「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

GLASS SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL PANEL, METHOD FOR PROCESSING GLASS SUBSTRATE, AND LIQUID CRYSTAL PANEL例文帳に追加

液晶パネル用のガラス基板、該ガラス基板の処理方法、及び液晶パネル - 特許庁

IMAGE DISPLAY PROCESSING APPARATUS AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

画像表示処理装置及び液晶表示装置 - 特許庁

METHOD OF PROCESSING OIL CONTENT-CONTAINING WASTE LIQUID AND FACILITY THEREFOR例文帳に追加

油分含有廃液の処理方法とその施設 - 特許庁

METHOD FOR CLEANING TREATMENT OF AQUEOUS LIQUID FOR PROCESSING METAL例文帳に追加

金属加工用水性液の浄化処理方法 - 特許庁

LIQUID PROCESSING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING ELECTRO-OPTICAL APPARATUS, ELECTRO-OPTICAL APPARATUS, ELECTRONIC APPARATUS AND LIQUID PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

液処理方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器、および液処理装置 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR PROCESSING OF LIQUID SAMPLE例文帳に追加

液体試料の処理のためのシステムおよび方法 - 特許庁

ALARM SIGNAL PROCESSING METHOD FOR LIQUID DROP DETECTION SENSOR例文帳に追加

液滴検出センサの警報信号処理方法 - 特許庁

LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND SIGNAL PROCESSING METHOD THEREFOR例文帳に追加

液晶表示装置及びその信号処理方法 - 特許庁

LIQUID-CRYSTALLINE POLYESTER RESIN COMPOSITION FOR SURFACE PROCESSING例文帳に追加

表面加工用液晶性ポリエステル樹脂組成物 - 特許庁

To provide a processing liquid supply mechanism capable of preventing residual processing liquid in a container body.例文帳に追加

容器本体に処理液の残留を防ぐことができる処理液供給機構を提供すること。 - 特許庁

Since a plural of liquid chemical processing are carried out by the one liquid chemical processing tank 12, the space saving is achieved.例文帳に追加

１つの薬液処理槽１２により複数の薬液処理を行うため、省スペース化が図れる。 - 特許庁

To provide a liquid processing method which allows efficient water repellency of a substrate, and to provide a liquid processing device.例文帳に追加

基板を効率よく撥水化することが可能な液処理方法及び液処理装置を提供する。 - 特許庁

DATA PROCESSING APPARATUS, LIQUID DROPLET DISCHARGE DEVICE, AND PROGRAM例文帳に追加

データ処理装置、液滴吐出装置、およびプログラム - 特許庁

EXCESS LIQUID RECOVERY STRUCTURE FOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSING UNIT例文帳に追加

感光材料処理装置用溢液回収構造 - 特許庁

METHOD FOR DETERMINING LANDING POSITION OF PROCESSING LIQUID EJECTION NOZZLE AND APPARATUS FOR DETERMINING LANDING POSITION OF PROCESSING LIQUID EJECTION NOZZLE例文帳に追加

処理液吐出ノズルの着弾位置決定方法および処理液吐出ノズル着弾位置決定装置 - 特許庁

RINSING LIQUID FOR PHOTOLITHOGRAPHY AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE例文帳に追加

ホトリソグラフィー用リンス液および基板の処理方法 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING DECONTAMINATION WASTE LIQUID OF RADIOACTIVE WASTE例文帳に追加

放射性廃棄物の除染廃液の処理方法 - 特許庁

IMAGE PROCESSING CIRCUIT FOR LIQUID CRYSTAL DRIVE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE SAME, AND IMAGE PROCESSING METHOD例文帳に追加

液晶駆動用画像処理回路、およびこれを用いた液晶ディスプレイ装置、ならびに画像処理方法 - 特許庁

METHOD FOR COLLECTING SILVER FROM WASTE PHOTOGRAPHIC PROCESSING LIQUID例文帳に追加

写真処理廃液から銀を回収する方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS OF LIQUID PROCESSING, AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加

液処理方法、液処理装置および記憶媒体 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method which allow multiple nozzle support arms to move into a processing chamber.例文帳に追加

処理室内に複数のノズル支持アームを進出させることができる液処理装置および液処理方法を提供する。 - 特許庁

The heat exchanger exchanges heat between the processing liquid in the circulation line and a processing liquid before transfer or the processing constituents.例文帳に追加

熱交換器は、循環ライン内の処理液と、移送される前の処理液または処理液要素と、の間の熱交換を行う。 - 特許庁

To provide a processing liquid supply system which supplies a prescribed processing liquid reservoired in a tank to a device using the processing liquid, wherein the tank can be replenished with the processing liquid even during the supply of the processing liquid to the device to prevent delay of a tact time.例文帳に追加

所定の処理液を用いる装置に対し、タンク内に貯留した前記処理液を供給する処理液供給システムにおいて、前記装置への処理液供給時であっても、前記タンクへの処理液の補充を行うことができ、タクトタイムの遅延を防止する。 - 特許庁

A circular arc-shaped and slit-like processing liquid discharge port 12 is formed on an under surface of this processing liquid supply nozzle 8, and the processing liquid 13 is supplied vertically downward in both end parts of the processing liquid discharge port 12 when discharging the processing liquid 13.例文帳に追加

