「ion plating method」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The hard coating can be formed by a sputtering method or an ion plating method.例文帳に追加

当該硬質皮膜は、スパッタリング法又はイオンプレーティング法により成膜することにより製造することができる。 - 特許庁

The structure part and/or the electrode layers and the buffer part are consecutively formed by a sputter method, a vapor deposition method, an aerosol deposition method, an ion plating method, an ion cluster method, a laser beam abrasion method, etc.例文帳に追加

緻密構造部及び／又は電極層と上記バッファ部とを、スパッタ法、蒸着法、エアロゾルデポジション法、イオンプレーティング法、イオンクラスタ法及びレーザービームアブレーション法などによって連続して形成する。 - 特許庁

A method for manufacturing the separator 1 for the fuel cell is that a coating layer 14 (a carbon layer as a corrosion resistant layer) is formed on a metallic substrate 12 by combining a filterless arc ion plating method with a vapor deposition method different from the filterless arc ion plating method, and a conductive part is formed on the carbon layer by the filterless arc ion plating method.例文帳に追加

燃料電池用セパレータ１の製造方法は、フィルターレスアークイオンプレーティング法及び前記フィルターレスアークイオンプレーティング法と異なる蒸着法を併用して、金属基板１２上に被覆層１４（耐食層としてのカーボン層）を形成すると共に、前記フィルターレスアークイオンプレーティング法により、前記カーボン層に導電部を形成する。 - 特許庁

FORMATION OF METALLIC COMPOUND THIN FILM SMALL IN COARSE DROPLET NUMBER BY ARC TYPE ION PLATING METHOD例文帳に追加

アーク式イオンプレーティング法により粗大ドロップレットの少ない金属化合物薄膜を形成する方法 - 特許庁

The ion plating method is pref. a method using a pressure gradient type DC discharge system as a plasma source.例文帳に追加

また前記イオンプレーティング法が、プラズマ源に圧力勾配型直流放電方式を用いた方法であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a sliding member coating a sliding surface uniformly with a soft metallic film by a method replacing electrolytic plating and ion plating and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

電解めっきやイオンプレーティングに替わる方法で摺動面を良質な軟質金属皮膜で均一に被覆した摺動部材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electroless copper plating method by which plating retarding ions such as the counter ion of copper ions accumulated in an electroless copper plating solution and oxidant ions in a copper ion reducing agent are removed, and plating is executed in such a manner that the concentration of salt in the electroless copper plating solution is held to the value equal to or below the fixed one, to provide a device therefor and to provide the use thereof.例文帳に追加

無電解銅めっき液中に蓄積する銅イオンの対陰イオン、銅イオン還元剤の酸化体イオンと云っためっき妨害イオンを除去し、無電解銅めっき液中の塩濃度を一定値以下に保ってめっきする無電解銅めっき方法とその装置および用途を提供。 - 特許庁

TARGET FOR ION PLATING USED FOR MANUFACTURING OF ZINC OXIDE-BASED ELECTROCONDUCTIVE FILM, ITS MANUFACTURING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ZINC OXIDE-BASED ELECTROCONDUCTIVE FILM例文帳に追加

酸化亜鉛系導電膜製造用のイオンプレーティング用ターゲットとその製法、および酸化亜鉛系導電膜の製法 - 特許庁

The film or composite film is produced by an arc ion plating method or a magnetron sputtering method using a solid target material with a sintered structure containing B.例文帳に追加

Ｂを含む、焼結構造の固体ターゲット材を用いたアークイオンプレーティング法またはマグネトロンスパッタリング法で製造する。 - 特許庁

The first protective layer 14 is made of a metal-oxide film formed by using an electron beam deposition method or an ion plating method.例文帳に追加

第１保護層１４は、電子ビーム蒸着法又はイオンプレーティング法を用いて形成された金属酸化物膜からなる。 - 特許庁

In forming the laminated film, at least the abrasion-resistant layer is formed by an arc ion plating method.例文帳に追加

また前記の積層皮膜を形成するに当たり、少なくとも耐摩耗層をアークイオンプレーティング法によって形成する。 - 特許庁

The ITO film 30 is formed on the upper side surface of the light scattering film 20 by using an ion plating method.例文帳に追加

この光散乱膜２０の上側表面にイオンプレーティング法を用いてＩＴＯ膜３０を形成する。 - 特許庁

In this structure, a method for evaporating titanium by an HCD method and a method for generating carbon ions by an IBAD method are jointly used, and the structure is obtained by an ion-plating method.例文帳に追加

