To specify a defect causing birefringence uneveness in an optical compesating film for a liquid crystal display, and to allow appropriate treatment for a defect generating source. 液晶表示装置用の光学補償フィルムの複屈折ムラを起こす欠陥を特定でき、欠陥の発生源に対して適切な処置が可能な、光学補償フィルムの欠陥検査方法及び装置を提供する。 - 特許庁
To provide an overlay mark for overlay inspection having a pattern capable of performing defect inspection with favorable accuracy not obtained in a prior art in a defect inspection apparatus in a manufacturing process of a semiconductor device. 半導体デバイスの製造過程の欠陥検査装置において従来にはない精度の良い欠陥検査を実現することできるパターンを有するオーバーレイ検査用のオーバーレイマークを提供する。 - 特許庁
A virtual movement distance is specified based upon the detected pixel defect position and a 1st pixel defect correction table is generated based upon the 1st image and the specified virtual movement distance. そして、上記検出された画素欠陥位置に基づき仮想の移動距離を特定し、上記第1の画像と上記特定された仮想の移動距離に基づき第1の画素欠陥補正テーブルを生成する。 - 特許庁
To provide a method for making a worker possible to recognize a place of defect part easily by marking automatically on the defect area of a continuously extruded article having a special shape. 本発明は、連続押出しによる異形製品の検知された欠陥部分の領域に自動的に目印をつける事により、作業者をしてその該当欠陥部分の位置を容易に確認せしめる方法。 - 特許庁
To provide a defect inspection device capable of suitably and rapidly detecting a defect even when the manufacturing process is varied or the periodicity of images of an area to be inspected on a sample is low. 製造プロセスが変動しても、また、試料から検査対象領域を撮像した撮像画像に周期性が少なくても、良好かつ迅速に欠陥検出できる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
To provide a mounting structure for an electronic component with a bump by which the generation of an open defect in a heat cycle test or the like is prevented, and by which a migration defect between electrode pads can be prevented effectively. 本発明は、温度サイクル試験等におけるオープン不良の発生を防止し、電極パッド間のマイグレーション不良を有効に防止できるバンプ付電子部品の実装構造を提供することにある。 - 特許庁
To obtain a surface inspection apparatus by which a defect is detected with high accuracy by detecting a patternlike scab defect having no remarkable uneven property such as a crack, a twist or a burr on a surface as a face to be inspected surely. 被検査面における表面の割れや捩れやめくれ上がりのような顕著な凹凸性を持たない模様状ヘゲ欠陥を確実に検出して高精度に欠陥を検出する。 - 特許庁
To provide a method for determining machining defects of a cast product, which method can effectively utilize a defect data showing the position of the defect obtained by a casting simulation, etc. in the case of manufacturing an actual cast product. 鋳造シミュレーションなどにより得られた欠陥位置を示す欠陥データを実際の鋳造品の製造に対して有効利用できる鋳造品の加工不良判定方法の提供。 - 特許庁
To provide an active matrix type liquid crystal display device which is capable of compensating the defect of a display picture caused by the defect of an pixel and capable of being made to be high density and capable of being miniaturized and also whose manufacturing cost can be suppressed. 画素の欠陥に起因する表示画像の欠陥を補償し、高密度小型化が可能であるとともに、製造コストを抑制できるアクティブマトリクス型液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
In particular, to provide a formed part, in which a surface defect part is perfectly hidden by pile decoration even if a surface defect of blow hole, etc., is generated, and having excellent external appearance quality. とくに、巣穴などの表面欠陥が発生していたとしても、パイル加飾により表面欠陥の箇所が完全に隠蔽され、大変優れた外観品質を有する成形品を提供する。 - 特許庁
To provide an imaging device that can solve problems attended with production of many defect pixels in pixel defect compensation, so as to extend the limit of a photographing condition such as long time photographing, while minimizing a degree of image quality deterioration. 画素欠陥補償における欠陥画素の大量発生に伴う問題点を解決し、画質劣化の程度を最低限に抑えつつ長時間撮影などの撮影条件の限界を延ばす。 - 特許庁
If resetting is done during defect information update, the processing is immediately ended without reading the medium information recorded on the control track and the defect information recorded in the DMA. また、欠陥情報更新中にリセットがかけられた場合は、コントロールトラックに記録された媒体情報及びDMAに記録された欠陥情報の読み出しを行わないで、直ちに処理を終了する。 - 特許庁