この加工液供給ノズル８の下面には円弧形状でスリット状の加工液吐出口１２が形成されており、加工液１３を吐出した際に加工液吐出口１２の両端部分で加工液１３が鉛直下方に向けて供給される。 - 特許庁

When processing the substrate 9 with the supply of the processing liquid to the substrate 9, the electric potential is applied to the processing liquid through the liquid contact part 322 upon starting the discharge of the processing liquid, thereby reducing the difference in the electrical potential between the processing liquid discharged on the substrate 9 and the substrate 9.例文帳に追加

処理液を基板９上に供給して基板９を処理する際には、処理液の吐出開始時に接液部３２２を介して処理液に電位が付与され、基板９上に吐出される処理液と基板９との間の電位差が低減される。 - 特許庁

VIDEO PROCESSING METHOD, VIDEO PROCESSING CIRCUIT, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

映像処理方法、映像処理回路、液晶表示装置及び電子機器 - 特許庁

SUBSTRATE-PROCESSING DEVICE, DEVICE FOR PREVENTING LIQUID FROM DRIPPING DOWN, AND ETCHING PROCESSING METHOD例文帳に追加

基板の処理装置、液体の滴下防止装置及びエッチング処理方法 - 特許庁

VIDEO PROCESSING METHOD, VIDEO PROCESSING CIRCUIT, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

映像処理方法、映像処理回路、液晶表示装置および電子機器 - 特許庁

PROCESSING-LIQUID SUPPLYING UNIT, AND SUBSTRATE-PROCESSING APPARATUS AND METHOD USING THE SAME例文帳に追加

処理液供給ユニットと、これを利用する基板処理装置及び方法 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of keeping a substrate in a clean state by preventing splash of processing liquid from being adhered to the substrate during processing by the processing liquid.例文帳に追加

処理液による処理中の基板への処理液の飛沫の付着を防止して清浄に保つことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

ALIGNMENT PROCESSING APPARATUS, ALIGNMENT PROCESSING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL PANEL例文帳に追加

配向処理装置、配向処理方法及び液晶パネルの製造方法 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING ROTATING PRINT SURFACE WITH PROCESSING LIQUID例文帳に追加

回転する印刷表面を処理液で処理するための装置および方法 - 特許庁

To provide a processing liquid supply device that can stably supply a processing liquid to a plurality of processing units while simplifying the constitution and reducing the cost, and to provide a processing liquid supply method.例文帳に追加

構成を簡素化し、コストを削減しながら、複数の処理部に処理液を安定して供給可能な処理液供給装置および処理液供給方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a charge eliminating method of a processing liquid which can achieve charge elimination of the processing liquid without causing a problem of contamination of the processing liquid due to metal.例文帳に追加

処理液の金属汚染の問題を生じることなく、処理液の除電を達成することができる基板処理装置および処理液の除電方法を提供すること。 - 特許庁

Further, the wet processing apparatus includes a processing liquid supply means (consisting of, for example, a circulating pump 7 and supply piping 51) of supplying the processing liquid 19 to the processing tank 2 so that the processing liquid 19 overflows from an upper end 2b of the processing tank 2.例文帳に追加

処理槽２の上端２ｂから処理液１９がオーバーフローするように処理液１９を処理槽２へ供給する処理液供給手段（例えば、循環ポンプ７及び供給配管５１からなる）を備える。 - 特許庁

FINISHING LIQUID CONTROL SYSTEM FOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSING DEVICE例文帳に追加

感光材料処理装置のフィニッシング液管理システム - 特許庁

PRE-PROCESSING LIQUID FOR RECORDING MATERIAL AND IMAGE RECORDING METHOD例文帳に追加

被記録材の前処理液及び画像記録方法 - 特許庁

To more surely stabilize flow rate of a processing liquid.例文帳に追加

より確実に処理液の流量を安定化する。 - 特許庁

The processing liquid contains hydrogen peroxide and ammonia.例文帳に追加

この処理液は、過酸化水素とアンモニアを含有する。 - 特許庁

LIQUID LEAKAGE DETECTOR AND PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSING DEVICE例文帳に追加

液漏れ検出装置及び感光材料処理装置 - 特許庁

DEVICE FOR PREPARATION AND REPLENISHMENT OF REPLENISHING LIQUID FOR PHOTOGRAPHIC PROCESSING例文帳に追加

写真処理用補充液の調製補充装置 - 特許庁

PROCESSING METHOD FOR RADIOACTIVE WASTE LIQUID CONTAINING PHOSPHATE ESTER例文帳に追加

リン酸エステルを含む放射性廃液の処理方法 - 特許庁

SALTING AGENT FORMULATION AND SALTING LIQUID FOR MEAT PROCESSING例文帳に追加

食肉加工用の塩漬剤製剤及び塩漬用液 - 特許庁

DISPLAY SIGNAL PROCESSING CIRCUIT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

表示信号処理回路及び液晶表示装置 - 特許庁

PROCESSING LIQUID SUPPLYING NOZZLE AND SUPPLYING UNIT例文帳に追加

処理液供給ノズルおよび処理液供給装置 - 特許庁