This EUV emission is condensed by an EUV condenser 4 and is emitted from an EUV light extraction part 5.例文帳に追加
このEUV放射はEUV集光鏡4により集光され、EUV光取出部5より出射する。 - 特許庁
LIGHTING DEVICE FOR EUV MICROLITHOGRAPHY例文帳に追加
EUVマイクロリソグラフィ用照明装置 - 特許庁
The collector mirror leads the EUV radiation from an EUV light source to the hole member 22.例文帳に追加
集光器ミラーは、EUV光源からのEUVを孔部材22に導く。 - 特許庁
EUV LIGHT SOURCE, EUV EXPOSURE DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
EUV光源、EUV露光装置および半導体デバイスの製造方法 - 特許庁
MASK BLANKS FOR EUV EXPOSURE, ITS MANUFACTURING METHOD AND MASK FOR EUV EXPOSURE例文帳に追加
EUV露光用マスクブランクスおよびその製造方法、EUV露光用マスク - 特許庁
EUV MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
EUVマスクおよびその製造方法 - 特許庁
EUV LIGHT GENERATING DEVICE AND METHOD例文帳に追加
EUV光発生装置および方法 - 特許庁
To provide an EUV radiation collector system in which EUV radiation collection capability is enhanced.例文帳に追加
EUV集光能力を強化したEUV集光器システムを提供する。 - 特許庁
REFLECTION-TYPE MASK BLANK FOR EUV EXPOSURE, AND REFLECTION-TYPE MASK FOR EUV EXPOSURE例文帳に追加
EUV露光用反射型マスクブランクおよびEUV露光用反射型マスク - 特許庁
EUV PLASMA SOURCE TARGET DELIVERY SYSTEM例文帳に追加
EUVプラズマ源ターゲット供給システム - 特許庁
REFLECTIVE MASK BLANK FOR EUV LITHOGRAPHY例文帳に追加
EUVリソグラフィ用反射型マスクブランク - 特許庁
MULTILAYER FILM MIRROR AND EUV ALIGNER例文帳に追加
多層膜ミラー及びEUV露光装置 - 特許庁
EUV MASK BLANK QUALITY DETERMINATION METHOD AND EUV MASK BLANK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
EUVマスク用ブランクの良否判定方法及びEUVマスクの製造方法 - 特許庁
HALFTONE EUV MASK, HALFTONE EUV MASK BLANK, MANUFACTURING METHOD OF HALFTONE EUV MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加
ハーフトーン型EUVマスク、ハーフトーン型EUVマスクブランク、ハーフトーン型EUVマスクの製造方法及びパターン転写方法 - 特許庁
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