「Defect」を含む例文一覧(18306)

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  • To detect a range in which defect is detected when minute defect is included in a flexible piezoelectric part making contact with electrode means for inspection.
    同軸状可撓性圧電体に欠陥が含まれる場合、分極前に欠陥の位置を特定できない。 - 特許庁
  • COMMUNICATION DEFECT TREATMENT SUPPORT SYSTEM AND METHOD THEREFOR
    コミュニケーション障害治療支援システム及びその方法 - 特許庁
  • POINT DEFECT CORRECTION DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF LIQUID CRYSTAL DEVICE
    点欠陥修正装置、液晶装置の製造方法 - 特許庁
  • DEFECT AREA PROCESSING METHOD USING LINKING-TYPE INFORMATION
    リンキングタイプ情報を用いた欠陥領域処理方法 - 特許庁
  • To provide a memory defect treatment device and its method detecting a defect position with respect to a card type memory, and capable of using the memory card irrespective of a defect.
    本発明は、カード型メモリーに対する欠陥位置を検出し、欠陥にかかわらずメモリーカードが使用できるメモリー欠陥処理装置及びその方法に関する。 - 特許庁
  • To provide a method of determining a defect size of an evaluation pattern for evaluating defect detection sensitivity capable of accurately determining the defect size of the evaluation pattern formed on an evaluation mask used to evaluate the defect detection sensitivity of mask defect inspection systems, and a method of creating a sensitivity mask.
    マスク欠陥検査装置の欠陥検出感度を評価するために用いられる評価用マスクに作り込まれた評価用パターンの欠陥サイズを精度良く算出することが可能な欠陥検出感度評価用パターンの欠陥サイズ算出方法及び感度マスクの作成方法を提供する。 - 特許庁
  • Lastly, a high PES value is used and the third defect pattern in which there is no defect sign is indicated.
    最後に，高いＰＥＳ値が使われていかなる欠陥のサインも存在しない第３欠陥類型を示す。 - 特許庁
  • In the defect correction method, a rib-chipping defect 36 is rectified before applying a correction paste 10 on the rib-chipping defect 36, and the inclination in width direction of the bottom part of the rib-chipping defect 36 is lessened so that the correction paste 10 applied on the rib-chipping defect 36 may not hang down to the side.
    この欠陥修正方法では、リブ欠け欠陥３６に修正ペースト１０を塗布する前にリブ欠け欠陥３６を整形し、リブ欠け欠陥３６に塗布した修正ペースト１０がリブ３４の横に垂れないように、リブ欠け欠陥３６の底部の幅方向の傾きを緩和させる。 - 特許庁
  • LASER DEFECT CORRECTING DEVICE AND METHOD
    レーザ欠陥修正装置およびレーザ欠陥修正方法 - 特許庁
  • METHOD AND DEVICE FOR AUTOMATICALLY CORRECTING COLOR DEFECT
    色調不良を自動的に補正する方法および装置 - 特許庁
  • One is to defect, and the other it to start a war.
    一つは亡命 もう一つは戦争を始める事だ - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
  • Successively, region information read out from a database in which a plurality of defect correction methods and region information in which appearance of defect is assumed for each kind of the defect are registered is applied to the difference image and the defect is detected, and the defect correction method is read out from the database based on the detected defect.
    次に、この差分画像に、複数の欠陥修正手法および欠陥の種類ごとに当該欠陥が出現されることが想定される領域情報が登録されたデータベースから読み出した領域情報を適用して欠陥を検出し、検出した欠陥に基づいて前記データベースから欠陥修正手法を読み出す。 - 特許庁
  • The kind of a defect is detected, and signal processing is performed according to this defect, by providing an information processor with an envelope detection part 11 for detecting an envelope of a reproduction RF signal, and a defect detection device 1 comprising a three-block configuration for classifying the defects into a micro defect, a degenerated defect, and a difference defect.
    再生ＲＦ信号のエンベロープを検出するエンベロープ検出部１１と、ディフェクトをマイクロディフェクト、縮退ディフェクト、及び差分ディフェクトの３種類に分類するための３つのブロック構成とを備えたディフェクト検出装置１を情報処理装置に設けることにより、ディフェクトの種類を検出し、このディフェクトに応じた信号処理を実行する。 - 特許庁
  • To provide a defect inspection device for a PDP substrate and a defect inspection method capable of obtaining a precise defect location even if the defect inspection is carried out with the substrate in a state of thermal expansion, and capable of improving production efficiency.
