「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 104 105 106 107 108 109 110 111 112 .... 366 367 次へ＞- To provide a defect detecting device, a defect detecting method, and a computer program capable of correctly detecting defects such as dirt, flaw, and contamination, even when there is a uniformly continued background pattern.
一様に連続している背景模様が存在する場合であっても、ゴミ、傷、汚れ等の欠陥を正しく検出することができる欠陥検出装置、欠陥検出方法及びコンピュータプログラムを提供する。 - 特許庁 - To provide a method of inspecting a semiconductor wafer in which a projection defect and a hollow defect present on one surface of the semiconductor wafer are discriminatingly detected and the size of a hollow is accurately measured.
半導体ウェーハの一面に存在する突起状欠陥とへこみ状欠陥とを区別して検出し、へこみのサイズを正確に測定することが可能な半導体ウェーハの検査方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device for which a point defect caused by a TFT is repaired as a normal pixel and of which the display quality is high, and a method for repairing its defect.
本発明は、ＴＦＴに起因する点欠陥を正常画素にリペアできるとともに、表示品位の高い液晶表示装置及びその欠陥修復方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a method for correcting a mask defect for significantly reducing the time required to correct a mask defect and reducing the cost and period for manufacturing a mask, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.
マスクの欠陥修正に要する時間を大きく短縮し、マスクの製造コストと製造期間を削減するマスク欠陥修正方法及び半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - This inspection is carried out at the position where tracking is positively offset with the normal position and at the position where it is negatively offset; therefore, the defect of the gap of the data tracks is inspected as well as the defect of the data tracks.
この検査はトラッキングを通常位置とプラスオフセットさせた位置とマイナスオフセットさせた位置とで実行されるので、データトラックの欠陥だけでなくデータトラックの間隙の欠陥も検査される。 - 特許庁 - Before the image data are subjected to an elaborate process for the detection of red eye defect, exclusion criteria are analyzed in the course of an exclusion process, whereby the criteria provide the information to definitively rule out the occurrence of red eye defect.
赤目欠陥が現れない画像を確定的に除外する除外基準が、画像データに対して負担のかかる赤目欠陥の識別方法が使用される前に、除外方法の範囲で検査される。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device capable of making a defective pixel to be a normal pixel by correcting easily the leakage defect between a drain electrode and an auxiliary capacitance electrode and a source wiring and its defect correcting method.
補助容量電極及びソース配線とドレイン電極とのリーク欠陥を容易に修正して正常絵素化を図り得る液晶表示装置及びその欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁 - To satisfactorily remove the scratch or trash of image information even when there is the residual aberration of infrared image information or there is any image defect due to the defect of an image recording layer of the image information acquisition origin.
赤外画像情報の残存収差や、画像情報取得元の画像記録層の欠損による画像欠損がある場合にも、画像情報の傷、ゴミの除去を良好に行うことである。 - 特許庁 - To provide a defect detection device capable of easy and accurate defect detection when a plurality kinds of surface states of an inspection object to be determined to be a nondefective article exist.
良品と判定されるべき被検査物の表面状態が複数種類存在する場合に容易でかつ正確な欠陥検出を行うことができる欠陥検出装置を提供すること。 - 特許庁 - To obtain a surface inspection apparatus by which a defect is detected with high accuracy by detecting a patternlike scab defect having no remarkable uneven property such as a crack, a twist or a burr on a surface on a face to be inspected surely.
被検査面における表面の割れや捩れやめくれ上がりのような顕著な凹凸性を持たない模様状ヘゲ欠陥を確実に検出して、高精度に欠陥を検出する。 - 特許庁 - The signal mirr is outputted as a mirror detecting signal MIRR when the defect is not being detected, and the mirror detecting signal MIRR is fixed to the L-level when the defect is detected.
デフェクトが検出されていなければ信号ｍｉｒｒをミラー検出信号ＭＩＲＲとして出力し、デフェクトが検出されている場合にはミラー検出信号ＭＩＲＲをＬレベルに固定する。 - 特許庁 - The method comprises the control of the turbine element in order to pinpoint the zones having a bonding defect between the protective coating and the substrate, and the elimination of the bonding defect between the protective coating and the substrate.
方法は、保護コーティングと基材との間の接着不良を有するゾーンを特定するためのタービン要素の制御と、保護コーティングと基材との間の接着不良の除去とを備える。 - 特許庁 - To form a shielding film even on the halftone defect of a photomask implanted with Ga so that the repair of the halftone defect with high accuracy without peeling the shielding film by cleaning and heat is made possible.
