「pattern composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a positive resist composition for forming a fine resist pattern in good shape and a resist pattern forming method.例文帳に追加

微細なレジストパターンを良好な形状で形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the pattern forming method etc., the plastic mold having a prescribed pattern is pushed to the visible radiation curable resin composition to mold the prescribed pattern, and the resin composition is cured by being irradiated with light.例文帳に追加

所定パターンを有するプラスチックモールドを、可視光硬化性樹脂組成物に押し付けて該所定パターンを成形し、光を照射して該樹脂組成物を硬化させることを特徴とするパターン形成方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for a black resist suitable for a thick film having good pattern dimensional stability, development margin, pattern adhesion and sharpness of pattern edge shape.例文帳に追加

パターン寸法安定性、現像マージン、パターン密着性、パターンのエッジ形状のシャープ性が良好な厚膜に適したブラックレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new resist pattern forming method by which reduction in film thickness of a resist pattern is suppressed, and a negative resist composition used in the resist pattern forming method.例文帳に追加

レジストパターンの膜減りが低減された新規なレジストパターン形成方法、および当該レジストパターン形成方法に用いられるネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition for forming a fine pattern capable of easily manufacturing a fine pattern having excellent line edge roughness with high mass-productivity, and to provide a method for forming a fine pattern.例文帳に追加

ラインエッジラフネスに優れた微細なパターンを簡便かつ高い量産性で製造できる微細パターン形成用の樹脂組成物と微細パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having preferable resolution even for a contact hole pattern and a trench pattern and low dependence on the pattern density in the manufacture of semiconductor devices.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、コンタクトホールパターンやトレンチパターンについても良好な解像性を有し、疎密依存性も小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The method of framing the resist pattern includes a step of forming the resist pattern on a material worked by discharging a composition containing a photosensitive agent to the material under reduced pressure, and a step of etching the material by using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

本発明は、減圧下で、被加工物上に、感光剤を含む組成物を吐出してレジストパターンを形成するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁

In a detector 100, a cross area pattern setting unit 106 sequentially sets a composition pattern of a first cross area pattern group for each pair of unit images.例文帳に追加

検出装置１００において、交差領域パターン設定部１０６が、第１の交差領域パターングループの構成パターンを各単位画像ペアに対して順次設定する。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM例文帳に追加

パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE MADE BY USING THE SAME AND METHOD OF FORMING NEGATIVE-TYPE PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物、およびこれを用いた物品、及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁

FORMATION METHOD OF PIXEL PATTERN, COLOR FILTER, DISPLAY ELEMENT AND COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

画素パターンの形成方法、カラーフィルタ、表示素子及び着色感放射線性組成物 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING LAYER TO BE PLATED, METHOD FOR MANUFACTURING METAL PATTERN MATERIAL, AND NOVEL POLYMER例文帳に追加

被めっき層形成用組成物、金属パターン材料の製造方法、および、新規ポリマー - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE BASE MATERIAL, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME AND POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

感光性基材、それを用いたレジストパターンの形成方法およびポジ型レジスト組成物 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITION, RESIST LAYER LAMINATE AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅型ホトレジスト組成物、レジスト層積層体およびレジストパタ−ン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING LAYER TO BE PLATED, METHOD FOR PRODUCING METAL PATTERN MATERIAL, AND NEW POLYMER例文帳に追加

被めっき層形成用組成物、金属パターン材料の作製方法、及び、新規ポリマー - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR PROCESSING BOARD例文帳に追加

感光性化合物、感光性組成物、レジストパターンの形成方法及び基板の加工方法 - 特許庁

VISIBLE LIGHT SENSITIVE POSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型可視光感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパタ—ン形成方法 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition enabling formation of a pattern with excellent mechanical characteristics.例文帳に追加

機械特性に優れたパターンを形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

To provide a new polymer compound and a resist composition and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

新規な高分子化合物、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

COLORING COMPOSITION FOR CORRECTING COLOR PATTERN DEFECT AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT OF COLOR FILTER例文帳に追加

着色パターン欠陥修正用着色組成物およびカラーフィルタの欠陥修正方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, ITS MANUFACTURING METHOD, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物、その製造方法及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, METHOD FOR PRODUCING PATTERN CURED FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜、パターン硬化膜の製造方法及び電子部品 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

PHOTO ACID GENERATOR, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN FROM THE SAME例文帳に追加

光酸発生剤、化学増幅レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

NONIONIC PHOTOSENSITIVE COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

非イオン性感光性化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in storage stability and giving a pattern of an inverted taper shape.例文帳に追加

保存安定性に優れた、逆テーパー形状パターンを与えるレジスト組成物を得る。 - 特許庁

SILICONE RUBBER COMPOSITION AND ORIGINAL PLATE OF DIRECT PATTERN FORMING WATERLESS PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE USING THE SAME例文帳に追加

シリコーンゴム組成物およびこれを用いた直描型水なし平版印刷版原版 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物、およびこれを用いた物品、及びレリーフパターンの製造方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION PROCESS AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN AND METHOD OF PROCESSING SUBSTRATES例文帳に追加

感光性化合物、感光性組成物、レジストパターンの形成方法及び基板の加工方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, ITS PRODUCTION, PRODUCTION OF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性重合体組成物及びその製造法、パターンの製造法並びに電子部品 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RADIATION SENSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型感放射線レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

ACTIVATION ENERGY LINE CURABLE SILICONE COMPOSITION AND NEGATIVE PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

活性化エネルギー線硬化性シリコーン組成物及びそれを用いたネガ型パターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 - 特許庁

PHOTO-SETTING SOLVENTLESS PAINTING COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

光硬化性無溶剤型ペインティング組成物およびそれを用いた模様形成方法 - 特許庁

WATER-REPELLENT COMPOSITION, WATER-REPELLENT THIN FILM AND THIN FILM HAVING WATER-REPELLENT HYDROPHILIC PATTERN例文帳に追加

撥水性組成物、撥水性薄膜および撥水性親水性パターンを有する薄膜 - 特許庁

RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

樹脂組成物、並びに、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 - 特許庁

POSITIVE ULTRAVIOLET SENSITIVE RESIN COMPOSITION ND RESIST PATTERN FORMING METHOD BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型紫外感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a composition for the formation of a resist protective film and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

レジスト保護膜形成組成物およびレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN AND COLOR FILTER FORMED USING THE SAME例文帳に追加

着色感光性樹脂組成物ならびにそれを用いて形成されたパターン及びカラーフィルタ - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THICK FILM RESIST PATTERN例文帳に追加

厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION PROCESS, AND METHOD OF FORMING PATTERN USING SAME例文帳に追加

液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