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mesa etchの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3件
The exposed part of the etch stop layer 4 is removed to form mesa structure 10, and buried layers 11 and 12 are formed at both the sides of the mesa structure.例文帳に追加
エッチストップ層4の露出した部分を除去してメサ構造10を形成し、その両側に埋め込み層11,12を形成する。 - 特許庁
An edge based image transfer process includes depositing an etch-masking medium, for example, a nitride on the sidewall of a mesa and removing the mesa so as to leave the sidewall structure.例文帳に追加
エッジ・ベースのイメージ転写プロセスは、メサの側壁上にエッチマスキング媒体を、例えば、窒化物を付着させることと、メサを除去させることを含み、それにより側壁構造が残される。 - 特許庁
After a circular mask layer M2 having a diameter L3 smaller than the diameter of the mesa portion 18 enclosed with a groove portion 30 is disposed in a central region of the upper surface of the mesa portion 18D, the mask layer M2 is used as a mask to selectively etch a semiconductor stack structure 20D.例文帳に追加
溝部30に囲まれたメサ部18Dの直径よりも小さな直径L3の円形状のマスク層M2をメサ部18Dの上面中央領域に配置したのち、マスク層M2をマスクとして、半導体積層構造20Dを選択的にエッチングする。 - 特許庁
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