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pattern compositionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4879件
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN-FORMING MATERIAL COMPRISING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, ARTICLE USING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTO-LATENT RESIN CURING ACCELERATOR例文帳に追加
感光性樹脂組成物、当該感光性樹脂組成物からなるパターン形成用材料、パターン形成方法、及び当該感光性樹脂組成物を用いた物品、並びに光潜在性樹脂硬化促進剤 - 特許庁
To provide a resist composition for forming a fine pattern, with which a fine pattern excellent in sensitivity, stability with time, resolution, roughness characteristics, pattern features and outgas characteristics is formed, and to provide a method for forming a pattern by using the resist composition.例文帳に追加
感度、経時安定性、解像性、ラフネス特性、パターン形状及びアウトガス特性に優れた微細パターンを形成することができる微細パターン形成用レジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a positive photoresist composition with which a resist pattern having favorable resolution and suppressed cracks during plating can be formed and pattern thickening of the plating pattern can be improved, and to provide a method for forming a resist pattern by using the positive photoresist composition.例文帳に追加
解像性が良好で、メッキ時のクラックの発生が抑制されたレジストパターンが形成でき、メッキパターンのパターン太りを改善できるポジ型フォトレジスト組成物、及び該ポジ型フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an effect of improving a spread bottom profile of a resist pattern, with which a pattern having few pattern collapse defects is formed, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加
レジストパターンの裾引き形状改善に効果があり、パターン倒れ欠陥が少ないパターンを形成することが可能である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a negative radiation-sensitive composition suitable for forming a cured pattern that constitutes an interlayer insulating film low in dielectric constant, and to provide a method for forming a cured pattern using the composition, and a cured pattern obtained by the method for forming a cured pattern.例文帳に追加
比誘電率の低い層間絶縁膜を構成する硬化パターンの形成に好適なネガ型感放射線性組成物、それを用いた硬化パターン形成方法及びこの硬化パターン形成方法により得られた硬化パターンを提供する。 - 特許庁
To provide a positive resist composition, from which a pattern having superior pattern strength, hardly causing pattern collapse and having high resolution and low line edge roughness can be formed, and to provide a method for producing a relief pattern and electronic components using the positive resist composition.例文帳に追加
パターン強度に優れ、パターン倒れが起こりにくく、かつ、高解像度で低ラインエッジラフネスのパターンを得ることができるポジ型レジスト組成物、当該ポジ型レジスト組成物を用いたレリーフパターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMATION OF FLUORESCENT PATTERN, AND PRODUCTION OF PLASMA DISPLAY BACK PLATE例文帳に追加
蛍光体パターン形成用組成物及びプラズマディスプレイ背面板の製造方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING RESIST PROTECTION FILM AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING IT例文帳に追加
レジスト保護膜形成用組成物及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁
RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
感放射線組成物及びパタン形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
To provide a new resin, a resist composition using the resin and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加
新規な樹脂、該樹脂を用いたレジスト組成物およびレジストパターン形成方法。 - 特許庁
RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
感放射線組成物及びパタン形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME, AND CHEMICAL COMPOUND例文帳に追加
感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び化合物 - 特許庁
POSITIVE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁
To provide a resist composition that can obtain a pattern with excellent resolution.例文帳に追加
優れた解像度を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
PHOTOSETTING GLASS PASTE COMPOSITION AND FIRED MATERIAL PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
光硬化性ガラスペ—スト組成物及びそれを用いた焼成物パタ—ン形成方法 - 特許庁
POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PROCESS FOR PRODUCING SUBSTRATE HAVING FINE PATTERN FORMED THEREON例文帳に追加
重合体、レジスト組成物、および微細パターンが形成された基板の製造方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
ポジ型感光性樹脂組成物、薄膜パターンの製造方法及び半導体素子 - 特許庁
RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER AND COMPOUND例文帳に追加
感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 - 特許庁
ELASTOMER, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, AND METHOD FOR FORMING PERMANENT PATTERN例文帳に追加
エラストマー、並びに感光性組成物、感光性フィルム、及び永久パターン形成方法 - 特許庁
