「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 106 107 108 109 110 111 112 113 114 .... 366 367 次へ＞- To obtain a nonwoven fabric having a dense structure composed of an ultrafine fiber with a net structure, capable of counterbalancing the defect possessed by a olefinic polymer with the defect possessed by an ester-based polymer, and capable of using these merits.
オレフィン系重合体の持つ欠点とエステル系重合体の持つ欠点を相殺し、それらの長所を生かした極細の網状構造繊維からなる緻密構造の不織布を得る。 - 特許庁 - Thus, the electro-optical device having high display quality, wherein light scattering properties is enhanced and the adhesion defect and the pattern defect are eliminated can be obtained without increasing the number of the manufacturing steps.
したがって、本発明は、プロセス数を増やすことなく、光散乱特性を向上し、膜の密着性およびパターン不良を解決した、表示品位の高い電気光学装置を得ることができる。 - 特許庁 - The defect detection unit 140 detects the defect in the projection unit 120 based on an original projection image which is the image to be projected by the projection unit 120 and the actual projection image taken in by the image pick up element 130.
異常検出部１４０は、投影部１２０で投影すべき原投影画像と、撮像素子１３０で取り込んだ実投影画像とに基づいて投影部１２０の異常を検出する。 - 特許庁 - To perform the subject removal of a weft yarn defect by giving a supplemental impact pulse to the weft yarn at a specific timing in a reverse direction of the sideways beating movement of reeds to remove the weft yarn defect automatically without stopping its operation.
空気式よこ糸端挿入器を利用して形成されるよこ糸端織込み縁を備えた織物を製造する際、よこ糸欠陥の自動除去運転を支援する処置を講ずる。 - 特許庁 - To surely apply a liquid over the whole coating area with a normal nozzle group by applying the liquid at a high speed when a defect nozzle group does not exist and by degrading a coating speed only when the defect nozzle group occurs.
不良ノズル群が無い場合は高速で液体を塗布し、不良ノズル群が発生したときのみ塗布速度を低下させて確実に全ての塗布領域にわたり正常ノズル群で液体を塗布する。 - 特許庁 - To provide a defect tolerance evaluation method for a structure within a reactor accurately carrying out defect tolerance evaluation by using material testing data obtained from a sample taken from an evaluation object portion itself.
評価対象部位そのものから採取したサンプルから得られた材料試験データを用いて精度よく欠陥裕度評価を行う炉内構造物の欠陥裕度評価方法を提供する。 - 特許庁 - To display an optimum image corresponding to a defect to be inspected, successively in an optimum display range and a contrast with an optimum arrangement pattern, when detecting a defect by observing an ultrasonic flaw detection image.
超音波探傷画像を観察して欠陥を検出する場合において、検査する欠陥に応じて最適な画像を、最適な配置パターンで、最適な表示範囲とコントラストで順次表示する。 - 特許庁 - In BIST operation, when a defect is detected, the BIST operation is completed while the detected defect is stored in a fetching register 31 of the memory output result analyzing circuit 3.
ＢＩＳＴ実行時では、不良検出された時点で検出された不良をメモリ出力結果解析回路３の取り込みレジスタ３１に保存した状態でＢＩＳＴ動作が完了する。 - 特許庁 - Then, the detected still picture defect address is converted on the basis of a difference in a reading system between all pixel reading and pixel thinning-out reading to thereby generate a moving picture defect address in a moving picture frame.
そして、検出した静止画欠陥アドレスを、全画素読み出しと画素間引き読み出しとの読み出し方式の違いに基づいて変換することにより、動画フレームにおける動画欠陥アドレスを生成する。 - 特許庁 - In relation to the filling path in which the standard deviation exceeds the reference value, information on the generation of a defect of filling and for specifying the filling path where the defect occurs is output to a monitor 24.
標準偏差が基準値を超える充填経路に関して、充填不良の発生及び該不良が発生した充填経路を特定するための情報をモニタ部２４に出力する。 - 特許庁 - A decision is made by a defect deciding means as to whether the measured data recorded by the data-recording means 13 receiving the output refer to the internal defect, and its result is output, e.g. as image data.