The nitride semiconductor layer 5 has low-defect parts including the lateral growth region and high-defect regions including through transpositions D_1 and D_2 which are generated on the top of the openings 4B and in assembled parts M. 窒化物半導体層5には、横方向成長領域を含む低欠陥部分と、開口部4Bの上部と会合部Mに発生する貫通転位D_1 ,D_2 を含んだ高欠陥領域とが存在する。 - 特許庁
To provide a nonvolatile semiconductor memory having configuration enabling a leakage defect of a memory cell to be detected regardless of a data value of the memory cell, and to provide a method for detecting the leakage defect of the nonvolatile semiconductor memory. メモリセルのデータ値の如何にかかわらずメモリセルのリーク不良を検出することができるような構成の不揮発性半導体メモリ及びそのリーク不良検出方法を提供する。 - 特許庁
Moreover, a status information recording area 15 is provided on the recording medium 10, and status information for indicating the temporary defect management area in which there is the defect management information recorded at last is recorded there. さらに、記録媒体10上にステータス情報記録エリア15を設け、そこに、最後に記録したディフェクト管理情報が存在する一時的ディフェクト管理エリアを示すステータス情報を記録する。 - 特許庁
To provide a method of ultrasonically testing a welding joint capable of detecting a defect existing in the joint with high reliability by efficiently judging and deciding a defect echo and a shape echo from a welding margin. 欠陥エコーと溶接余盛からの形状エコーとを効率的に識別判定して溶接継手に存在する欠陥を信頼度高く検出できる超音波探傷方法を提供すること。 - 特許庁
The defect is preferably detected by employing one or more of an image processing method, a leakage flux method, and an operational abnormality and defect detecting method as a detection means. 前記欠陥検出手段としては、画像処理法、漏洩磁束法及び連続鋳造中の操業異常欠陥検知法の1以上の手段により欠陥を検出することが好ましい。 - 特許庁
To provide a method for purifying a resin, inhibiting a defect on using the resin for a semiconductor lithography, obtained by using the resin obtained by using conventional purifying methods, especially the occurrence of a bridge mode defect. 当該精製方法を用いて得られる樹脂を用いて精製された半導体リソグラフィー用樹脂を用いた際のディフェクト、特にブリッジモードディフェクトの発生を抑制できる精製方法を提供する。 - 特許庁
To provide an image processing apparatus, method, and program for accurately correcting a deviation between the effect of a defect on visible data and the effect of a defect on invisible data and reducing a computation processing amount for the correction. 可視データが欠陥により受ける影響と非可視データが欠陥により受ける影響とのずれを正確に補正するするとともに、当該補正のための演算処理量を軽減する。 - 特許庁
To provide a solder ball check and repair device that efficiently and surely repairs a defect at low cost when detecting the defect through a check after supplying a solder ball onto a substrate surface. ハンダボールを基板面上に供給した後に検査によって欠陥を検出した場合に、欠陥の修復を低コストで効率よく確実に行うことが可能となるハンダボール検査リペア装置を提供する。 - 特許庁
To provide a deterioration diagnostic method of a lined piping capable of accurately detecting the defect of a lining layer and also capable of easily detecting the location of the defect from outside without taking the piping out. ライニング層の欠陥を精度良く検出することができると共に、抜管することなく外部から欠陥の位置を容易に検出することができるライニング処理配管の劣化診断方法を提供する。 - 特許庁
To always hold the correct operating state of a wastewater pump apparatus by detecting at least one of a defect in a wastewater pump, a defect of a motor, and the inspection time of the apparatus. 排水ポンプ内の異常と電動機の異常及び点検時期の少なくとも一つを把握できるようにしたことにより、排水ポンプ装置を常に正しい運転状態に保持することを目的とする。 - 特許庁
To provide a defect inspection method, a schedule control method and a defect inspection device for periodically performing schedule control with high accuracy by plotting data of the number of defects in various kinds of electronic devices on the same chart. 欠陥検査方法、工程管理方法及び欠陥検査装置に関し、複数品種の電子デバイスの欠陥数データを同一のチャートにプロットして、工程管理を定期的に精度良く行う。 - 特許庁
To provide a stylus for color filter defect correction and a color filter defect correcting device which are improved in cleaning property by stabilizing the sticking amount of ink and cleaning liquid so that a specified amount is not exceeded. インキや洗浄液の付着量が所定量を超えないように安定化させ、洗浄性を向上させたカラーフィルタ欠陥修正用針とカラーフィルタ欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁
To provide a system for detecting, particularly, a wiring defect, a partial discharge of a cable, or an arc discharge, and its method for a system and a method, for detecting the wiring defect generally. 本発明は、一般に、配線の欠陥を検出するシステム及び方法に関し、より詳細には、配線又はケーブルの部分放電又はアーク放電を検出するシステム及び方法に関する。 - 特許庁
