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ion plating methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 201件
ION PLATING FILM FORMING APPARATUS AND ION PLATING FILM FORMING METHOD例文帳に追加
イオンプレーティング成膜装置、及びイオンプレーティング成膜方法。 - 特許庁
FILM FORMATION METHOD BY ION PLATING例文帳に追加
イオンプレーティングによる成膜方法 - 特許庁
ARC ION PLATING APPARATUS AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
アークイオンプレーティング装置および成膜方法 - 特許庁
ION PLATING METHOD OF SYNTHETIC RESIN AND SYNTHETIC RESIN MOLDING HAVING ION PLATING FILM例文帳に追加
合成樹脂のイオンプレ—ティング方法とイオンプレ—ティング被膜を有する合成樹脂成型品 - 特許庁
METHOD FOR SUPPLYING CHROMIUM ION TO TRIVALENT CHROMIUM PLATING BATH例文帳に追加
３価クロムめっき浴へのクロムイオン補給方法 - 特許庁
METHOD FOR RECOVERING NOBLE METAL ION FROM PLATING DRAINAGE例文帳に追加
めっき排水からの貴金属イオン回収方法 - 特許庁
ION-PLATING APPARATUS AND DEPOSITION METHOD USING THE SAME例文帳に追加
イオンプレーティング装置およびこれを用いた成膜方法 - 特許庁
ELECTROLESS GOLD PLATING LIQUID REPREPARATION METHOD, ELECTROLESS GOLD PLATING METHOD AND GOLD ION-CONTAINING LIQUID例文帳に追加
無電解金めっき液再調製方法、無電解金めっき方法及び金イオン含有液 - 特許庁
METHOD FOR ADJUSTING CONCENTRATION OF METAL ION, DEVICE FOR ADJUSTING CONCENTRATION OF METAL ION, AND PLATING METHOD例文帳に追加
金属イオン濃度調整方法、金属イオン濃度調整装置及びめっき方法 - 特許庁
APPARATUS FOR REGENERATING PLATING SOLUTION CONTAINING SULFATE ION AND METHOD FOR REMOVING SULFATE ION例文帳に追加
硫酸イオンを含むメッキ液の再生装置及び硫酸イオン除去方法 - 特許庁
Further, the film 3 is formed by an arc ion plating method.例文帳に追加
また、皮膜３はアークイオンプレーティング法によって形成される。 - 特許庁
METHOD FOR REMOVING SULFATE ION, METHOD FOR REGENERATING COPPER/COBALT PLATING SOLUTION, APPARATUS FOR REMOVING SULFATE ION AND APPARATUS FOR REGENERATING COPPER/COBALT PLATING SOLUTION例文帳に追加
硫酸イオン除去方法、銅／コバルトメッキ液再生方法、硫酸イオン除去装置及び銅／コバルトメッキ液再生装置 - 特許庁
COPPER PLATING METHOD AND APPARATUS FOR ELECTROLYTICALLY REMOVING CHLORINE ION, WHICH IS USED IN THE METHOD例文帳に追加
銅めっき方法とそれに用いる塩素イオン電解除去装置 - 特許庁
METHOD FOR DYEING OF CLOTH BY ION PLATING, AND DYEING APPARATUS例文帳に追加
イオンプレーティングによる生地の染色方法及び染色装置 - 特許庁
ARC EVAPORATION SOURCE DEVICE, DRIVING METHOD THEREOF AND ION PLATING DEVICE例文帳に追加
アーク蒸発源装置、その駆動方法、及びイオンプレーティング装置 - 特許庁
METHOD AND FACILITY FOR REMOVING IRON ION FROM DISPLACEMENT PLATING LIQUID例文帳に追加
置換めっき液中の鉄イオンの除去方法およびその設備 - 特許庁
The vacuum process is performed by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method or the like.例文帳に追加
真空プロセスは真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等である。 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING TWO-LAYERED FLEXIBLE SUBSTRATE BY ION PLATING METHOD IN PLASMA ASSIST ATMOSPHERE例文帳に追加
プラズマアシストによるイオンプレーティング法を用いた２層フレキシブル基板の製法 - 特許庁
ION PLATING DEVICE, THIN FILM FORMATION METHOD, AND SUBSTRATE WITH SMOOTH SURFACE例文帳に追加
イオンプレーティング装置、薄膜形成方法及び表面平滑基板 - 特許庁
DEVICE FOR SUPPLYING NICKEL ION TO PLATING LIQUID AND SUPPLYING METHOD例文帳に追加
メッキ液にニッケルイオンを供給する装置および供給する方法 - 特許庁
TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING OR ION PLATING AND METHOD OF PRODUCING THE SAME例文帳に追加
スパッタリングまたはイオンプレーティング用ターゲット材及びその製造方法 - 特許庁
To provide an apparatus which removes a copper ion and an antimony ion contained in an electroless plating solution with a minimum facility and enables the resultant plating solution to be used again, and to provide a method therefor.例文帳に追加
