「modeling method」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for control the turbine clearance includes a step 704 of applying at least one operation parameter as an input to at least one neural network model; a step 706 of modeling the thermal expansion of at least one turbine component through the neural network model; and a step 708 of performing a control task based on at least part of the modeled thermal expansion of one or more turbine components.例文帳に追加

タービンの間隙を制御するための方法は、少なくとも１つの運転パラメータを入力として少なくとも１つのニューラルネットワークモデルに適用する段階７０４と、ニューラルネットワークモデルを介して少なくとも１つのタービン構成要素の熱膨張をモデル化する段階７０６と、１つ又はそれ以上のタービン構成要素のモデル化熱膨張に少なくとも部分的に基づき制御動作を行う段階７０８とを含むことができる。 - 特許庁

The method to control a valve solenoid 22 for the injector consists of steps: to generate a target value signal as modeling of the desired current profile flowing through the valve solenoid; to prepare a current control device for adjusting the current flowing through the valve solenoid; and to make the current flowing through the valve solenoid precisely identical to the target value signal by adjusting the current flowing through the valve solenoid.例文帳に追加

噴射器用弁ソレノイド（２２）を制御する方法は、弁ソレノイドを通って流れる所望の電流プロフィールをモデル化した目標値信号を生成させるステップと、弁ソレノイドを通って流れる電流を調整するようになった電流制御装置を準備するステップと、弁ソレノイドを通って流れる電流を調整して弁ソレノイドを通って流れる電流が目標値信号に一層ぴったりと一致するようにするステップとを有する。 - 特許庁

A semiconductor device manufacturing method comprises the steps of determining the isolation structure stress effect of a first semiconductor device, determining the optical proximity effect of a second semiconductor device, selecting a modeling design parameter such that the isolation structure stress effect is compensated with the optical proximity effect on a manufacture model, and constituting a third semiconductor device using the selected design parameter.例文帳に追加

本発明は第１の半導体デバイスの分離構造応力効果を決定する工程、第２の半導体デバイスの光学的近接効果を決定する工程、製造モデル上で分離構造応力効果が光学的近接効果で相殺されるようにモデリング設計パラメータを選択する工程、および選択された設計パラメータを用いて第３の半導体デバイスを構成する工程とを含む半導体デバイスを製造する方法を提供する。 - 特許庁