| 例文 |
layer methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 36897件
The application method of the coat layer is preferably a wet solidification method.例文帳に追加
さらには、コート層の付与方法が湿式凝固法であることが好ましい。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING SEMICONDUCTOR LAYER AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC THIN FILM TRANSISTOR例文帳に追加
半導体層の形成方法および有機薄膜トランジスタの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR REMOVING RESIN MASK LAYER AND METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE WITH SOLDER BUMP例文帳に追加
樹脂マスク層の除去方法およびはんだバンプ付き基板の製造方法 - 特許庁
PLATING METHOD OF CONDUCTIVE LAYER AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
導電層のめっき方法およびその半導体装置の製造方法 - 特許庁
FORMING METHOD OF CONDUCTOR LAYER, MANUFACTURING METHOD OF CIRCUIT BOARD AND CIRCUIT BOARD例文帳に追加
導体層の形成方法、回路基板の製造方法および回路基板 - 特許庁
The diamond-like carbon layer 38 is formed by the CVD method or sputtering method.例文帳に追加
ダイアモンドライクカーボン層38はCVD法やスパッタ法により形成される。 - 特許庁
METHOD FOR RUBBING ALIGNMENT LAYER, LIQUID CRYSTAL DISPLAY AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
配向膜のラビング方法、液晶表示装置およびその製造方法 - 特許庁
FORMING METHOD FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE LAYER, AND FORMING METHOD FOR LAMINATED STRUCTURE例文帳に追加
透明導電層の形成方法及び積層構造体の形成方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN OF MAGNETIC LAYER, AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC HEAD OF THIN FILM例文帳に追加
磁性層パターンの形成方法および薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING THIN-FILM MAGNETIC HEAD, AND METHOD FOR FORMING MAGNETIC LAYER PATTERN例文帳に追加
薄膜磁気ヘッドの製造方法、ならびに磁性層パターンの形成方法 - 特許庁
SOLDERING METHOD, SOLDERING STRUCTURE, AND METHOD FOR MANUFACTURING SOLDERING LAYER例文帳に追加
はんだ接合方法、はんだ接合構造、及びその接合層の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING FILM OF ORGANIC SEMICONDUCTOR LAYER, METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC THIN-FILM TRANSISTOR例文帳に追加
有機半導体層の成膜方法、有機薄膜トランジスタの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PHOTOSENSITIVE RESIN TRANSFER LAYER AND METHOD FOR PRODUCING SHAPED BODY例文帳に追加
感光性樹脂転写層の形成方法及び成形体の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MEASURING FILM THICKNESS OF SEMICONDUCTOR LAYER AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加
半導体層の膜厚測定方法及び半導体基板の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR LAYER AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOELECTRIC CONVERSION DEVICE例文帳に追加
半導体層の製造方法および光電変換装置の製造方法 - 特許庁
GROWTH METHOD OF SEMICONDUCTOR LAYER AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING ELEMENT例文帳に追加
半導体層の成長方法および半導体発光素子の製造方法 - 特許庁
FILM FORMATION METHOD OF SEMICONDUCTOR LAYER AND MANUFACTURING METHOD OF PHOTOELECTRIC CONVERSION APPARATUS例文帳に追加
半導体層の製膜方法および光電変換装置の製造方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING OPAQUE LAYER, RECORDING METHOD, INK SET, INK CARTRIDGE, AND RECORDING APPARATUS例文帳に追加
不透明層の形成方法、記録方法、インクセット、インクカートリッジ、記録装置 - 特許庁
METHOD FOR FORMING BARIUM-CONTAINING LAYER ON SURFACE OF QUARTZ CRUCIBLE BY CVD METHOD例文帳に追加
CVD法による石英ルツボ表面のバリウム含有層の形成方法 - 特許庁
MAGNETIC HEAD AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING PATTERNED LAYER例文帳に追加
磁気ヘッドおよびその製造方法ならびにパターン化層の形成方法 - 特許庁
