「pattern composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

POSITIVE PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING POLYIMIDE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性ポリイミド組成物及びそれを用いたポリイミドパターンの形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN OF RESIN COMPOSITION HAVING SULFONAMIDE STRUCTURE BY QUANTUM BEAM例文帳に追加

量子ビームによるスルホンアミド構造を有する樹脂組成物のパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

POLYMERIC COMPOUND, ACID GENERATOR, POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

高分子化合物、酸発生剤、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN, FLEXIBLE SUBSTRATE AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、フレキシブル基板及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN FORMING METHOD AND PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性組成物、感光性フィルム、永久パターンの形成方法、及びプリント基板 - 特許庁

POSITIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR DISCHARGE NOZZLE TYPE COATING METHOD, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

吐出ノズル式塗布法用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

NEGATIVE TYPE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物、レジストパターンの形成方法及び電子デバイスの製造方法 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RADIATION-SENSITIVE RESIN PATTERN例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物及び感放射線性樹脂パターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME, AND MICROSTRUCTURE例文帳に追加

光硬化性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法及び微細構造体 - 特許庁

COATING COMPOSITION, COATING METHOD USING THE SAME, AND COATED PRODUCT HAVING IRREGULARITY PATTERN例文帳に追加

塗料組成物、それを用いた塗装方法、および凹凸模様を有する塗装品 - 特許庁

POSITIVE TYPE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの製造法並びに電子部品 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING ANTI-REFLECTION COATING, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

反射防止膜形成用組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in PEB temperature dependence, line edge roughness, exposure latitude and pattern profile, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

ＰＥＢ温度依存性、ラインエッジラフネス、露光ラチチュード、及びパターンプロファイルに優れたポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR PRODUCTION OF SYSTEM LCD AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

システムＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN AND ELECTRONIC COMPONENT USING SAME例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及びこれを用いた電子部品 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD OF PRODUCING RESIN PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた樹脂パターンの製造方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THERMAL LITHOGRAPHY, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

熱リソグラフィー用化学増幅型ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN, AND METHOD FOR FORMING SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

To provide a resist composition capable of manufacturing a resist pattern with an excellent shape.例文帳に追加

形状の優れたレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。 - 特許庁

INSULATING PASTE COMPOSITION FOR FORMING RIB AND RIB PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

リブ形成用絶縁性ペースト組成物及びそれを用いたリブパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR DISCHARGE NOZZLE SYSTEM COATING METHOD AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

吐出ノズル式塗布法用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

DEVELOPER COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

現像液組成物およびその製造方法、ならびにレジストパターンの形成方法 - 特許庁

PROTECTIVE FILM FORMING COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光用保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ELECTROCONDUCTIVE RESIN COMPOSITION AND SUBSTRATE HAVING ELECTROCONDUCTIVE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

導電性樹脂組成物、それを用いて得られる導電性パターンを有する基板 - 特許庁

SILICON-CONTAINING FILM-FORMING COMPOSITION, SILICON-CONTAINING FILM, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND, AND PHOTOBASE GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および光塩基発生剤 - 特許庁

OVERCOATING COMPOSITION FOR PHOTORESIST AND PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD UTILIZING THE SAME例文帳に追加

フォトレジスト用オーバーコーティング組成物及びこれを利用したフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING BASE BLOCKING ANTIREFLECTION FILM AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

塩基遮断性反射防止膜形成用組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

SURFACE ANTIREFLECTION FILM FORMING COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

表面反射防止膜形成用組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The dipropylene glycol dialkyl ether is preferably used for a solvent composition for forming a pattern of an electronic parts, and in particular for a solvent composition for color filter pattern printing.例文帳に追加

前記ジプロピレングリコールジアルキルエーテルは電子部品パターン形成用溶剤組成物、特に、カラーフィルタパターン印刷用溶剤組成物として使用することが好ましい。 - 特許庁

ORGANIC REFLECTION PREVENTION FILM COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN IN PHOTORESIST USING THE SAME例文帳に追加

有機反射防止膜組成物及びこれを用いたフォトレジストのパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION, PRODUCTION OF PATTERN USING THE SAME AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性ポリイミド前駆体組成物、これを用いたパターン製造法及び電子部品 - 特許庁

UNSATURATED MONOMER, POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

不飽和単量体、重合体、化学増幅レジスト組成物、および、パターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PATTERN USING SAME例文帳に追加

ネガ型感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターン製造方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR PHOTORESIST PROTECTIVE FILM, PHOTORESIST PROTECTIVE FILM AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN例文帳に追加

フォトレジスト保護膜用組成物、フォトレジスト保護膜およびフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁

LOST-WAX COMPOSITION FOR PRECISION CASTING AND METHOD FOR MAKING PATTERN FOR PRECISION CASTING例文帳に追加

精密鋳造用ロストワックス組成物及び精密鋳造用模型の作製方法 - 特許庁

INTERMEDIATE LAYER COMPOSITION FOR MULTILAYER RESIST PROCESS AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

多層レジストプロセス用中間層組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

SULFONIUM SALT COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

スルホニウム塩化合物及びレジスト組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide an epoxy resin composition capable of forming a precise conductor wiring pattern.例文帳に追加

精密な導体配線パターンを形成できるエポキシ樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

POLYBENZOXAZOLE, ITS POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

ポリベンゾオキサゾール及びそのポジ型感光性樹脂組成物、並びにパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTORESIST FILM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたフォトレジストフィルム、レジストパターン形成方法 - 特許庁