無電解めっき溶液内の銅イオン及びアンチモンイオンを除去するための装置及び方法を提供する。 - 特許庁
To provide an ion plating method by which a high quality film is formed on a base material with high productivity; to provide an ion plating apparatus; and to provide a method for forming a gas barrier film by ion plating.例文帳に追加
高い生産性を保ちながら品質の高い膜を基材上に形成することができるイオンプレーティング方法および装置、およびイオンプレーティングによるガスバリア膜形成方法を提供する。 - 特許庁
TARGET FOR ARC ION PLATING OF CATHODE DISCHARGE TYPE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
カソード放電型アークイオンプレーティング用ターゲットおよびその製造方法 - 特許庁
PRESSURE GRADIENT TYPE ION PLATING FILM FORMING APPARATUS AND FILM FORMING METHOD例文帳に追加
圧力勾配型イオンプレーティング式成膜装置および成膜方法 - 特許庁
The selective patterning method includes a DC heating evaporation method, an ion beam evaporation method, a reactive ion beam evaporation method, a two-pole sputtering method, a magnetron sputtering method, a reactive sputtering method, a three-pole sputtering method, an ion beam sputtering method, an ion plating method, a hollow cathode beam method, an ion beam injection method and a plasma CVD method and the like.例文帳に追加
選択的パターニング方法は、直流加熱蒸着法、イオンビーム蒸着法、反応性イオンビーム蒸着法、２極スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、反応性スパッタ法、３極スパッタ法、イオンビームスパッタ法、イオンプレーティング法、ホローカソードビーム法、イオンビーム注入法及びプラズマＣＶＤ法などである。 - 特許庁
RAW MATERIAL POWDER OF EVAPORATION SOURCE MATERIAL FOR ION PLATING, EVAPORATION SOURCE MATERIAL FOR ION PLATING AND ITS MANUFACTURING METHOD AND GAS BARRIER SHEET AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
イオンプレーティング用蒸発源材料の原料粉末、イオンプレーティング用蒸発源材料及びその製造方法、ガスバリア性シート及びその製造方法 - 特許庁
WORKED WORKPIECE WITH HIGHLY CORROSION-RESISTANT ION PLATING, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
高耐食性イオンプレーティングを施した加工部品及びその製造方法 - 特許庁
ZINC OXIDE-BASED TRANSPARENT CONDUCTIVE SUBSTRATE BY ION PLATING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING SAME例文帳に追加
イオンプレーティング法による酸化亜鉛系透明導電性基板及びその製造方法 - 特許庁
The multilayer films 3, 4, 6, 7 are deposited with vacuum deposition, ion plating, ion assisted deposition and sputtering method.例文帳に追加
前記多層膜３，４，６，７は、真空蒸着、イオンプレーティング、イオンアシスト蒸着、スパッタリング法で成膜される。 - 特許庁
A thin film 7 is formed to cover the dent surfaces 1a and the protruded surfaces 1b by a physical vacuum evaporation method such as an ion plating method or a spattering method, a coating method or a plating method.例文帳に追加
この凹面１ａと凸面１ｂを覆うように薄膜７がイオンプレ−ティング、スパッタリング等の物理蒸着法や塗装法、メッキ法で形成される。 - 特許庁
In the third process, the dense ZrO_2 or HfO_2 is deposited by accelerating by an ion plating method or an ion assist method.例文帳に追加
第３過程は、イオンプレーティング法又はイオンアシスト法により加速して緻密なＺｒＯ_2又はＨｆＯ_2を堆積する。 - 特許庁
METHOD FOR EFFECTIVELY CONSERVING SUPPLY SOURCE OF METAL ION IN PLATING EQUIPMENT例文帳に追加
メッキ設備における金属イオン供給源の有効保存を可能とする方法 - 特許庁
The conductive membrane is formed on the substrate by a deposition method, a sputtering method, or an RF ion plating method.例文帳に追加
蒸着法、スパッタ法、ＲＦイオンプレーティング法により基板上に導電性の膜を形成する。 - 特許庁
METHODS FOR OXIDIZING HYPOPHOSPHORIC ACID ION AND PHOSPHOROUS ACID ION, METHOD FOR CLEANING ELECTROLESS NICKEL PLATING WASTE LIQUID, AND METHOD FOR RECYCLING PHOSPHATE例文帳に追加
次亜リン酸イオン、亜リン酸イオンの酸化方法、無電解ニッケルメッキ廃液の浄化方法並びにリン酸塩の再資源化方法 - 特許庁
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