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processing liquidの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4296件
SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR REPLACING PROCESSING LIQUID THEREOF例文帳に追加
基板処理装置、およびその処理液交換方法 - 特許庁
SOLID PROCESSING AGENT FEEDER OF PROCESSING LIQUID REPARATION APPARATUS例文帳に追加
処理液製造装置の固形処理剤投入装置 - 特許庁
LIQUID EJECTION DEVICE AND METHOD OF COLLECTING MIST OF PROCESSING LIQUID例文帳に追加
液体噴射装置及び処理液ミスト回収方法 - 特許庁
PLASMA GENERATING APPARATUS IN LIQUID, PLASMA PROCESSING APPARATUS IN LIQUID, PLASMA GENERATING METHOD IN LIQUID, AND PLASMA PROCESSING METHOD IN LIQUID例文帳に追加
液中プラズマ発生装置、液中プラズマ処理装置、液中プラズマ発生方法、および液中プラズマ処理方法 - 特許庁
LIQUID-LIKE LUBRICANT FOR WIRE DRAWING PROCESSING例文帳に追加
伸線加工用液状潤滑剤 - 特許庁
LIQUID RADIOACTIVE WASTE PROCESSING FACILITIES例文帳に追加
液体放射性廃棄物処理設備 - 特許庁
METHOD FOR PROCESSING LIQUID CONTAINING DIOXINS例文帳に追加
ダイオキシン類含有液の処理方法 - 特許庁
The piping 21 passes through the inside of a processing liquid tank TA, so that the processing liquid flowing through the piping 21 is controlled in temperature by the processing liquid in the processing liquid tank TA.例文帳に追加
配管21は処理液タンクTA内を通過するので、配管21を流れる処理液は、処理液タンクTA内の処理液によって温調される。 - 特許庁
PHOTOGRAPHIC LIQUID PROCESSING COMPOSITION CONTAINER例文帳に追加
写真用液体処理組成物容器 - 特許庁
The apparatus is provided with a processing chamber 1 for executing processing using the processing liquid for a wafer W, and a processing liquid cabinet 2 for supplying the processing liquid to the processing chamber 1.例文帳に追加
ウエハWに対して処理液による処理を実施するための処理室1と、この処理室1に処理液を供給するための処理液キャビネット2とを備えている。 - 特許庁
METHOD FOR PROCESSING FRESH FLOWER AND PROCESSING LIQUID FOR ROCESSING FRESH FLOWER例文帳に追加
生花の加工方法、および生花加工用処理液 - 特許庁
SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND PROCESSING LIQUID FLOW MEASUREMENT METHOD例文帳に追加
基板処理装置および処理液流量計測方法 - 特許庁
PROCESSING METHOD AND PROCESSING DEVICE FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加
液晶表示装置の加工方法および加工装置 - 特許庁
PROCESSING METHOD AND PROCESSING DEVICE OF WASTE LIQUID CRYSTAL PANEL例文帳に追加
廃液晶パネルの処理方法及びその処理装置 - 特許庁
PROCESSING METHOD AND ITS PROCESSING APPARATUS OF RADIOACTIVE WASTE LIQUID例文帳に追加
放射性廃液の処理方法およびその処理装置 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR CIRCULATING PROCESSING LIQUID例文帳に追加
感光材料処理装置及び処理液循環方法 - 特許庁
IN-LIQUID PROCESSING APPARATUS FOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL例文帳に追加
感光材料の液中処理装置 - 特許庁
SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND LIQUID TRANSPORTING SYSTEM例文帳に追加
基板処理装置および送液システム - 特許庁
PROCESSING LIQUID TANK FOR WIRE ELECTRIC DISCHARGE MACHINE例文帳に追加
ワイヤ放電加工機の加工液タンク - 特許庁
DEVELOPMENT PROCESSING EQUIPMENT AND LIQUID REDUCING BLOCK例文帳に追加
現像処理装置及び減液ブロック - 特許庁
PROCESSING LIQUID AND INK-JET RECORDING METHOD例文帳に追加
処理液及びインクジェット記録方法 - 特許庁
PROCESSING LIQUID REPLENISHING SYSTEM AND PROCESSING LIQUID REPLENISHING METHOD FOR PHOTOSENSITIVE PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
感光性平版印刷版処理装置用の処理液補充装置及び処理液補充方法 - 特許庁
In the liquid processing device, a liquid processing unit 2 performs liquid-process to a substrate W with a processing liquid, ends of tubes 561, 562 for supplying liquid are connected to the liquid processing unit 2 and other ends are extended to its lower side and supply the processing liquid to the liquid processing unit 2.例文帳に追加
液処理装置1において、液処理ユニット2は、処理液により基板Wに対して液処理を行い、給液用配管561、562は、一端側が液処理ユニット2に接続され、他端側がその下方側に引き回されていて、当該液処理ユニット2に処理液を供給する。 - 特許庁
PLATE SURFACE PROCESSING LIQUID FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE例文帳に追加
平版印刷版用版面処理液 - 特許庁
DEVICE FOR REPLENISHING PROCESSING LIQUID FOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL例文帳に追加
感光材料処理液補充装置 - 特許庁
TEXTURING PROCESSING LIQUID FOR MAGNETIC DISK SUBSTRATE例文帳に追加
磁気ディスク基板用テクスチャリング加工液 - 特許庁
EVAPORATION PROCESSING METHOD FOR FOAMABLE LIQUID例文帳に追加
発泡性液体の蒸発処理方法 - 特許庁
IMAGE PROCESSING CIRCUIT FOR LIQUID CRYSTAL DRIVE AND IMAGE PROCESSING METHOD FOR LIQUID CRYSTAL DRIVE例文帳に追加
液晶駆動用画像処理回路、および液晶駆動用画像処理方法 - 特許庁
WASTE INK PROCESSING DEVICE, RECORDING DEVICE, WASTE LIQUID PROCESSING DEVICE AND LIQUID JET APPARATUS例文帳に追加
廃インク処理装置、記録装置、廃液処理装置および液体噴射装置 - 特許庁
PHOTOGRAPHIC LIQUID PROCESSING COMPOSITION CONTAINER, AND PREPARING METHOD FOR PHOTOGRAPHIC PROCESSING LIQUID例文帳に追加
写真用液体処理組成物容器及び写真用処理液の調製方法 - 特許庁
Furthermore, the processing apparatus is equipped with the processing liquid tank 100, a processing part which processes a body to be processed and a processing liquid supply part which supplies the processing liquid from the processing liquid tank to the processing part.例文帳に追加
さらに,処理液用タンク100と,被処理体を処理する処理部と,前記処理液用タンクから前記処理部に処理液を供給する処理液供給ラインを備えることを特徴とする,処理装置とした。 - 特許庁
PROCESSING SOLUTION DISCHARGE NOZZLE, LIQUID TREATING DEVICE AND LIQUID TREATING METHOD例文帳に追加
処理液吐出ノズル、液処理装置および液処理方法 - 特許庁
METHOD FOR STORAGE OF PHOTOGRAPHIC PROCESSING LIQUID WASHING SUBSTITUTION STABILIZATION LIQUID例文帳に追加
写真処理液水洗代替安定化液の保管方法 - 特許庁
LIQUID MIXING METHOD AND PHOTOGRAPHIC PROCESSING LIQUID STORAGE DEVICE例文帳に追加
液体の混合方法及び写真処理液貯留装置 - 特許庁
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