Ｇａの注入されたフォトマスクのハーフトーン欠陥上にも遮蔽膜が形成でき、洗浄や熱により遮蔽膜が剥れることのない、高精度なハーフトーン欠陥の修正を可能にする。 - 特許庁 - A signal processing circuit 105 refers to the pixel defect information from the FROM 112 and corrects the pixel defect in accordance with a driving mode by which the drive circuit 113 drives the CCD image pickup element 101.
信号処理回路１０５は、駆動回路１１３がＣＣＤ撮像素子１０１を駆動する駆動モードに応じてＦＲＯＭ１１２より画素欠陥情報を参照して画素欠陥の補正を行う。 - 特許庁 - Information (offset information) about distribution of a coordinate system offset between a defect inspection apparatus and a SEM apparatus at an observation location on a wafer is registered in the SEM apparatus as a defect observation apparatus.
欠陥観察装置であるＳＥＭ装置には、欠陥検査装置と当該ＳＥＭ装置との間の座標系のずれの、ウェハ上の観察位置に対する分布に関する情報（ずれ情報）が登録される。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing electrooptic device by which the occurrence of a defective electrooptic device caused by an HF defect can be prevented even when the HF defect occurs in the semiconductor layer of an SOI substrate.
ＳＯＩ基板の半導体層にＨＦ欠陥が生じた場合にも、係る欠陥に起因するデバイスの不良が生じるのを防止することができる電気光学装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - When the comparison circuit 43 judges the weaving stop state of the loom, the output circuit 39 cancels the judgement of the presence of defect made by a defect judging means included in the signal processing circuit board 21.
比較回路４３が製織停止状態と判定したときには出力回路３９は、信号処理回路基板２１に含まれる欠点有無判定手段の欠点有りの判定を無効化する。 - 特許庁 - An image processing device 5 sets a defect candidate slice level, based on an image example of a reference sample including defects with respect to the differential interference images and selects defect candidates from among the differential interference images.
画像処理装置５では、この微分干渉画像に対して欠陥を含むレファレンスサンプルの画像例に基づく欠陥候補スライスレベルを設定し、微分干渉画像から欠陥候補を選定する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device for suppressing oxygen permeated into the surface defect of a silicon carbide substrate and restoring the surface defect, when oxidizing the silicon carbide substrate (SiC).
炭化珪素基板（ＳｉＣ）の酸化時に、炭化珪素基板の表面欠陥中に浸入する酸素を抑制し、当該表面欠陥を回復することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Consequently, an external image processor which has acquired the image data can perform defect pixel correction accurately for the image data GD using the defect pixel information outputted in association with the image data.
この結果、画像データを取得した外部の画像処理装置は、関連付けて出力された欠陥画素情報を用いて、画像データＧＤに対して正確に欠陥画素補正を実行できる。 - 特許庁 - To provide a wrinkle-like defect preventive device in a winder device, which prevents the occurrence of a wrinkle-like defect such as picking wrinkles in paper, when forming a small roll of a small width and diameter by the winder device.
ワインダー装置で小幅・小径の小巻取を形成する際に、ツマミシワ等のシワ状欠陥が紙に発生することを防止するワインダー装置におけるシワ状欠陥防止装置を提供する。 - 特許庁 - Successively, a control unit included in the defect correction device generates a composite image for decision by compositing the defect region image with an image including information of a relevant equal potential plane of the repeated pattern.
続いて、欠陥修正装置が備える制御部が、その欠陥領域画像と繰り返しパターンの該当する等電位面の情報を含む画像とを合成して判定用の合成画像を生成する。 - 特許庁 - To provide an image forming method capable of preventing an image defect like a black spot which is caused by deformed toner or by a fragment of toner that adheres to a photoreceptor, and preventing an image defect which is caused by a scratch or bending of a toner image.
変形したトナーやトナーの破片が感光体に付着して生じる黒斑点状の画像欠陥を防止し、トナー画像の擦過や折り曲げによって生じる画像欠陥を防止する。 - 特許庁 - Furthermore, when the measured amount of dark current is greater than a set level, white defect correction process is performed, and when the measured amount of dark current is not greater than the set level, the white defect correction process is not performed.
更に、測定した暗電流量が設定レベルを超えている場合は白キズ補正処理を実施し、測定した暗電流量が設定レベルを超えている場合は白キズ補正処理を実施しない。 - 特許庁 - In a repair method for a half tone mask, a defect section in a semi-transparent area of the half tone mask is repaired by irradiating a source material with a laser to evaporate it onto the defect section of a semi-transparent layer.