この構造は、ＨＣＤ法によりチタンを蒸発させる方法とＩＢＡＤ法により炭素イオンを発生させる方法とを併用し、イオンプレーティング法により得られる。 - 特許庁

To provide an ion plating method by which a film having excellent crystallinity and good quality can be obtained, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

結晶性に優れ、良好な品質の膜を得ることができるイオンプレーティング方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

The copper plating method includes: bringing an object to be plated into contact with a pre-treatment solution containing a bromide ion; and depositing copper by electroplating, using a copper plating solution.例文帳に追加

銅めっき方法において、被めっき物と臭化物イオンを含有する前処理液とを接触させ、銅めっき液を用いて電気めっきにより銅を析出する。 - 特許庁

As to this multicolor film forming method, films different in colors are piles to coat by ≥2 layers by an ion plating method, and a part of the film as the upper layer is removed by an etching method or a laser marking method.例文帳に追加

イオンプレーティング法で色の異なる被膜を２層以上重ねてコーティングし、エッチング法またはレーザーマーキング法で上層の被膜の一部を除去する。 - 特許庁

To provide a hard coat production method using an arc ion plating method, wherein the maximum temperature of a substrate is lowered, namely, to provide a technique of forming a hard coat on the surface of a substrate by using an arc ion plating method even when the substrate is made of an inexpensive and easily processable material.例文帳に追加

従来のアークイオンプレーティング法では、エッチング工程時に４００〜５００℃の熱影響を基材に与えてしまうため、５００℃以下では軟化や歪みがほとんど発生しない高価で加工が困難な材料を基材として用いなくてはならない。 - 特許庁

In the method for manufacturing the hard carbon film, when depositing the hard carbon film containing the metal element and nitrogen, the deposition condition is controlled using a processing method such as an ion-plating method, a sputtering method, a plasma processing method and an ion implanting method.例文帳に追加

金属元素及び窒素を含有した硬質炭素膜を形成する際に、イオンプレーティング法、スパッタリング法、プラズマ処理及びイオン注入処理等の処理方法を利用し、形成条件を制御する硬質炭素膜の製造方法である。 - 特許庁

This manufacturing method of the transparent conductive film is used for forming the transparent conductive film by a method selected from a pulse laser deposition method, a spattering method, an ion plating method and an EB deposition method, by using the sintered body as a target.例文帳に追加

前記の焼結体をターゲットとして、パルス・レーザー蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法およびＥＢ蒸着法から選ばれる方法により成膜する透明導電膜の製造方法。 - 特許庁

After an oxide film is formed by a vacuum vapor deposition method on a substrate containing a fluoride or on a fluoride thin film, another oxide film is formed by an ion plating method or an ion assist method on the first oxide film.例文帳に追加

フッ化物を含む基板上またはフッ化物薄膜上に、真空蒸着法により酸化物膜を形成した後、酸化物膜の上にイオンプレーティング法またはイオンアシスト法により酸化物膜を形成する。 - 特許庁

A thin film conductor is formed on at least one out of a surface and a back of the core substrate 9a by using any one out of a vapor deposition method, an ion plating method, an ion beam method, a vapor growth method and a sputtering method and patterned, and conductor patterns 19-22 are formed by patterning.例文帳に追加

コア基板９ａの表裏面の少なくともいずれかに蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビーム法、気相成長法、スパッタリング法のいずれかによって薄膜導体を形成した後にパターニングして導体パターン１９〜２２を形成する。 - 特許庁

To provide an electroless gold plating repreparation method where, in the case plating is applied using an electroless gold plating liquid with a gold sulfite salt as a gold ion source, the liquid stability of the electroless gold plating liquid can be sufficiently maintained, and also, gold ions can be sufficiently effectively fed to the electroless gold plating liquid without waste.例文帳に追加

亜硫酸金塩を金イオン源とする無電解金めっき液を用いてめっきを施す場合に、無電解金めっき液の液安定性を十分維持可能であり、かつ金イオンを無駄なく十分有効に無電解金めっき液に供給することができる無電解金めっき液再調製方法を提供する。 - 特許庁

The electroless conversion gold-plating method for plating gold on an article to be plated, which is dipped in the gold-plating solution including gold cyanide salt, is characterized by plating while controlling a content of free cyanide ion included in the gold-plating solution to a fixed quantity or less.例文帳に追加