出力を受けたデータ記録手段１３が記録した計測データは、欠陥判断手段によって内部欠陥か否かの判定を行い、その結果を、例えば画像データとして出力する。 - 特許庁 - To inexpensively and industrially manufacture a silicon wafer which has BMD at high density in the inner part of the wafer, and a device generation layer on a surface layer is made into a non-defect layer which does not include BMD nor a grow-in defect.
ウェーハ内部に高密度の ＢＭＤ を有し、表層のデバイス作成層をＢＭＤ もグローイン欠陥も含まない無欠陥層にしたシリコンウェーハを安価に、工業的に容易に製造する。 - 特許庁 - To provide a heat developable image recording material having a defect-free uniform coating film and capable of forming a defect-free good image even after heat development, and to provide a method of manufacturing the same.
欠陥のない均一な塗布膜を有しており、かつ熱現像後においても欠陥のない良好な画像を形成することができる熱現像画像記録材料とその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - A crosstalk defect can be detected in the checked display area 21; a gradation defect can be detected in the stepped gradation display area 22, and a flicker deviation can be detected in the half-tone display area 23.
市松表示領域２１ではクロストーク不良を検出でき、段階階調表示領域２２では階調不良を検出でき、中間階調表示領域２３でフリッカズレを検出できる。 - 特許庁 - When the surface defect inspecting device detects the surface defect of the wafer and it is decided through the evaluation of the sensor data that the sensor data are abnormal, it is decided that the coating development processing equipment is abnormal.
そして、表面欠陥検査装置によりウェハの表面欠陥が検出され、なおかつセンサデータの評価によりセンサデータが異常と判定された場合に、塗布現像処理装置を異常と判定する。 - 特許庁 - To provide a defect inspection apparatus and its method capable of high-sensitively detecting a critical defect existing in the vicinity of a direct peripheral circuit part in a chip formed on a semiconductor wafer.
半導体ウェハ上に形成されたチップ内の直接周辺回路部の近辺に存在する致命欠陥を高感度に検出することができる欠陥検査装置及びその方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an antireflection film detector capable of easily detecting a common defect of low contrast occurring in an antireflection film at a certain cycle, and furthermore, identifying a cause of the common defect.
反射防止フィルムに一定周期で発生する低コントラストの共通欠陥を容易に検出し、更に共通欠陥の発生原因を同定可能な反射防止フィルム検出装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a hydrogen separation apparatus that prevents a defect developed by a reaction on the inner surface of a hydrogen permeation membrane and can prevent purity loss of a hydrogen gas even in case of the defect.
水素透過膜の内表面からの反応による欠陥の発生を防止し、この欠陥が発生してたとしても水素ガスの純度低下を防止し得る水素分離装置を提供すること。 - 特許庁 - The display image of the display panel is picked up while displaying the defect on the screen of the display panel where the defect exists, and selectively displaying two or more pixels whose addresses are known.
欠陥が存在する表示パネルの画面上に、前記欠陥を表示させかつアドレスが既知の複数の画素を選択的に表示させた状態で、前記表示パネルの表示画面を撮影する。 - 特許庁 - In the case of a relatively large defect, pulse voltage applied to one- or two-dimensionally arranged carbon nanotube probes is selectively subjected to ON-OFF control in accordance with the shape of the defect to enhance throughput.
比較的大きな欠陥に対しては一次元や二次元状に配置されたカーボンナノチューブ探針のパルス電圧を形状に合わせて選択的にパルス電圧をON/OFFすることで、スループットを向上させる。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device wherein individual pixel electrode has multiple sub pixel electrodes and a short circuit defect is easily corrected and to provide its defect correcting method.
個々の画素電極が複数のサブ画素電極を有する液晶表示装置における短絡欠陥の修正が容易な液晶表示装置およびそのような欠陥の修正方法を提供する。 - 特許庁 - To facilitate specification of a trouble caused by an inspection equipment or process by performing defect distribution state analysis based on defect data detected by the inspection equipment in the production process of a semiconductor substrate.