The stylus for color filter defect correction is a stylus for color filter defect correction for applying ink to a defective place of a color filter and has a part, made water-repellent, nearby its tip. カラーフィルタの欠陥箇所にインクを塗布するためのカラーフィルタ欠陥修正用針であって、針先端の近くに撥水加工を施した部分が形成されているようにしたカラーフィルタ欠陥修正用針。 - 特許庁
To provide a mold release film preventing a foreign matter and a defect from getting difficult to be observed, when conducting visual inspection by a crossed Nicols method for defect inspection of a polarizing plate, and attaining high inspection precision. 偏光板の欠陥検査である、クロスニコル法による目視検査を行った際に、異物や欠陥が見づらくなることがなく、高度な検査精度を実現することのできる離型フィルムを提供する。 - 特許庁
To provide a device and a method for inspecting a surface, capable of inspecting a defect on the surface of a substrate under the most suitable condition for a device to extract the defect by picture processing. 画像処理により欠陥を抽出する装置にとって最適な装置条件の下で、基板の表面の欠陥検査を行える表面検査装置、および表面検査方法を提供する。 - 特許庁
The three-dimensional position of the defect in the stay vane and the size of the defect are calculated based on respective abutting positions in the stay vane of the ultrasonic probe, received echo information, and the measured three-dimensional shape. そして、超音波探触子のステーベンにおける各当接位置、エコー受信情報、及び測定した三次元形状に基づいてステーベンにおける欠陥の3次元位置と欠陥規模とを算出する。 - 特許庁
To provide a method and a device for penetrant inspection that make a flaw detecting liquid penetrate into a fine defect in the surface layer of a specimen to detect a surface defect easily, in penetrant inspection. 浸透探傷検査において、被検査物の微細な表層欠陥中にも探傷液を浸透させ、表層欠陥の検出を容易にする浸透探傷検査方法及び装置を提供する。 - 特許庁
Resolution of the imaging means 4 is made to be the size of the defect or less, and the micro-defect having the condensing action is detected precisely by narrowing the width of light emitted to the transparent plate 3. 撮像手段4の分解能は、欠点のサイズ以下とし、透明板状体3に照射される光の幅を狭くすることにより、集光作用を有する微小欠点を精度良く検出する。 - 特許庁
To detect and inspect a micro circuit pattern with high sensitivity in defect inspection of a pattern to be inspected for inspecting a defect/foreign matter on the pattern to be inspected such as a semiconductor wafer, a liquid crystal display, a photomask or the like. 半導体ウェーハや液晶ディスプレイ、ホトマスクなどの被検査パターンにおける欠陥・異物を検査する被検査パターンの欠陥検査において、微細な回路パターンを高い感度で検出し、検査する。 - 特許庁
To provide an integrated circuit for driving a display device, which is provided with a definite means for easily detecting a defect of an output circuit and has a self-repairable function when there is such a defect in the output circuit. 容易に出力回路の欠陥を検出する具体的な手段を備え、出力回路に欠陥があった場合に自己修復できる、表示装置駆動用の集積回路を提供する。 - 特許庁
By the normal/defective deciding circuit 19, the defect is detected from an output of the comparators 18, then the normal/defective of the magnetic disk medium 20 is decided from the number of pieces of defect for every magnetic disk medium 20. 良否判定回路19は,比較器18の出力からDefectを検出し,磁気ディスク媒体20ごとのDefect個数から,磁気ディスク媒体20の良/不良を判定する。 - 特許庁
To provide a method for producing a copolymer which is a material for forming an upper layer film for immersion exposure less liable to develop a water mark defect and a dissolution residue defect. ウォーターマーク欠陥、及び、溶け残り欠陥が発生し難い液浸露光用の上層膜を形成するための材料である共重合体を得る共重合体の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a mold release film preventing a foreign matter and a defect from getting difficult to be observed, when conducting visual inspection by a crossed Nichols method for defect inspection of a polarizing plate, and attaining high inspection precision. 偏光板の欠陥検査である、クロスニコル法による目視検査を行った際に、異物や欠陥が見づらくならず、高度な検査精度を実現することのできる離型フィルムを提供する。 - 特許庁
To provide an eddy current flaw detector which permits automatic flaw detection for the presence of a defect over the entire circumference of a plate material even when the size of the plate material varies in diversity and also achieve accurate positional measurement of the defect. 板材の大きさが多様に変化する場合であっても、板材の全周に渡って欠陥の有無を容易に自動探傷することが可能な渦流探傷装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a continuous line for correcting a defect in a color filter with which a defect generated in a color filter substrate is efficiently corrected and generation of defective products is suppressed. カラーフィルタ基板に生じてしまった欠陥を効率よく修正することができ、また、不良品の発生を極力低く抑えることができるカラーフィルタ欠陥修正一貫ラインを提供する。 - 特許庁