RESIN COMPOSITION FOR FORMING PATTERN AND CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE POSITIVE TYPE PHOTORESIST USING SAME例文帳に追加
パタ—ン形成用樹脂組成物及びそれを用いた化学増幅型ポジ型ホトレジスト - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND FLUORINE-CONTAINING POLYMER COMPOUND例文帳に追加
液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法、含フッ素高分子化合物 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, LOWER LAYER FILM FORMING COMPOSITION AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
パターン形成方法、下層膜形成組成物、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND RADIATION SENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加
パタン形成方法および半導体装置の製造方法および感放射線組成物 - 特許庁
RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST LAYER WITH PATTERN FORMED ON SUBSTRATE例文帳に追加
レジスト組成物、および基板上にパタ—ン形成したレジスト層を形成する方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND FLUORINE CONTAINED COPOLYMER例文帳に追加
液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および含フッ素共重合体 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING THIN FILM PATTERN AND INSULATING FILM FOR ELECTRONIC INSTRUMENT例文帳に追加
感光性樹脂組成物、薄膜パターン形成方法及び電子機器用絶縁膜 - 特許庁
POLYPHENOL COMPOUND, COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加
多価フェノール化合物、化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE TYPE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁
ENAMEL PARTICLE DISPERSION, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND MULTI-COLORED PATTERN COATING COMPOSITION例文帳に追加
エナメル粒子分散液及びその製造方法ならびに多彩模様塗料組成物 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING RESIST PROTECTIVE FILM AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
レジスト保護膜形成用組成物及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁
DEVELOPING SOLUTION COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
現像液組成物およびその製造方法、ならびにレジストパターンの形成方法 - 特許庁
POLYHYDRIC PHENOL COMPOUND, COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
多価フェノール化合物、化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR USE IN LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, LCD SUBSTRATE AND PATTERN FORMING METHOD FOR LCD SUBSTRATE例文帳に追加
感光性樹脂組成物、ＬＣＤ基板及びＬＣＤ基板のパターン形成方法 - 特許庁
To provide: a positive photosensitive resin composition having high sensitivity; a method for producing a cured relief pattern using the composition; and a semiconductor device having the cured relief pattern.例文帳に追加
高感度のポジ型感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、及び該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置の提供。 - 特許庁
To provide a resist composition from which a resist pattern of an excellent shape can be obtained.例文帳に追加
優れた形状のレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a resist composition which provides a pattern having excellent resolution.例文帳に追加
優れた解像度を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a resist composition having a wide focus margin in forming a resist pattern.例文帳に追加
レジストパターンを形成する際のフォーカスマージンが広いレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a resist composition having a wide exposure margin in forming a resist pattern.例文帳に追加
レジストパターンを形成する際の露光マージンが広いレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびパターン形成方法 - 特許庁
RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND BLOCK COPOLYMER例文帳に追加
感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、及びブロック共重合体 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE AND PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加
パタン形成方法および半導体装置の製造方法および感光性組成物 - 特許庁
CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN, AND NOVEL COMPOUND AND RESIN例文帳に追加
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法並びに新規化合物及び樹脂 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING FLUORESCENT PATTERN AND PRODUCTION OF BACK-PLATE OF PLASMA DISPLAY例文帳に追加
蛍光体パターン形成用組成物及びプラズマディスプレイ背面板の製造方法 - 特許庁
POSITIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁
POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATES WITH FINE PATTERN FORMED THEREON例文帳に追加
重合体、レジスト組成物、および微細パターンが形成された基板の製造方法 - 特許庁
NEGATIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCTION OF ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加
ネガ型レジスト組成物、レジストパターンの形成方法及び電子デバイスの製造方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, METHOD OF MANUFACTURING PATTERN CURED FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加
感光性樹脂組成物、硬化膜、パターン硬化膜の製造方法および電子部品 - 特許庁
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