半導体基板の製造工程において、検査装置によって検出された欠陥データに基づいて欠陥分布状態解析を行い、装置あるいはプロセス起因の不良原因の特定を容易にする。 - 特許庁 - To provide method, device and program for determination of continuous defect which can quickly and surely detect any continuous surface defect successively-arisen in the direction of a longer hand a thin steel sheet.
薄鋼板の長手方向に連続して発生した連続欠陥を迅速且つ確実に検出することができる連続欠陥判定方法、連続欠陥判定装置及びプログラムを提供すること。 - 特許庁 - A defect detecting means 13 computes whether or not the variation computed by the computing means 6 is larger than the value set by a threshold setting means, so as to detect the presence of a defect.
欠陥検出手段１３は変化量演算手段６で演算した変化量がしきい値設定手段１２で設定した値より大きいか小さいか演算し欠陥の有無を検出する。 - 特許庁 - As for the observation mark M_3, a direction line m_3" points to a defect part section A_0 so as to show that the section A_0 (sample processing part) of a defect part A exists in the right direction, viewing from the mark M_3.
観察用マークＭ_３は、そのマークＭ_３から見て右方向に欠陥部分Ａの断面Ａ_０（試料加工部）があることが分かるように、方向線ｍ_３”は欠陥部分断面Ａ_０の方を指している。 - 特許庁 - An annealed wafer or epitaxial wafer having a DZ (Denuded Zone) layer with reduced grown-in defect and BMD (Bulk Micro Defect) of COPs (Crystal Oriented Particles) etc. is subjected to a rapid temperature raising/falling heat treatment in an oxygen gas atmosphere.
ＣＯＰ等のグローンイン欠陥およびＢＭＤが低減したＤＺ層を有するアニールウェーハあるいはエピタキシャルウェーハに、酸素ガス雰囲気における急速昇降温熱処理を施す。 - 特許庁 - A Q-value is measured at a measurement frequency of 1 kHz or lower, for example 1 kHz, for laminated ceramic capacitors with no structural defect and those with a structural defect.
構造欠陥のない積層セラミックコンデンサおよび構造欠陥の有る積層セラミックコンデンサについて、１ｋＨｚ以下の測定周波数たとえば１ｋＨｚの測定周波数でＱ値を測定する。 - 特許庁 - To settle problems that, in defect correction of a colored pattern of a color filter and the like, the corrected defect parts become uneven to cause unmodified parts, and projection height of the corrected parts becomes higher.
カラーフィルター等における着色パターンの欠陥修正時に、修正された欠陥部分が不均一となり未修正部分が出来たり、修正部分の突起高さが高くなったりする問題を解決する - 特許庁 - Then the other resist pattern is inspected whether a defect is present in the same portion as the above defective portion or not, and if the defect is present in the same portion, the mask used for exposure is determined as defective.
そして他のレジストパターンについて、上記欠陥個所と同一個所に欠陥が存在するかを検査し、同一個所に欠陥が存在する場合、露光に用いたマスクに欠陥があると判定する。 - 特許庁 - To discriminate an image of a defect in a liquid crystal panel from an image of dust deposited on a surface of the liquid crystal panel, using a simple means, when inspecting the defect in the liquid crystal panel, using an imaging device.
液晶パネルの欠陥を撮像装置を用いて検査する場合に、簡単な手段を用いて、液晶パネルの表面に付着したゴミの映像と、液晶パネルの欠陥の映像とを区別する。 - 特許庁 - To detect accurately a defect of a printed matter by preventing wrong detection caused by misregistration on a printed face, concerning an inspection device and an inspection method for detecting a pattern defect of the printed matter.
印刷物の絵柄の欠陥を検出する検査装置及び検査方法に関し、印刷面の位置ずれによる誤検出を防止して、より精度良く印刷物の欠陥を検出できるようにする。 - 特許庁 - To provide an image forming device which makes the life of the device longer by maintaining the state of preventing the occurrence of both of the fogging and contamination by an electrostatic charge defect and the ghost by a defect in scrapping off residual developers.
帯電不良によるかぶりや汚染、残留現像剤のかきとり不良によるゴーストが共に発生しない状態を維持してより装置の長寿命化を図る画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an internal defect detecting apparatus capable of detecting an internal defect present in a continuously fed strip-like material continuously and highly accurately with a simple apparatus constitution.