To provide a technology which discriminates a defect on an optical disk from disturbance applied to an optical disk device, detects only defects, and stably controls the position of a light spot when the optical spot passes through the defect. 光ディスク上の欠陥と、光ディスク装置に加えられた外乱とを区別し欠陥のみを検出し、光スポットが欠陥通過時に安定な光スポットの位置制御が可能となる技術を提供する。 - 特許庁
A short circuit defect of a semiconductor film ASI constituting the thin-film transistors of adjacent pixels is irradiated with laser light L from the opposite side of a substrate SUB, i.e. from above an insulating film PAS to separate the short circuit defect. 隣接する画素の薄膜トランジスタを構成する半導体膜ASIの短絡欠陥を分離するために、基板SUBと反対側すなわち絶縁膜PASの上方からレーザ光Lを照射する。 - 特許庁
Since at least one of the defect in the pump apparatus, the defect of the motor, and the inspection time of the apparatus can be detected, the wastewater pump apparatus can always be maintained in a correct operating state. これにより、ポンプ装置内の異常と電動機の異常及び点検時期の少なくとも一つが把握することができるので、排水ポンプ装置を常に正しい運転状態に保持することができる。 - 特許庁
To provide a method, an apparatus and a program for evaluating a color display panel, which can detect a defect of the color display panel at a high S/N ratio and also detect the aspect of the defect. カラー表示パネルの欠陥を高S/Nで検出するとともに欠陥の態様を検出することを可能にしたカラー表示パネルの評価方法及びその装置並びにプログラムを提供する。 - 特許庁
A read condition based on the factor of a read error is set at the time of read retry, and a read condition suitable for the decoding of a readout signal containing an envelope defect is set at the time of the detection of the envelope defect. リードリトライ時にリードエラー要因に応じた再生条件を設定し、包絡線異常検出時に包絡線異常を有する再生信号を復号するのに適した再生条件を設定する。 - 特許庁
On the basis of a traveling distance from a defect detection position to a working position of a long belt-like sheet and a length L of a product in a conveyance direction, which product and what position of a detected defect therein are predicted. 欠陥の検出位置から長尺帯状シートの加工位置までの走行距離と、搬送方向の製品の長さLに基づき、検出された欠陥がどの製品のどこに位置するかを予想する。 - 特許庁
In the IGBT 10, a crystal defect layer 25 is formed in an n-type layer 102 in an active region 20 and a crystal defect layer 25 is formed in a p-type substrate 101 in a non-active region 40. このIGBT10においては、結晶欠陥層25が、活性領域20においてはn層102中に、非活性領域40においてはp型基板101中に形成されている。 - 特許庁
At defect detection through the use of a defect review SEM, an XY coordinate system is set in the overall surface (except curved faces) of a product wafer 20 to generally inspect the surface of the product wafer 20. 欠陥レビューSEMを用いた欠陥検出に際し、製品ウェーハ20の全面(R端面を除く。)にXY座標系を設定し、製品ウェーハ20表面を全体的に検査できるようにする。 - 特許庁
To provide a painting defect inspection method capable of detecting accurately existence of a painting defect, even when irregularities are formed on a substrate surface, when applying painting onto the substrate. 基材に塗装を施す場合、この基材の表面に凹凸が形成されている場合であっても塗装不良の有無を正確に検知することができる塗装不良検査方法を提供する。 - 特許庁
To provide a working apparatus and a working method by which highly accurate working can be efficiently performed, to provide a defect correcting device and a defect correcting method and to provide a method for manufacturing a pattern substrate using the same. 精度の高い加工を効率よく行なうことができる加工装置、加工方法、欠陥修正装置、及び欠陥修正方法それを用いたパターン基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of an electrooptical device capable of suppressing an appearance defect generated when an insulating film is formed using a liquid phase process and suppressing a display defect caused thereby. 液相法を用いて絶縁膜を形成する際に発生する外観不良を抑制し、これに起因する表示不良の発生を抑制することができる電気光学装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
By driving the test transistors 145 without mounting the source driver IC14, an image can be displayed on a display screen 22, and defects such as a point defect, a line defect and color slippage can be easily detected. テストトランジスタ145を動作させることにより、ソースドライバIC14を実装せずとも、表示画面22に画像を表示でき、点欠陥、線欠陥、色ずれなどを容易に検出することができる。 - 特許庁