「plasma-processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

DISCHARGE PLASMA PROCESSOR AND PROCESSING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法 - 特許庁

PLASMA-DISCHARGE PROCESSING APPARATUS AND METHOD THEREFOR例文帳に追加

プラズマ放電処理装置およびプラズマ放電処理方法 - 特許庁

SIGNAL PROCESSOR, PLASMA DISPLAY AND SIGNAL PROCESSING METHOD例文帳に追加

信号処理装置、プラズマディスプレイ装置、信号処理方法 - 特許庁

MOUNTING STAND, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD FOR MOUNTING STAND例文帳に追加

載置台、プラズマ処理装置、および載置台の製造方法 - 特許庁

SHOWER PLATE, PLASMA PROCESSING DEVICE AND METHOD OF PRODUCING PRODUCTS例文帳に追加

シャワープレート、プラズマ処理装置、及び、製品の製造方法 - 特許庁

INDUCTIVE COUPLING PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD例文帳に追加

誘導結合プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - 特許庁

PLASMA GENERATING DEVICE AND WORK PROCESSING DEVICE USING IT例文帳に追加

プラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR PROCESSING MICRO WAVE EXCITING PLASMA例文帳に追加

マイクロ波励起プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR PROCESSING DEVICE EQUIPPED WITH REMOTE PLASMA DISCHARGE CHAMBER例文帳に追加

遠隔プラズマ放電室を有する半導体処理装置 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS, FOCUS RING, AND MOUNTING APPARATUS OF WORK例文帳に追加

プラズマ処理装置、フォーカスリング及び被処理体の載置装置 - 特許庁

STRUCTURE FOR RADIAL LINE SLOT ANTENNA IN PLASMA PROCESSING DEVICE例文帳に追加

プラズマ処理装置におけるラジアルラインスロットアンテナの構造 - 特許庁

METHOD OF PROCESSING SEMICONDUCTOR WAFER THROUGH PLASMA, AND DEVICE THEREOF例文帳に追加

半導体ウェーハのプラズマ処理方法およびその装置 - 特許庁

To provide a helical resonator type plasma processing apparatus.例文帳に追加

ヘリカル共振器型のプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

PROCESSING METHOD OF DIELECTRIC PROTECTING FILM AND PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

誘電体保護膜の処理方法及びプラズマディスプレイパネル - 特許庁

ERROR DIFFUSION PROCESSING CIRCUIT AND METHOD, AND PLASMA DISPLAY DEVICE例文帳に追加

誤差拡散処理回路、方法及びプラズマディスプレイ装置 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS, MATCHING BOX, IMPEDANCE MATCHING DEVICE, AND COUPLER例文帳に追加

プラズマ処理装置、マッチングボックス、インピーダンス整合器、結合器 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which controls high-frequency power used for plasma processing to a low level.例文帳に追加

プラズマ処理に用いられる高周波電力を低く制御することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

PLASMA GENERATING DEVICE AND WORKPIECE PROCESSING DEVICE例文帳に追加

プラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置 - 特許庁

To provide a method for controlling pressure of a plasma processing device, and to provide a plasma processing device in which pressure can be controlled.例文帳に追加

プラズマ処理装置の圧力制御方法及び圧力制御可能なプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

CHARGED PARTICLE CURRENT MEASURING DEVICE AND PLASMA PROCESSING DEVICE例文帳に追加

荷電粒子電流計測装置及びプラズマ処理装置 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF OPERATING THE SAME例文帳に追加

プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の運転方法 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF INSPECTING THE SAME例文帳に追加

プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置の検査方法 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR PROCESSING WORK BY PLASMA例文帳に追加

ワークのプラズマ処理装置およびワークのプラズマ処理方法 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus capable of controlling a distribution of plasma generated in a processing container by a simple means.例文帳に追加

処理容器内で生成するプラズマの分布を簡易な手段で制御できるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To realize a plasma processing method in which a selection can be made arbitrarily between etching process and deposition process during plasma processing.例文帳に追加

プラズマ処理中に任意にエッチング処理とデポジション処理とを選択できるプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

PLASMA PROCESSING SYSTEM FOR FLUID OR FLUID MIXTURE例文帳に追加

流体又は流体混合物のためのプラズマ処理システム - 特許庁

To provide a plasma processing device and a plasma processing method capable of suppressing abnormal discharge in a waveguide.例文帳に追加

導波管内の異常放電を抑止することができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法の提供。 - 特許庁

PLASMA PROCESSING METHOD FOR MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED DEVICE例文帳に追加

半導体集積装置製造用のプラズマ処理方法 - 特許庁

The plasma processing device 1 includes a vacuum container 3.例文帳に追加

プラズマ処理装置１は、真空容器３を有している。 - 特許庁

ROTARY ELECTRODE DRY-CLEANING DEVICE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

回転電極のドライクリーニング装置及びプラズマ処理装置 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

プラズマ処理装置、および半導体装置の作製方法 - 特許庁

PLASMA PROCESSING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

プラズマ処理方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

PLASMA PROCESSING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

プラズマ処理方法および半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

DOUBLE-ELECTRODE WAFER HOLDER OF PLASMA-ASSISTED WAFER PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

プラズマ支援ウェハー処理装置の二重電極ウェハーホルダ - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

プラズマ処理装置、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

プラズマ処理装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

半導体装置の製造方法およびプラズマ処理装置 - 特許庁

SAMPLE PLACING ELECTRODE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS EMPLOYING SAME例文帳に追加

試料載置電極及びそれを用いたプラズマ処理装置 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND ELECTRODE PLATE THEREFOR例文帳に追加

プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用の電極板 - 特許庁

METHOD OF PROCESSING SEMICONDUCTOR WAFER AND PLASMA ETCHING APPARATUS例文帳に追加

半導体ウエーハの加工方法及びプラズマエッチング装置 - 特許庁

PLASMA PROCESSING DEVICE AND SHORT CIRCUIT OF HIGH-FREQUENCY CURRENT例文帳に追加

プラズマ処理装置及び高周波電流の短絡回路 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND HIGH-FREQUENCY POWER SUPPLY DEVICE例文帳に追加

プラズマ処理装置及び高周波電力供給装置 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND HIGH FREQUENCY POWER SUPPLYING MECHANISM例文帳に追加

プラズマ処理装置および高周波電力供給機構 - 特許庁

The process gas of the supply source 2 of a normal pressure plasma etching apparatus M is converted to the plasma gas within a plasma discharge space 1a, and this plasma is blown to a processing object W.例文帳に追加

常圧プラズマエッチング装置Ｍの供給源２のプロセスガスをプラズマ放電空間１ａにてプラズマ化し、被処理物Ｗに吹付ける。 - 特許庁

To provide a method and device for processing a plasma, that generates a uniform plasma.例文帳に追加

均一なプラズマを発生させることができるプラズマ処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