連続的に搬送されてくる帯状体に存在する内部欠陥を、簡易な装置構成で連続的かつ高精度に検出可能な内部欠陥検出装置を提供することを課題としている。 - 特許庁 - To resolve the problem of a plasma display device wherein if there is a defect such as a crack or a bubble in a dielectric film composing a PDP, dielectric breakdown and a material defect occur when a discharge voltage is applied to a display electrode.
ＰＤＰを構成する誘電体膜にクラックや気泡などの欠陥が含まれていると、表示電極に放電電圧を印加したときに絶縁破壊が発生し、品質不良になる。 - 特許庁 - To revive and reproduce data recorded on a recording medium by tracing the data back to a time when a defect takes place even when the data having been not recognized because the defect takes place during recording resulting in impossible recording of management data.
記録中に不具合が発生し、管理データを記録できず、データとして認識できなかったデータでも、不具合が発生した時までに記録媒体に記録されたデータを復活して再生する。 - 特許庁 - To provide a method of coating capable of forming a coated part having no defect in appearance, and a method of manufacturing a platy polymerized object, which forms a cured layer having no defect in appearance by the method of coating.
外観不良が無い塗工部を形成できる塗工方法、及び、その塗工方法によって外観不良が無い硬化層を形成する板状重合物の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Since the sign of the luminance information of the image is inverted by the sum-of-squares processing, a bright ring-like image part is formed along the periphery of the edge of the defect, and the image of the defect free from directivity is picked up.
２乗和処理により、画像の輝度情報の符号が反転するので、欠陥のエッジの周囲にそって明のリング状の画像部分が形成され、方向性の無い欠陥像が撮像される。 - 特許庁 - To provide a wafer surface defect inspection device capable of reducing instrument errors of detection sensitivity and foreign matter coordinate detection error, and capable of obtaining high position coordinate precision for a defect such as a foreign matter, and a method therefor.
検出感度や異物座標検出誤差の機差が小さく、異物等の欠陥の高い位置座標精度が得られるウェハ表面欠陥検査装置およびその方法を提供することである。 - 特許庁 - To allow the system to detect a defect caused in inputted time division multiplex signal itself and to inform a monitor side of its defect.
入力した時分割多重信号自体に発生した障害を検出し、その障害を監視装置側に通知することのできる信号処理装置およびこれを利用した障害監視システムを得る。 - 特許庁 - A vibration of the outer ring 5 is measured while rotating the hub 2, and the race having a defect is specified based on a frequency of the vibration caused by the defect.
ハブ２を回転させつつ外輪５の振動を測定し、上記欠陥に基づいて発生する振動の周波数に基づいて、上記両列のうちの何れの列に欠陥が存在するかを特定する。 - 特許庁 - To provide a cast slab maintaining method which prevents any defect from being caused in a product, by elucidating a new factor affecting the defect of the product after the hot rolling and the cold rolling, and a cast slab.
熱間圧延及び冷間圧延後の製品の欠陥に影響を及ぼす新たな因子を解明し、製品に欠陥が発生するのを防止できる鋳片の手入れ方法及び鋳片を提供する。 - 特許庁 - When detecting defect of the unit area in time of the update, update of the unit area is performed to the substitution unit area, and the unit area of the defect is replaced with the substitutional unit area.
更新時に単位領域の不良を検出したとき、代替単位領域に対して当該単位領域の更新を行い、不良の単位領域を代替の単位領域に置き換える。 - 特許庁 - The method for detecting the external surface defect is used for detecting the external surface defect of the tubular material in the production equipment of the tubular material P in which the sizer M2 is installed downstream of the elongator M1.
本発明に係る外面疵検出方法は、延伸圧延機Ｍ１の下流に定径圧延機Ｍ２を設置した管材Ｐの製造設備において管材の外面疵を検出する方法である。 - 特許庁 - In a determining step S5, the shape of the crystal defect is obtained based on the high-magnification inspecting image so as to determine whether the crystal defect is the void or the particle by whether the shape is a circular shape or an unspecified shape other than the circular shape.