本発明のハーフトーンマスクリペア方法は、原料物質にレーザを照射して半透過層の欠陥部位に蒸着することにより、ハーフトーンマスクの半透過領域の欠陥部位をリペアする。 - 特許庁 - To provide a defect predicting system of a structure which can rapidly and exactly estimate damage circumstances of the structure by an earthquake, after an earthquake has occurred and to provide a defect predicting program of the structure.
地震による構造物の被害状況を地震発生後に迅速かつ適確に推定することができる構造物の損傷推定システムおよび構造物の損傷推定プログラムを提供すること。 - 特許庁 - A host computer calculates the feature quantity of each defect image (step S203), and each defect image is tentatively classified in response to a Euclidean distance between the teacher image in a feature quantity space (step S204).
ホストコンピュータは、各欠陥画像の特徴量を算出し（ステップＳ２０３）、特徴量空間における教師画像とのユークリッド距離に応じて各欠陥画像を仮分類する（ステップＳ２０４）。 - 特許庁 - To provide a method for setting determination conditions in a defect inspection device capable of automatically setting and determination size, without having to perform resetting work of the determination size, and to provide the defect inspection device.
判定サイズの再設定作業を行うこと無く、判定サイズの設定を自動的に行うことが可能な欠陥検査装置における判定条件設定方法及び欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - To present options that satisfy a user, as measured to cope with a reception defect if the reception defect is incurred by a factor that the user is not responsible for, in a pay broadcast service.
有料放送サービスにおいて、ユーザの責に帰することができない原因により受信不良が生じたとき、該受信不良への対応策としてユーザが満足するに足る選択肢を提示する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a silicon single crystal, by which the silicon single crystal having a defect-free region can be manufactured in a good yield; and to provide the silicon single crystal in which the defect-free region exists in a high rate.
無欠陥領域を有するシリコン単結晶を歩留まりよく製造できるシリコン単結晶の製造方法および無欠陥領域が高い割合で存在するシリコン単結晶を実現する。 - 特許庁 - The liquid crystal generates no defect line (loop defect), and not only is the γ characteristics observed when the liquid crystal device from the front but also can the γ characteristic, with the device being observed from an oblique direction, be made uniform.
また、液晶に欠陥線（ループ欠陥）が発生せず、液晶素子を正面から見たときのγ特性はもちろんのこと、液晶素子を斜めから見たときのγ特性も均一にできる。 - 特許庁 - To provide an ultrasonic flaw detector for accurately and quickly detecting an internal defect in a running steel plate and a location of the internal defect relative to a central face in thick.
走行する鋼板の内部欠陥を正確にかつ迅速に、しかも内部欠陥が板厚中心面に対してどちら側に存在するのかも検出することが可能な超音波探傷装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect analysis system, a recording medium, a defect analyzing method and a process controlling method, which are capable of operating a criticality in a short period of time and, further, capable of raising the operating accuracy thereof.
短時間で致命率を算出することができ、且つその算出精度を高めることができる欠陥解析システム、記録媒体、欠陥解析方法、及び工程管理方法を提供すること。 - 特許庁 - To realize an evaluation device for measuring the defective state of a defect of a semiconductor device identified based on optical beam induced current (OBIC) phenomenon or the like or the state of a minute area surface including the defect.
ＯＢＩＣ現象等に基づいて同定した半導体デバイスの欠陥の欠損状態や、欠陥を含む微小領域表面の状態などを測定する評価装置を実現する。 - 特許庁 - The control means controls the drive of the defect metal sorting means on the basis of the detected result of the detection sensor 25 and the defect metal sorting means sorts the laver A to which the metal C is attached.
制御手段は、探知センサー２５の検出結果に基づき、金属不良選別手段の駆動を制御し、金属不良選別手段は、金属Ｃが付着した海苔Ａを選別可能となっている。 - 特許庁 - In this constitution, light reflection and transmission in the point defect 14 is suppressed by selecting the proper distance L, and light resonated with the point defect 14 can be efficiently taken out.
この構成において、適切な距離Lを選択することによって、点欠陥１４における光の反射や透過が抑制され、点欠陥１４で共振する光を効率よく取り出すことができる。 - 特許庁 - To provide a defect detection apparatus and a defect detection method for facilitating a setup of threshold values in a plurality of scattered light detectors, and properly obtaining detection data from the individual scattered light detector.
複数の散乱光検出器のしきい値設定を容易化し、個々の散乱光検出器の検出データを適切に取得することができる欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an optical disk capable of setting the criterion of a defective sector to one corresponding to an application in an optical disk for carrying out defect management, and provide a defect management method using the optical disk.
