nitrideを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 16740件
PLASMA CVD OF METAL NITRIDE LAYER例文帳に追加
金属窒化物層のプラズマCVD - 特許庁
NITRIDE SYSTEM SEMICONDUCTOR LASER DEVICE例文帳に追加
窒化物系半導体レーザ装置 - 特許庁
NITRIDE SEMICONDUCTOR HETEROSTRUCTURE例文帳に追加
窒化物半導体ヘテロ構造 - 特許庁
GALLIUM NITRIDE BASED LIGHT EMITTING ELEMENT例文帳に追加
窒化ガリウム系発光素子 - 特許庁
PRODUCTION METHOD FOR TITANIUM NITRIDE FILM例文帳に追加
窒化チタン膜の製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF SILICON NITRIDE POWDER例文帳に追加
窒化珪素粉末の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SILICON NITRIDE POWDER例文帳に追加
窒化ケイ素粉末の製造方法 - 特許庁
FILM FORMING DEVICE FOR BORON NITRIDE FILM例文帳に追加
窒化ホウ素膜の成膜装置 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF SILICON NITRIDE POWDER例文帳に追加
窒化ケイ素粉末の製造法 - 特許庁
ETCHING METHOD OF NITRIDE SEMICONDUCTOR例文帳に追加
窒化物半導体のエッチング方法 - 特許庁
NITRIDE SEMICONDUCTOR SOLAR CELL例文帳に追加
窒化物半導体太陽電池 - 特許庁
NITRIDE SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING ELEMENT ARRAY例文帳に追加
窒化物半導体発光素子アレイ - 特許庁
GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR LAMINATE例文帳に追加
III族窒化物半導体積層物 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING CUBIC BORON NITRIDE例文帳に追加
立方晶窒化ホウ素の製造方法 - 特許庁
NITRIDE BASED SEMICONDUCTOR LASER例文帳に追加
窒化物系半導体レーザー装置 - 特許庁
ALUMINUM NITRIDE CIRCUIT BOARD例文帳に追加
窒化アルミニウム回路基板 - 特許庁
GROUP III NITRIDE ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加
III族窒化物電子デバイス - 特許庁
NITRIDE SEMICONDUCTOR ELECTRON EMITTING ELEMENT例文帳に追加
窒化物半導体電子放出素子 - 特許庁
PRODUCTION OF TANTALUM NITRIDE例文帳に追加
窒化タンタルの製造方法 - 特許庁
GROUP III NITRIDE LIGHT EMITTING DIODE例文帳に追加
3族窒化物系発光ダイオード - 特許庁
METHOD FOR DEPOSITING SILICON NITRIDE FILM例文帳に追加
窒化ケイ素膜の堆積方法 - 特許庁
METHOD OF PROCESSING NITRIDE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加
窒化物半導体基板の加工方法 - 特許庁
NITRIDE CERAMIC GREEN SHEET例文帳に追加
窒化物セラミックグリーンシート - 特許庁
HARD CARBON NITRIDE FILM MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
硬質窒化炭素膜の作製方法 - 特許庁
GALLIUM NITRIDE SYSTEM LIGHT EMITTING DEVICE例文帳に追加
窒化ガリウム系発光装置 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING BORON NITRIDE NANOHORN例文帳に追加
窒化ホウ素ナノホーンの製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD FOR NITRIDE SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
窒化物半導体素子の製造方法。 - 特許庁
SUBSTRATE FOR NITRIDE SEMICONDUCTOR GROWTH例文帳に追加
窒化物半導体成長用基板 - 特許庁
SINTERED SILICON NITRIDE FILM FORMING METHOD例文帳に追加
炭化窒化珪素膜の形成方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF NITRIDE SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加
窒化物半導体素子の製造方法 - 特許庁
NITRIDE COMPOUND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加
窒化物化合物半導体素子 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SILICON NITRIDE FILM例文帳に追加
窒化シリコン膜の製造方法 - 特許庁
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると 検索履歴を保存できる! 語彙力診断の実施回数増加! |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると 検索履歴を保存できる! 語彙力診断の実施回数増加! |