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processing liquidの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4296件
REPLENISHING TANK FOR PROCESSING LIQUID OF PHOTOGRAPHIC PROCESSING DEVICE例文帳に追加
写真処理装置の処理液の補充タンク - 特許庁
LIQUID PROCESSOR, PROCESSING LIQUID SUPPLY METHOD AND PROCESSING LIQUID SUPPLY PROGRAM例文帳に追加
液処理装置及び処理液供給方法並びに処理液供給プログラム - 特許庁
PROCESSING LIQUID, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND APPARATUS USING PROCESSING LIQUID例文帳に追加
処理液、並びに該処理液を用いた基板処理方法及び基板処理装置 - 特許庁
To improve the waste liquid processing efficiency and processing performance of a liquid waste processing system and to impart a recovering function to a solidification processing system.例文帳に追加
液体廃棄物処理系での廃液処理効率および処理性能を向上させる。 - 特許庁
POSITIVE TYPE RESIST PROCESSING LIQUID COMPOSITION AND LIQUID DEVELOPER例文帳に追加
ポジ型レジスト処理液組成物及び現像液 - 特許庁
LIQUID FEEDER FOR PHOTOGRAPHIC PROCESSING DEVICE AND PROCESSING LIQUID SUPPLY METHOD例文帳に追加
写真処理機のための送液装置及び処理液供給方法 - 特許庁
HOLLOW FIBER MEMBRANE FOR LIQUID PROCESSING例文帳に追加
液体処理用の中空糸膜 - 特許庁
ELECTRIC DISCHARGE MACHINING LIQUID-PROCESSING DEVICE, AND ELECTRIC DISCHARGE MACHINING LIQUID-PROCESSING METHOD例文帳に追加
放電加工液処理装置、および放電加工液処理方法 - 特許庁
WATER SOLUBLE PROCESSING LIQUID FOR WIRE SAW例文帳に追加
ワイヤソ−用水溶性加工液 - 特許庁
PROCESSING LIQUID SUPPLY DEVICE AND METHOD FOR EXCHANGING PROCESSING LIQUID CONTAINER THEREFOR例文帳に追加
処理液供給装置およびその処理液容器交換方法 - 特許庁
The processing tank 1 is filled with processing liquid 2.例文帳に追加
処理槽1には、処理液2が満たされている。 - 特許庁
SILICON WAFER PROCESSING LIQUID AND METHOD FOR PROCESSING SILICON WAFER例文帳に追加
シリコンウェハ加工液およびシリコンウェハ加工方法 - 特許庁
SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR CHANGEOVER OF PROCESSING LIQUID例文帳に追加
基板処理装置及び処理液切替方法 - 特許庁
PROCESSING METHOD FOR BIOLOGICAL SYSTEM WASTE LIQUID例文帳に追加
生物系廃液の処理方法 - 特許庁
SOLIDIFICATION APPARATUS FOR PHOTOGRAPHIC PROCESSING WASTE LIQUID例文帳に追加
写真処理廃液の固化装置 - 特許庁
SUPPLYING DEVICE FOR DEVELOPMENT PROCESSING LIQUID例文帳に追加
現像処理液の供給装置 - 特許庁
LIQUID DISCHARGING MECHANISM, SUBSTRATE PROCESSING EQUIPMENT例文帳に追加
液吐出機構、基板処理装置 - 特許庁
LIQUID LEVEL RECOGNITION PROCESSING DEVICE AND LIQUID LEVEL MONITORING SYSTEM例文帳に追加
液面認識処理装置及び液面監視システム - 特許庁
VAPOR-LIQUID SEPARATION/RECOVERY APPARATUS OF LIQUID PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
液処理装置における気液分離回収装置 - 特許庁
PROCESSING LIQUID CIRCULATION CONTROL SYSTEM FOR DEVELOPMENT PROCESSING DEVICE AND PROCESSING LIQUID CIRCULATION CONTROL METHOD例文帳に追加
現像処理装置の処理液循環制御システムと処理液循環制御方法 - 特許庁
To suppress processing liquid in a processing liquid tank from bubbling or scattering.例文帳に追加
処理液タンク内における処理液の泡立ちや飛散を抑制する。 - 特許庁
LIQUID PROCESSING DEVICE AND LIQUID PROCESSING METHOD FOR SUBSTRATE, AND FLAT DISPLAY DEVICE例文帳に追加
基板の液処理装置及び液処理方法並びにフラットディスプレイ装置 - 特許庁
IN-LIQUID RACK OF PHOTOGRAPHIC PROCESSING DEVICE例文帳に追加
写真処理装置の液中ラック - 特許庁
TREATING SYSTEM FOR PHOTOGRAPHIC PROCESSING WASTE LIQUID例文帳に追加
写真処理廃液の処理システム - 特許庁
PROCESSING APPARATUS FOR QUICK-DRYING JAPANESE LACQUER LIQUID例文帳に追加
速乾性漆液の加工装置 - 特許庁
LIQUID PROCESSING DEVICE AND HUMIDITY CONTROLLER例文帳に追加
液処理装置及び調湿装置 - 特許庁
OVERHEATING PREVENTION DEVICE OF PROCESSING LIQUID TANK例文帳に追加
処理液タンクの過熱防止装置 - 特許庁
To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method capable of preventing or reducing the attachment of a processing liquid including a chemical liquid or a rinse liquid on a surface of a processing liquid supply nozzle that supplies the processing liquid.例文帳に追加
薬液又はリンス液よりなる処理液を供給する処理液供給ノズルの表面への処理液の付着を防止或いは低減することができる液処理装置及び液処理方法を提供する。 - 特許庁
PROCESSING LIQUID FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, AND PROCESSING METHOD例文帳に追加
平版印刷版用処理液および処理方法 - 特許庁
SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND CHARGE ELIMINATING METHOD OF PROCESSING LIQUID例文帳に追加
基板処理装置および処理液の除電方法 - 特許庁
LIQUID-END DETECTION DEVICE FOR PROCESSING LIQUID REPLENISHMENT SYSTEM例文帳に追加
処理液補充システムのための液切れ検出装置 - 特許庁
To provide a substrate processing apparatus which is capable of efficiently conducting both liquid processing and processing with a liquid, such as cleaning after the liquid processing.例文帳に追加
液処理およびその後の洗浄等の流体による処理の双方を効率よく行える基板処理装置を提供する。 - 特許庁
LIQUID PROCESSING APPARATUS, LIQUID PROCESSING METHOD, AND RECORDING MEDIUM RECORDING PROGRAM FOR EXECUTING THE LIQUID PROCESSING METHOD例文帳に追加
液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 - 特許庁
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