nitrideを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 16740件
PRODUCTION OF CARBON NITRIDE COMPOUND例文帳に追加
窒化炭素化合物の製造方法 - 特許庁
NITRIDE SEMICONDUCTOR LASER DEVICE例文帳に追加
窒化物半導体レ—ザ装置 - 特許庁
ANTI-CHAFING COMPOSITION COMPRISING BORON NITRIDE例文帳に追加
窒化ホウ素を含む抗擦過組成物 - 特許庁
PRODUCTION METHOD OF CARBON NITRIDE MATERIAL例文帳に追加
窒化炭素物の製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING PROCESS OF ALUMINUM NITRIDE SUBSTRATE例文帳に追加
窒化アルミニウム基板の製造方法 - 特許庁
NITRIDE SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE例文帳に追加
窒化物半導体の発光素子 - 特許庁
MULTILEVEL OPERATION OF NITRIDE MEMORY CELL例文帳に追加
窒化メモリセルのマルチレベル操作 - 特許庁
HEXAGONAL BORON NITRIDE SINTERED COMPACT例文帳に追加
六方晶窒化ホウ素焼結体 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING NITRIDE SEMICONDUCTOR FILM例文帳に追加
窒化物半導体膜の製造方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING NITRIDE SEMICONDUCTOR LAYER例文帳に追加
窒化物半導体層の形成方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING NITRIDE SEMICONDUCTOR例文帳に追加
窒化物半導体の製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING GROUP III NITRIDE例文帳に追加
III族窒化物の製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF NITRIDE SINGLE CRYSTAL例文帳に追加
窒化物単結晶の製造方法 - 特許庁
SEMICONDUCTOR DEVICE CONTAINING NITRIDE例文帳に追加
窒化物含有半導体装置 - 特許庁
GROWTH METHOD OF NITRIDE SEMICONDUCTOR LAYER例文帳に追加
窒化物半導体層の成長方法 - 特許庁
GROWTH METHOD FOR NITRIDE SEMICONDUCTOR例文帳に追加
窒化物半導体の成長方法 - 特許庁
Thereafter, the nitride film 6 is removed.例文帳に追加
その後、窒化膜6を除去する。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SILICON NITRIDE FILTER例文帳に追加
窒化ケイ素フィルタの製造法 - 特許庁
NITRIDE SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING ELEMENT例文帳に追加
窒化物半導体発光素子 - 特許庁
METHOD FOR DEPOSITING METAL SILICON NITRIDE例文帳に追加
金属ケイ素窒化物の被着方法 - 特許庁
FORMATION OF NITRIDE SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
窒化物半導体素子の形成方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF ALUMINIUM NITRIDE例文帳に追加
窒化アルミニウムの製造方法 - 特許庁
NITRIDE SYSTEM SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING ELEMENT例文帳に追加
窒化物系半導体発光素子 - 特許庁
SUBSTRATE FOR GROWING NITRIDE SEMICONDUCTOR例文帳に追加
窒化物半導体成長基板 - 特許庁
NITRIDE COMPOUND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加
窒化物系化合物半導体素子 - 特許庁
GROUP III NITRIDE-BASED SOLAR CELL例文帳に追加
III族窒化物系太陽電池 - 特許庁
NITRIDE SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
窒化物系半導体デバイス - 特許庁
NITRIDE SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING CHIP例文帳に追加
窒化物半導体発光チップ - 特許庁
DEPOSITION OF SILICON NITRIDE THIN FILM例文帳に追加
窒化ケイ素薄膜の蒸着 - 特許庁
NITRIDE LIGHT EMITTING DIODE例文帳に追加
窒化物系発光ダイオード - 特許庁
METHOD FOR EVALUATING BORON NITRIDE POWDER例文帳に追加
窒化ホウ素粉末の評価方法 - 特許庁
The addition method of the nitride is not particularly limited, and any of the nitride in a vapor phase, the nitride in a liquid phase and the nitride in a solid phase may be added to the liquid.例文帳に追加
窒化物の添加方法は特に制限されず、気相の窒化物、液相の窒化物、固相の窒化物のいずれを液中に添加してもよい。 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING NITRIDE SEMICONDUCTOR例文帳に追加
窒化物系半導体の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING NITRIDE SEMICONDUCTOR例文帳に追加
窒化物半導体製造方法 - 特許庁
METHOD FOR DEPOSITING TANTALUM NITRIDE FILM例文帳に追加
窒化タンタル膜の形成方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SILICON NITRIDE FILTER例文帳に追加
窒化ケイ素質フィルタの製造法 - 特許庁
ALUMINUM NITRIDE METALLIZED SUBSTRATE例文帳に追加
窒化アルミニウムメタライズ基板 - 特許庁
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