欠陥管理を行う光ディスクにおいて、欠陥セクタの判定基準をその用途に対応したものに設定することができる光ディスク及び、かかる光ディスクを用いた欠陥管理方法を得る。 - 特許庁 - The inspection-nullifying state in the output circuit 39 means a state that the input of the inspection-nullifying state from the defect presence or absence-judging means C1 is nullified not to output the defect presence detection signal.
出力回路３９における検反無効化状態は、欠点有無判定手段Ｃ１からの異常検出信号の入力を無効化して欠点有検出信号を出力しない状態である。 - 特許庁 - At least either of a wafer parameter as a settable inspection information and a sensitivity parameter of a defect inspection device is generated from the design information of a semiconductor wafer, and incorporated into a recipe for defect inspection.
半導体ウェーハの設計情報から、設定可能な検査情報であるウェーハパラメータと欠陥検査装置の感度パラメータとの少なくともいずれかを生成して欠陥検査のためのレシピに組み込む。 - 特許庁 - The tester 36 specifies an element matrix coordinate of a defect detected element whose defective pixels are detected on the wafer and a pixel matrix coordinate of each defective pixel on the defect detected element.
テスタ３６は、欠陥画素が検出された欠陥検出素子のウェハ上における素子行列座標と、各欠陥画素の欠陥検出素子上における画素行列座標とを特定する。 - 特許庁 - The applicator tip includes a body having a distal end configured to engage the tissue defect and a mold disposed around the body configured to engage tissue around the tissue defect.
アプリケーターチップは、組織欠損を係合するように構成される遠位端を有する本体と、組織欠損の周囲に組織を係合するように構成される本体の周囲に配置されるモールドとを含む。 - 特許庁 - A pixel defect detecting means 17 detects the pixel defect by comparing data for one pixel of a following frame from the A/D converter 15 and data for one pixel of a preceding frame from the video memory 16.
画素欠陥検出手段１７は、Ａ／Ｄ変換器１５からの後のフレームの１画素分のデータと映像メモリ１６からの前のフレームの１画素分のデータとの比較によって画素欠陥を検出する。 - 特許庁 - To provide a method for continuously casting a P-containing steel by which a streak defect, especially white streak defect caused after plating/galvannealing can stably be prevented in a galvannealed steel sheet.
合金化溶融亜鉛めっき鋼板においてめっき・合金化後に生ずる筋状欠陥、特に白色の筋状欠陥を安定して防止できるＰ含有鋼の連続鋳造方法を提示する。 - 特許庁 - Before access to a memory section 1 is started, defect specifying data for specifying a storage area having the defect in the memory section 1 are transferred to a scan flip-flop SFF 2 from a fuse circuit 10.
メモリ部１へのアクセスを開始する前に、メモリ部１内の欠陥を持つ記憶領域を特定するための欠陥特定用データがヒューズ回路１０からスキャンフリップフロップＳＦＦ２に転送される。 - 特許庁 - To provide an imaging apparatus having a zoom function without an optical means, thereby enabling the signal correction of a defect pixel based on location information of the defect pixel preliminarily stored.
あらかじめ記憶された欠陥画素の位置情報に基づく欠陥画素の信号補正を行うことが可能とされた、光学的手段を用いないズーム機能を具備する撮像装置を提供する。 - 特許庁 - If a lattice defect occurs as the oxygen desorbs from the oxide semiconductor layer 14, the fluorine compensates the lattice defect, whereby the electrical characteristics of the oxide semiconductor layer 14 are stably held.
酸化物半導体層１４から酸素が脱離して格子欠陥が生じた場合には、その格子欠陥をフッ素が補償するため、酸化物半導体層１４の電気特性が安定して保持される。 - 特許庁 - The substrate, similar to the layer defect distributions in the in-line inspection process 10e to the final defect distribution 26a, is extracted from the substrates through the in-line inspection process 10e.
そのインライン検査工程１０ｅを経た基板の中から、その最終欠陥分布２６ａに対してそのインライン検査工程１０ｅでのレイヤ欠陥分布が類似しているような基板を抽出する。 - 特許庁 - To provide a method of detecting a defect position of a semiconductor wafer, in which a defect such as chipping smaller than a notch and cracking in a wafer outer peripheral region off a pattern can be precisely detected.
ノッチより小さい微細な欠けやパターンから外れたウエハ外周領域の割れなどの欠陥を精度よく検出することができる半導体ウエハの欠陥位置検出方法を提供する。 - 特許庁 - To evaluate the absolute value of the height or the depth of an irregularity defect, to shorten simultaneously an inspection time, and to discriminate the defect irregularities.
凹凸欠陥の高さあるいは深さの絶対値評価を行うことができるようにするとともに、その検査時間の短縮を同時に実現できるようにし、さらに欠陥の凹凸判別を行えるようにする。 - 特許庁
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