LIQUID CRYSTAL DISPLAY, ITS MANUFACTURING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL RETARDATION LAYER例文帳に追加
液晶表示装置及びその製造方法、位相差層の製造方法 - 特許庁
PATTERNING METHOD OF COLOR CONVERSION LAYER, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC EL-DISPLAY例文帳に追加
色変換層のパターニング方法および有機ELディスプレイの製造方法 - 特許庁
In the method for manufacturing of the semiconductor device, a buffering layer 520 is given and a first semiconductor layer 530 is formed on the surface of the buffering layer.例文帳に追加
バッファ層を提供するとともに、第1の半導体層530をバッファ層520の表面に形成する。 - 特許庁
COMPOSITE THERMAL RECORDING LAYER, THERMAL RECORDING BODY, THERMAL RECORDING LAYER TRANSFER SHEET, LABEL FOR STICKING THERMAL RECORDING LAYER, AND RECORDING METHOD例文帳に追加
複合感熱記録層、感熱記録体、感熱記録層転写シート、感熱記録層貼付用ラベル、および記録方法 - 特許庁
RADIATION-CURABLE RESIN COMPOSITION FOR FLATTENED LAYER, PLANARIZING LAYER, METHOD FOR PRODUCING PLANARIZED LAYER AND SOLID-STATE IMAGE SENSING DEVICE例文帳に追加
平坦化層用放射線硬化性樹脂組成物、平坦化層、平坦化層の製造方法及び固体撮像素子 - 特許庁
The upper shielding layer 8, the magnetism shielding layer 9 and the lower magnetic pole layer 10 are continuously formed by a plating method.例文帳に追加
上部シールド層8、磁気遮断層9および下部磁極層10は、めっき法によって連続的に形成される。 - 特許庁
PHOTOGRAPHIC EMULSION SURFACE PROTECTIVE LAYER TRANSFERRING SHEET, METHOD FOR FORMING PHOTOGRAPHIC EMULSION SURFACE PROTECTIVE LAYER AND PHOTOMASK WITH PROTECTIVE LAYER例文帳に追加
写真乳剤面保護層転写シート及び写真乳剤面保護層の形成方法並びに保護層付きフォトマスク - 特許庁
DOUBLE LAYER-COATED COPPER POWDER, METHOD OF PRODUCING THE DOUBLE LAYER-COATED COPPER POWDER, AND ELECTRICALLY CONDUCTIVE PASTE USING THE DOUBLE LAYER-COATED COPPER POWDER例文帳に追加
二層コート銅粉及びその二層コート銅粉の製造方法並びにその二層コート銅粉を用いた導電性ペースト - 特許庁
MULTI-LAYER RECORDING TYPE OPTICAL DISK, RECORDING METHOD OF MULTI-LAYER RECORDING TYPE OPTICAL DISK, AND RECORDING DEVICE OF MULTI-LAYER RECORDING TYPE OPTICAL DISK例文帳に追加
多層記録型光ディスク、多層記録型光ディスクの記録方法、および、多層記録型光ディスクの記録装置 - 特許庁
The electrolytic-corrosion preventive layer 13, the second metal layer 12, and the low-reflective layer 14 are formed by a spattering method.例文帳に追加
電喰防止層13と第二の金属層12と低反射層14はスパッタリング法によって形成することができる。 - 特許庁
To provide an electrode catalyst layer including high catalyst activity in a thin catalyst layer, and to provide a manufacturing method of the electrode catalyst layer.例文帳に追加
薄い触媒層で高い触媒活性を有する電極触媒層およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL MEMBER WITH HARD COAT LAYER, FILM FOR FORMING HARD COAT LAYER SURFACE AND OPTICAL MEMBER WITH HARD COAT LAYER例文帳に追加
ハードコート層付き光学部材の製造方法、ハードコート層表面形成用フィルム、及びハードコート層付き光学部材 - 特許庁
In this method, a dissociation layer 11 is deposited on a substrate 10 and a conductive laminated layer 20 is formed on the dissociation layer 11.例文帳に追加
本方法は、基板(10)に解離層(11)を堆積し、解離層(11)上に導電性ラミネート層(20)を形成する。 - 特許庁
Furthermore, a method is comprised where the FSG layer is chemically-mechanically polished, and an undoped oxide layer is deposited over the FSG layer.例文帳に追加
さらにFSG層を化学機械研磨して、このFSG層の上にアンドープの酸化物層を堆積する方法を含む。 - 特許庁
A contact-wiring plug 13 of a two-layer structure consisting of a barrier metal layer and a tungsten layer is formed by a sputtering method.例文帳に追加
バリアメタル層とタングステン層との2層構造のコンタクト配線プラグ13を、スパッタリング法等を用いて形成する。 - 特許庁
IMPLEMENT HAVING COATING LAYER FORMED BY APPLYING INK PIGMENT ON ONE OR THREE COATING LAYER AND METHOD OF FORMING THE SAME COATING LAYER例文帳に追加