シアン化金塩を含む置換型無電解金めっき液中に被めっき物を浸漬して金めっきを行う無電解金めっき方法において、該無電解金めっき液中に含まれる遊離シアンイオン量を一定量以下に制御しつつめっきを行うことを特徴とする置換型無電解金めっき方法。 - 特許庁

A light metal layer comprising lithium metal is formed on the negative electrode layer by a dry film forming method such as a vacuum deposit method or an ion plating method (step S122).例文帳に追加

そののち、負極合剤層に、真空蒸着法あるいはイオンプレーティング法などの乾式成膜法によりリチウム金属よりなる軽金属層を成膜する（ステップＳ１２２）。 - 特許庁

The transparent anode 11 and the transparent cathode 16 are formed of an amorphous transparent electrode that a metal oxide is formed by sputtering method and ion plating method.例文帳に追加

透明陽極１１および透明陰極１６は金属酸化物をスパッタ法またはイオンプレーティング法により形成したアモルファス透明電極で構成される。 - 特許庁

To provide a method for forming an electrically conductive transparent zinc oxide-based film which combines excellent electroconductivity with excellent chemical durability by an ion plating method.例文帳に追加

イオンプレーティング法による、優れた導電性と化学的耐久性とを兼ね備えた酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

This film forming method, which is based on an ion plating method, achieves a higher density of a film formed on a substrate in comparison with conventional methods.例文帳に追加

これは、イオンプレーティング法に準ずる成膜手法であり、通常の蒸着法に比べて、基板上に形成される膜密度の向上が図られる。 - 特許庁

A surface of a resin molded item is activated by a plasma treatment and then is subjected to a metal coating treatment by means of a physical deposition method selected from a sputtering method, a vacuum deposition method and an ion plating method.例文帳に追加

プラズマ処理により活性化された表面に、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティングから選ばれる物理蒸着法で金属の被覆処理がなされる樹脂成形体に関する。 - 特許庁

The covering layer is the intra-orally worn body formed by preferably a chemical vapor deposition method, especially a plasma CVD method, or by a physical vapor deposition method, especially an ion plating method.例文帳に追加

前記被覆層は、好ましくは化学的蒸着法、特にプラズマＣＶＤ法、または物理的蒸着法、特にイオンプレーティング法により形成されて成る口腔内装着体である。 - 特許庁

To provide a method in which noble metal ions can be efficiently recovered from noble-metal-ion-containing plating drainage discharged from a plating recovery tank and a plating cleaning tank, and poor performance of an object to be plated can be also suppressed.例文帳に追加

めっき回収槽及びめっき洗浄槽から排出される、貴金属イオンを含むめっき排水から貴金属イオンを効率良く回収することができ、かつ、めっき被処理物の性能不良を抑制できる方法を提供する。 - 特許庁

The catalyst 4 with the dendritic structure is formed by a vacuum evaporation method like reactive sputter, reactive electron beam evaporation, or ion plating.例文帳に追加

樹枝状構造の触媒４は、反応性スパッタ、反応性電子ビーム蒸着、イオンプレーティング等の真空蒸着法により形成する。 - 特許庁

After the resist pattern is removed, the portion of the power feeding metal film formed with no metal plating layer is removed by the ion milling method.例文帳に追加

レジストパタ−ンを除去後、給電用金属膜の金属めっき層が形成されていない部分をイオンミリング法によって除去する。 - 特許庁

In the cobalt alloy plating solution, the plating method using the plating solution, and the plated article, the concentration of cobalt ions as the main metal ions in the plating solution is 0.0005-0.18 mole/L, and the concentration of reducing agent to the cobalt ion concentration is 1.5-25 times in terms of the equivalent multiple.例文帳に追加

めっき液中の主たる金属イオンであるコバルトイオンの濃度が０．０００５〜０．１８モル／Ｌであり、コバルトイオン濃度に対する還元剤の濃度が当量倍数で、１．５〜２５倍であることを特徴とするコバルト系合金めっき液、該めっき液を用いためっき方法、及びめっき物。 - 特許庁

To provide a method which efficiently controls a cyanide ion concentration of a solution containing a free cyanide ion such as a gold plating solution, and controls the cyanide ion concentration of the solution within a constant range, without needing a complicated operation.例文帳に追加

金めっき液などの遊離シアンイオンを含む溶液において、シアンイオン濃度を効率良く管理でき、煩雑な操作を要することなく、液中のシアンイオン濃度を一定範囲に制御することが可能な方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture an optical thin film which does not cause optical absorption in the base when an oxide thin film is formed by an ion plating method or an ion assist method on a substrate containing a fluoride or on a fluoride thin film.例文帳に追加

