「pattern composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a resist composition with which a pattern having an excellent focus margin can be obtained.例文帳に追加

優れたフォーカスマージンを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING COMPOUND AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

感放射線性組成物、化合物、化合物の製造方法およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF THICK FILM RESIST PATTERN例文帳に追加

厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND DEVICE PRODUCING PROCESS例文帳に追加

感光性化合物、感光性組成物、レジストパターンの形成方法及びデバイスの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING A MICRO STRUCTURE AND OPTICAL PATTERN FORMING SACRIFICIAL FILM FORMING COMPOSITION例文帳に追加

マイクロ構造体の製造方法及び光パターン形成性犠牲膜形成用組成物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物およびその製造方法、酸発生剤 - 特許庁

PRINTING INK COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC PART AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

印刷インキ組成物、レジストパターンの形成法、電子部品の製造法及び電子部品 - 特許庁

METHYLENEDIOXOLANE COMPOUND, ACTINIC RAY COMPOSITION BY USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

メチレンジオキソラン化合物、それを用いた活性エネルギー線組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND PERMANENT RESIST例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及び永久レジスト - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE GLASS PASTE COMPOSITION AND BAKED MATTER PATTERN FORMATION USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性ガラスペースト組成物及びそれを用いた焼成物パターン形成方法 - 特許庁

PHOTOCURING COMPOSITION FOR OPTICAL NANO IMPRINT LITHOGRAPHY AND PATTERN FORMING METHOD EMPLOYING IT例文帳に追加

光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物、レジストパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND AND QUENCHER CONSISTING OF THE SAME COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および該化合物からなるクエンチャー - 特許庁

ULTRAVIOLET SENSITIVE POSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型紫外感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパタ—ン形成方法 - 特許庁

INORGANIC PARTICLE-CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM AND INORGANIC PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

無機粒子含有感光性樹脂組成物、感光性フィルムおよび無機パターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION CONTAINING HEAT RESISTANT RESIN PRECURSOR AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

耐熱性樹脂前駆体を含む組成物とその組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition having high sensitivity and excellent in pattern shape.例文帳に追加

高感度かつパターン形状の優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND DEVICE PRODUCTION PROCESS例文帳に追加

感光性化合物、感光性組成物、レジストパターンの形成方法及びデバイスの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING CURED PATTERN OF PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER例文帳に追加

感光硬化型樹脂組成物の硬化パターンの形成方法、カラーフィルタの製造方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in lithographic properties and resist pattern forming method.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition from which a pattern having excellent exposure margin can be obtained.例文帳に追加

優れた露光マージンを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTO BASE GENERATING AGENT, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE, AND NEGATIVE TYPE PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

光塩基発生剤、感光性樹脂組成物、物品、及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁

ALKALI-DEVELOPABLE PHOTOSETTING COMPOSITION AND FIRED BODY PATTERN OBTAINED USING THE SAME例文帳に追加

アルカリ現像型光硬化性組成物及びそれを用いて得られる焼成物パタ−ン - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition having excellent exposure latitude and little dependence on the pattern density.例文帳に追加

露光ラチチュードに優れ、疎密依存性が小さいポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION PROCESS AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ORGANIC ANTI-REFLECTIVE COATING COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

有機反射防止膜組成物及びこれを利用したフォトレジストのパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURE OF PHASE SHIFT MASK BY USING IT例文帳に追加

レジスト組成物、パタン形成方法およびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

COLORANT COMPOSITION FOR CORRECTING COLOR PATTERN DEFECT AND METHOD FOR CORRECTING COLOR FILTER DEFECT例文帳に追加

着色パターン欠陥修正用着色組成物およびカラーフィルタの欠陥修正方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND POLYMER COMPOUND例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in sensitivity, resolution, LER (line edge roughness), pattern features and outgas properties.例文帳に追加

感度、解像度、ＬＥＲ、パターン形状、アウトガスに優れたレジスト組成物の提供。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD, POLYMER AND COMPOUND OF THE SAME例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、重合体及び化合物 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURE OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

液晶表示素子製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法 - 特許庁

IMAGE FORMING METHOD USING LIQUID COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND LIQUID APPLYING DEVICE例文帳に追加

液体組成物を用いた画像形成方法、パターン形成方法及び液体付与装置 - 特許庁

RESIST POLYMER, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE ON WHICH RESIST PATTERN IS FORMED例文帳に追加

レジスト用重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN FOR PRODUCTION OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物及び液晶表示素子製造用レジストパターンの形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM例文帳に追加

パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜 - 特許庁

To provide a lift-off positive resist composition capable of forming a fine lift-off pattern.例文帳に追加

微細なリフトオフ用パターンを形成できるリフトオフ用ポジ型レジスト組成物の提供。 - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION FOR POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物用現像液及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE USING THE SAME, AND METHOD OF FORMING NEGATIVE PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物、およびこれを用いた物品、及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of forming a resist pattern having an excellent shape.例文帳に追加

形状に優れたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