ワンコーティングまたはスリーコーティング層にインク顔料を塗布してコーティング層を形成した器具およびその形成方法 - 特許庁
DOUBLE-ACTIVE-LAYER STRUCTURE WITH POLYSILICON LAYER AND MICROCRYSTALLINE SILICON LAYER, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND APPARATUS USING THE STRUCTURE例文帳に追加
ポリシリコン層及び微細結晶シリコン層を有する2重活性層構造、その製造方法及びこれを使用する装置 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING TaCN BARRIER LAYER IN COPPER METALLIZATION PROCESS AND COPPER METAL LAYER STRUCTURE WITH TaCN BARRIER LAYER例文帳に追加
銅金属化プロセスにおけるTaCNバリア層の製造方法並びにTaCNバリア層を有する銅金属層構造 - 特許庁
An organic luminescent layer 4 is formed by silk screening method interposing between a positive electrode layer 3 and a negative electrode layer 5.例文帳に追加
陽電極層3と陰電極層5との間に介在する有機発光層4をスクリーン印刷法により形成する。 - 特許庁
SEPARATOR FOR ELECTRIC DOUBLE LAYER CAPACITOR, ELECTRIC DOUBLE LAYER CAPACITOR, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEPARATOR FOR ELECTRIC DOUBLE LAYER CAPACITOR例文帳に追加
電気二重層キャパシタ用セパレータ及び電気二重層キャパシタ並びに電気二重層キャパシタ用セパレータの製造方法 - 特許庁
CHEMICALLY AMPLIFYING PHOTORESIST LAYER LAMINATE, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTORESIST LAYER LAMINATE, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTORESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING CONNECTING TERMINAL例文帳に追加
化学増幅型ホトレジスト層積層体、ホトレジスト層積層体製造方法、ホトレジストパターンの製造方法及び接続端子の製造方法 - 特許庁
RECORDING LAYER INFORMATION DETECTING DEVICE, RECORDING LAYER INFORMATION DETECTING METHOD, REPRODUCING DEVICE, REPRODUCING METHOD, RECORDING DEVICE, RECORDING METHOD, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加
記録層情報検出装置、記録層情報検出方法、再生装置、再生方法、記録装置、記録方法及び記録媒体 - 特許庁
METHOD FOR FORMING MULTIPLE-LAYER ELECTRODE STRUCTURE ON SOLAR CELL, METALLIZATION CONTACT STRUCTURE, PATTERNING METHOD OF LAYER, AND METHOD FOR FORMING FUNCTIONAL STRUCTURE例文帳に追加
太陽電池上に多層電極構造を形成する方法、金属配線コンタクト構造、層のパターニング方法、機能構造の形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING PHOTOCATALYST LAYER, ITS STORING METHOD, METHOD FOR FORMING PHOTOCATALYST LAYER AND METHOD FOR PREPARING PHOTOCATALYST CARRYING STRUCTURE例文帳に追加
光触媒層形成用組成物、その保存方法、光触媒層の形成方法および光触媒担持構造体の製造方法 - 特許庁
The manufacturing method of a heterojunction bipolar transistor first forms a collector contact layer 2; a collector layer 3; a base layer 4; a base protective layer 5; an emitter layer 6; an emitter contact layer 7; and a WSi layer 8 formed sequentially on a substrate 1.例文帳に追加
本発明のヘテロ接合バイポーラトランジスタの製造方法では、まず、基板1の上に、コレクタコンタクト層2、コレクタ層3、ベース層4、ベース保護層5、エミッタ層6およびエミッタコンタクト層7、WSi層8を順次形成する。 - 特許庁
WET ETCHING METHOD, DAMAGED LAYER REMOVING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
ウェットエッチング方法、ダメージ層除去方法、半導体装置の製造方法、および半導体基板の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING RIGID POLYURETHANE FOAM, METHOD FOR FORMING PERMEABLE LAYER, AND METHOD FOR REINFORCING BASE ROCK例文帳に追加
硬質ポリウレタンフォームの製造方法、透水層の形成方法および岩盤の補強方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING METAL SINGLE LAYER FILM, METHOD OF FORMING WIRING, AND MANUFACTURING METHOD OF FIELD-EFFECT TRANSISTOR例文帳に追加
金属単層膜形成方法、配線形成方法、及び、電界効果型トランジスタの製造方法 - 特許庁
FORMING METHOD OF PHASE-CHANGE MATERIAL LAYER, MANUFACTURING METHOD OF PHASE-CHANGE MEMORY ELEMENT USING THIS METHOD例文帳に追加
相変化物質層の形成方法及びそれを利用した相変化メモリ素子の製造方法 - 特許庁
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