フッ化物を含む基板やフッ化物薄膜上にイオンプレーティング法やイオンアシスト法で酸化物薄膜を形成するに際し、下地に光学的な吸収が発生することのない光学薄膜を作製する。 - 特許庁

Accordingly, manufacturing cost can be reduced since it is not necessary to use oxygen ions or active oxygen, or to use an ion plating method.例文帳に追加

このため、酸素イオンや活性酸素を用いたりイオンプレーティング法を用いたりすることが必要無いので、製造コストを低下させることができる。 - 特許庁

Thus, since the use of oxygen ions, active oxygen or ion plating method can be dispensed with production cost is lowered.例文帳に追加

このため、酸素イオンや活性酸素を用いたりイオンプレーティング法を用いたりすることが必要無いので、製造コストを低下させることができる。 - 特許庁

An SiO thin film acting as a negative active material layer is formed on the surface of a current collector by vacuum deposition, preferable by an ion plating method.例文帳に追加

集電体の表面に負極活物質層としてＳｉＯの薄膜を真空蒸着、好ましくはイオンプレーティング法により形成する。 - 特許庁

To smoothly prevent the substitutive deposition on the anode and the increase in tin ion concentration in a plating bath regarding a tin alloy electroplating method.例文帳に追加

電気スズ合金メッキ方法において、簡便な操作で陽極での置換析出と、メッキ浴のスズイオン濃度の増大を円滑に防止する。 - 特許庁

The molded product is constituted by forming the thin film on the molded body using the polycarbonate resin with a glass transition temperature of 150°C or above by an ion plating method.例文帳に追加

ガラス転移温度が１５０℃以上であるポリカーボネート樹脂を用いた成形体に、イオンプレーティング法により薄膜を形成した成形品。 - 特許庁

The manufacturing method of the ITO multilayer film comprises a process of forming a first ITO film on an upper part of a plastic body at a base plate temperature of 20 to 120°C with the use of an ion plating method, and a process of forming a second ITO film on the first ITO film at a base plate temperature of 150 to 250°C with the use of the ion plating method.例文帳に追加

プラスチック体上方に、イオンプレーティング法を用い、基板温度２０℃〜１２０℃で、第１のＩＴＯ膜を成膜する工程と、前記第１のＩＴＯ膜上に、イオンプレーティング法を用い、基板温度１５０℃〜２５０℃で、第２のＩＴＯ膜を成膜する工程とを有するＩＴＯ多層膜の製造方法が提供される。 - 特許庁

To provide the plating method and plating device for conducting plating at a high current density and a high speed at the time of continuously electroplating a long strip-shaped metallic sheet by the use of an insoluble anode by replenishing a large amt. of the plating metal ion consumed in plating in a short time with a simple device.例文帳に追加

長尺帯状の金属板に不溶性陽極を用いて連続的に電気めっきを施す場合に、めっきを施す際に消費されるめっき金属イオンを、簡単な装置を用いて短時間で大量にめっき液中に補給することにより、高電流密度で高速にめっきすることを可能とするめっき方法およびめっき装置を提供する。 - 特許庁

When forming the electron injection electrode 24 by a sputtering method or an ion plating method, damages can be prevented from spreading to the organic luminescent element 16 or the like by the buffer layer 22.例文帳に追加

バッファ層２２により、スパッタ法あるいはイオンプレイティング法による電子注入電極２４の形成時に有機発光層１６等へダメージが及ぶことを防止できる。 - 特許庁

To provide a fractionally analyzing method of plating layers in which a zinc-iron alloy two-layer plated steel plate is immersed in a mixed aqueous solution made by blending a neutral salt, an Fe-ion oxidant, and an Fe-ion chelator, and the lower plating layer is dissolved/peeled off in a short time while applying ultrasonic wave to it.例文帳に追加

亜鉛−鉄合金系二層メッキ鋼板を、中性塩とＦｅイオン酸化剤とＦｅイオンキレート化剤を配合した混合水溶液中に浸漬して超音波をかけながら下層メッキを、短時間で溶解剥離するメッキ層分別分析法を提供する。 - 特許庁

To provide an ion plating device for forming a smooth thin film on a substrate, to provide a thin film formation method, and to provide a substrate with a smooth surface obtained thereby.例文帳に追加

平滑な薄膜を基板上に形成するためのイオンプレーティング装置及び薄膜形成方法と、得られる表面平滑基板を提供する。 - 特許庁