「plasma-processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a plasma processing device that efficiently uses the generated plasma.例文帳に追加

生成されたプラズマを効率よく利用することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM, AND NOZZLE AND INJECTION PIPE USED FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

プラズマ化学気相蒸着装置及びプラズマ処理装置に使用されるノズル及び噴射管 - 特許庁

PLASMA PROCESSING METHOD/DEVICE BY PULSE DIVISION SUPPLY AND PLASMA CVD METHOD例文帳に追加

パルス分割供給によるプラズマ処理方法及び装置並びにプラズマＣＶＤ方法 - 特許庁

ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA APPARATUS AND ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA PROCESSING METHOD, DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

大気圧プラズマ装置、大気圧プラズマ処理方法及びデバイス並びにデバイス製造方法 - 特許庁

To provide a microwave plasma processing apparatus for improving a protruded distribution tendency of plasma density.例文帳に追加

プラズマ密度の凸分布傾向を改善したマイクロ波プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING PLASMA DISPLAY DEVICE, SANDBLAST PROCESSING METHOD, AND PLASMA DISPLAY DEVICE例文帳に追加

プラズマ表示装置の製造方法およびサンドブラスト加工方法、ならびにプラズマ表示装置 - 特許庁

PLASMA DENSITY INFORMATION MEASURING METHOD AND APPARATUS THEREOF, PLASMA PROCESSING METHOD AND APPARATUS THEREOF例文帳に追加

プラズマ密度情報測定方法及びその装置、並びにプラズマ処理方法及びその装置 - 特許庁

To improve the accuracy of plasma processing, by accelerating decomposition and dissociation of gas with plasma.例文帳に追加

プラズマによるガスの分解及び解離を促進させてプラズマ処理の精度を向上させる。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus and a plasma etching method that have high controllability.例文帳に追加

高い制御性を有するプラズマ処理装置およびプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device in which uniform plasma can be generated, and a uniform processing against a substrate having a large area is possible, and a processing method.例文帳に追加

均一なプラズマを発生させ大面積基板に対して均一な処理が可能なプラズマ処理装置及び処理方法の提供。 - 特許庁

To provide a plasma processing method and a plasma processing device that enable boring processing to be performed while suppressing the quantity of heat supplied to a processed work.例文帳に追加

加工ワークに与える熱量を抑制しつつ穴あけ加工が可能となるプラズマ加工方法およびプラズマ加工装置を提供する。 - 特許庁

A plasma processing system 11 is provided with a processing chamber for performing etching processing, and a control unit 41.例文帳に追加

プラズマ処理装置１１は、エッチング処理を行う処理室１２と、制御装置４１とを備える。 - 特許庁

IMAGE PROCESSING APPARATUS, IMAGE PROCESSING METHOD, PROGRAM FOR IMAGE PROCESSING, INTEGRATED CIRCUIT, AND PLASMA DISPLAY DEVICE例文帳に追加

画像処理装置、画像処理方法、画像処理用プログラム、集積回路およびプラズマ・ディスプレイ装置 - 特許庁

The plasma processing device includes: a processing chamber 1 for processing a processing object 2; a plasma generation chamber 11 for generating plasma by a process gas to extract a radical component; and a transport chamber 21 for transporting the radical component to the processing chamber 1.例文帳に追加

被処理体２を処理するための処理室１と、プロセスガスによりプラズマを生成しラジカル成分を抽出するためのプラズマ生成室１１と、そのラジカル成分を処理室１に輸送する輸送室２１を備える。 - 特許庁

A plasma control means 11 is further provided to control plasma between the plasma generating region 26 and the substrate processing region 24.例文帳に追加

プラズマ生成領域２６と基板処理領域２４との間のプラズマを制御するプラズマ制御手段１１を設ける。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus for actualizing adequate plasma processes simultaneously with improvement in plasma ignition property.例文帳に追加

プラズマ着火性を向上させると共に、適切にプラズマ処理を行うことができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The method for forming the diamond-like carbon film includes: a step of executing the hydrogen plasma processing and the nitrogen plasma processing on a surface 11 of a metal member 1; and a step of forming the diamond-like carbon film 2 on the surface 11 subjected to the hydrogen plasma processing and the nitrogen plasma processing.例文帳に追加

金属部材１の表面１１に水素プラズマ処理及び窒素プラズマ処理を行うステップと、水素プラズマ処理及び窒素プラズマ処理された表面１１上に、ダイヤモンド状炭素膜２を形成するステップとを含む。 - 特許庁

To provide a plasma processing device and a method for processing plasma which prevent a place where comparatively strong plasma processing is performed from being overlapped with a processed object, when plasma processing is performed multiple times to the processed object such as a substrate.例文帳に追加

基板のような被処理物に対して、複数回プラズマ処理を施す場合に、比較的強いプラズマ処理を施される箇所を、被処理物にて重複させないプラズマ処理装置、およびプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus that improves reproducibility of plasma processing such as a plasma deposition processing, by maintaining a low process temperature, when carrying out the plasma processing under the process temperature at a low temperature range of about room temperature.例文帳に追加