判定ステップＳ５は、高倍率検査画像に基づいて結晶欠陥の形状を求め、円形か円形以外の不定形状かで結晶欠陥がボイドかパーティクルかを判定する。 - 特許庁 - Furthermore, a Bug in a program would be necessarily considered as a defect; minor Bugs which do not interfere with the normal use by the user shall not constitute defect.
さらにいわゆるプログラムのバグ一般が瑕疵に該当するわけではなく、ユーザーの使用に差し支えない程度の微細なバグはそもそも瑕疵とまではいえない（ベンダーの責任は問われない）と解される。 - 経済産業省 - A defect region size measuring circuit 4 retrieves defect management information before re-initialization when re-initializing the optical disk 10, divides a whole user data region into a plurality of segments, measures defect region size for each segment, then, an alternative region size setting circuit 5 decides alternative region size which is allocated to each user data region after re-initialization based on the defect region size for each segment.
欠陥領域サイズ計測回路４は光ディスク１０の再初期化時に、再初期化前の欠陥管理情報を検索し、ユーザデータ領域全体を複数のセグメントに分割して、各セグメント毎の欠陥領域サイズを計測し、代替領域サイズ設定回路５は各セグメント毎の欠陥領域サイズに基づき、再初期化後の前記各ユーザデータ領域に割当てる代替領域サイズを決定する。 - 特許庁 - The method is provided with a step which extracts the line defect from an image for defect extraction, a step which corrects line defection of the image for defection extraction, using the line defection information extracted, and a step which extracts a defect pixel using the corrected image for defect extraction, or a step which extracts pixel defection, without using the pixel value of the extracted line defects.
欠陥抽出用画像より前記ライン欠陥を抽出するステップと、抽出された前記ライン欠陥情報を用いて欠陥抽出用画像のライン欠陥の補正するステップと、補正した欠陥抽出用画像を用いて欠陥画素を抽出するステップとを有するか、抽出された前記ライン欠陥にあたる画素値を用いずに画素欠陥を抽出するステップとを有することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a correction projection foreign matter determination method of a color filter substrate, wherein the method reduces the number of defects to be confirmed by a defect correction machine by determining a projection foreign matter from among defects in the color filter substrate to be detected by an automatic defect inspection device before inputting the color filter substrate into the defect correction machine, and performs an efficient defect correction work by the minimum correction devices.
自動欠陥検査装置で検出したカラーフィルタ基板内の欠陥の中から、カラーフィルタ基板を欠陥修正機投入する前に突起異物を判定することによって欠陥修正機で確認する欠陥数を減少させ、最小限の修正装置で効率的な欠陥修正作業を行うことを可能とするカラーフィルタ基板の修正突起異物判定方法を提供するを提供する。 - 特許庁 - To precisely discriminate an anisotropic defect from an isotropic defect to detect precisely the numbers of the both defects, using a measuring instrument for detecting the defect by scanning a laser beam along a fixed direction on a semiconductor wafer surface, and to precisely discriminate the respective defects different in anisotropy to detect precisely the numbers of the defects in every defect different in the anisotropy.
半導体ウェーハ表面でレーザ光を一定方向に走査することによって欠陥を検出する計測器を用いて、異方性を有した欠陥と等方性を有した欠陥とを高精度に識別して、両者の欠陥の数を高精度に検出できるようにし、また、異方性が異なる各欠陥を高精度に識別して、異方性の異なる欠陥毎に欠陥の数を高精度に検出できるようにする。 - 特許庁 - In the surface defect data display management device 3, a risk level calculation part 33 calculates an influence degree of a defect upon yield of the final product on the basis of a defect size of the wafer detected by an appearance inspection device 12 and a review device 10 and a pattern density obtained from design data of a pattern figure corresponding to neighbors of the position of the defect.
表面欠陥データ表示管理装置３において、危険率算出部３３は、外観検査装置１２やレビュー装置１０によって検出されたウェーハの欠陥サイズと、その欠陥の位置の近傍に対応するパターン図の設計データから得られるパターン密度とに基づき、その欠陥が最終製品の歩留まりに影響を及ぼす影響度を表面欠陥の危険率として算出する。 - 特許庁