プロセス温度が室温程度の低い温度帯域でプラズマ処理する際に、そのプロセス温度を低く維持してプラズマ成膜処理等のプラズマ処理の再現性を向上させることが可能なプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To improve processing uniformity of a plasma processing system to process a substrate.例文帳に追加

基板を処理するためのプラズマ処理システムの処理の均一性を改善する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus capable of achieving more uniform processing.例文帳に追加

より均一な処理を実現することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus or method which stabilizes wafer processing characteristics.例文帳に追加

ウェハ処理特性を安定化するプラズマ処理装置または方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, plasma processing speed is lowered and control of processing amount is facilitated.例文帳に追加

これにより、プラズマ処理速度を低下させ、その処理量の制御が容易となる。 - 特許庁

To process ink repellant processing of a surface simply without using plasma processing.例文帳に追加

プラズマ処理を用いることなく、簡便に表面の撥インク性処理を行う - 特許庁

To provide an equipment and a method for plasma processing capable of controlling a plasma density locally so as to acquire a desired condition of plasma processing.例文帳に追加

所望のプラズマ処理条件を得るべくプラズマ密度を局所的に制御することができるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

After film forming process, plasma is generated from the cleaning gas with a remote plasma unit 6 different from the processing chamber 1 and the generated plasma is introduced into the processing chamber 1.例文帳に追加

成膜処理終了後に、処理チャンバ１とは別のリモートプラズマユニット６にてクリーニングガスからプラズマを生成して、処理チャンバ１に導入する。 - 特許庁

To provide plasma processing semiconductor fabrication equipment which can prevent variation in the state of plasma and deposits a film of a desired thickness uniformly by plasma processing.例文帳に追加

プラズマの変化の状態を防止でき、所望の膜厚および均一に成膜し、プラズマ処理を施すプラズマ処理半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma generating device and a plasma processing device capable of generating plasma capable of enhancing the in-plane uniformity of the processing of a processed object.例文帳に追加

被処理物の処理の面内均一性を高め得るプラズマを生成することができるプラズマ発生装置及びプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To improve utilization efficiency of radicals generating in a plasma area and the accuracy of plasma processing and to enhance utilization efficiency of energy required for plasma processing.例文帳に追加

プラズマ領域で生成されたラジカルの利用効率及びプラズマ処理の精度を高めると共に、プラズマ処理に要するエネルギーの利用効率を向上させる。 - 特許庁

To provide a plasma generating device in which uniformity of plasma density of the plasma generated in a line state is improved, and plasma processing of a high uniformity is carried out.例文帳に追加

ライン状に発生したプラズマのプラズマ密度の均一性を改善し、高均一なプラズマ処理が出来るプラズマ発生装置を提供すること。 - 特許庁

To reduce the charge-up damage in a plasma processing method.例文帳に追加

プラズマ処理方法において、チャージアップダメージを減少させる。 - 特許庁

PLASMA PROCESSING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTROOPTICAL DEVICE例文帳に追加

プラズマ処理方法及び電気光学装置の製造方法 - 特許庁

DISCHARGE PLASMA TREATMENT APPARATUS AND PROCESSING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法 - 特許庁

HIGH-FREQUENCY PLASMA PROCESSOR AND PROCESSING METHOD例文帳に追加

高周波プラズマ処理装置および高周波プラズマ処理方法 - 特許庁

BARRIER WALL STRUCTURE BETWEEN PLASMA PROCESSING SYSTEM AND CONVEYING EQUIPMENT例文帳に追加

プラズマ処理装置と搬送装置との間の隔壁構造 - 特許庁

To provide a substrate processing device having high plasma generating efficiency.例文帳に追加

プラズマ発生効率が高い基板処理装置を提供する。 - 特許庁

HOLDING APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING SAME, AND PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

載置装置及びその製造方法並びにプラズマ処理装置 - 特許庁

FILM DEPOSITION METHOD, PLASMA GENERATING METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

成膜方法およびプラズマ発生方法、基板処理装置 - 特許庁

PLASMA PROCESSING DEVICE, TEMPERATURE CONTROL DEVICE, AND CONTROL METHOD THEREFOR例文帳に追加

プラズマ処理装置、温度制御装置及びその制御方法 - 特許庁

FLAT ANTENNA MEMBER AND PLASMA PROCESSING DEVICE WITH THE SAME例文帳に追加

平面アンテナ部材およびこれを備えたプラズマ処理装置 - 特許庁

To provide plasma processing equipment for improving gas flow.例文帳に追加

ガスの流れを良好にするプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

BEVELING PROCESSING PROGRAM, CONTROL SYSTEM, AND PLASMA CUTTING DEVICE例文帳に追加

開先加工用プログラム、制御システム及びプラズマ切断装置 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOVOLTAIC DEVICE例文帳に追加

プラズマ処理装置及び光起電力素子の製造方法 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR REMOVING DUST IN THE APPARATUS例文帳に追加

プラズマプロセス装置およびその装置内のダスト除去方法 - 特許庁

PULSE TRANSMISSION LINE, PULSE SUPPLYING APPARATUS, AND PLASMA PROCESSING DEVICE例文帳に追加

パルス伝送線路、パルス供給装置及びプラズマ処理装置 - 特許庁