    基板が熱膨張した状態で欠陥検査を行っても正確な欠陥位置を得ることができ、生産効率を向上させることができるＰＤＰ用基板の欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁
  • The signal processing section 34 identifies a position of a defect caused at an exposure start position of the received image data by using a defect correction pulse 186a and applies defect correction processing to the pixel data at this position to output a normal image without a defect.
    信号処理部34では、供給される画像データの露出開始位置に生じる傷の位置を欠陥補正パルス186aで特定してこの位置の画素データに欠陥補正処理を施して欠陥のない正常な画像を出力する。 - 特許庁
  • In respective steps of a compiling procedure, a step for checking whether a defect is regenerated or not is prepared, and when the defect is regenerated, processing is returned to a step causing the generation of the defect and the processing is retried by a processing step including no defect.
    コンパイル手順の各ステップにおいて、不良が再現したかどうかを調べるステップを設け、不良が再現した場合、不良発生原因となったステップに戻り、不良を含まない処理ステップにて処理をやり直す。 - 特許庁
  • A defect factor pair decision part 53 performs Delaunay triangulation with the representative points of the respective defect factors used as generatrices to find defect factor pairs comprising defect factors of both end points of respective sides forming a plurality of triangles.
    欠陥要素ペア決定部５３では各欠陥要素の代表点を母点としてドローネ三角形分割を行い、複数の三角形を構成する各辺の両端点の欠陥要素により構成される欠陥要素ペアが求められる。 - 特許庁
  • To provide a defect observation device which inputs a training defect and ideal output that is based on image processing of the training defect, and which can readily and rapidly set image processing parameters required for the classification of the defect type.
    教示欠陥および教示欠陥の画像処理による理想出力を入力し、欠陥種の分類に必要な画像処理パラメタの設定作業を容易かつ高速に行うことができる欠陥観察装置を提供する。 - 特許庁
  • To enhance efficiency for reviewing a defect to review the large number of defects in a short time, in the defect review for a semiconductor device capable of detecting the defect in a low magnification of SEM (Scanning Electron Microscope) image and capable of observing the defect in a high magnification of SEM image.
    低倍率のＳＥＭ像で欠陥を検出し、高倍率のＳＥＭ画像で欠陥を観察する半導体デバイスの欠陥レビューにおいて、欠陥レビューの効率をあげて短時間に多数に欠陥をレビューできるようにする。 - 特許庁
  • The epitaxial wafer 110 includes a high defect region 111 and a low defect region 112 having lower defect density than the high defect region 111, and has a main surface 113 and a backside 114 on the opposite side from the main surface 113.
    エピウエハ１１０は、高欠陥領域１１１と、高欠陥領域１１１よりも欠陥密度の低い低欠陥領域１１２とを含み、主表面１１３と、主表面１１３と反対側の裏面１１４とを有する。 - 特許庁
  • A current flows in the defect portions if a reverse bias voltage is applied to the light emitting elements having the defect portions, and emission of light which occurs from the current is measured by using an emission microscope, specifying the position of the defect portions, and short-circuited portions can be repaired by applying a laser to the defect portions.
    この電流から生じる発光をエミッション顕微鏡により測定して欠陥部を特定し、欠陥部にレーザーを照射することによりショート箇所を修理するという発光装置の作製方法である。 - 特許庁
  • To provide a defect probing method in which a skilled technician is not required as different from a conventional hammering method even when a defect is judged by a strike as the defect probing method, whose judgment accuracy can be enhanced and in which the defect can be probed in a short time and nondestructively.
    欠陥探査方法として打撃による判定でありながら、従来の打音法のような熟練技能者を必要なく、且つ判定精度を向上することができ、短時間で、非破壊の探査を可能とする。 - 特許庁
  • To provide a defect detecting method for detecting a defect such as cracking and a crack while having high detecting capability of not becoming unclear in a boundary line of the defect such as the crack without rounding a corner part of the defect such as the crack.
    亀裂等の欠陥の角部が丸められることなく亀裂等の欠陥の境目が不明瞭とならない高い検出能力を有する、割れや亀裂等のような欠陥を検出するための欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method and device for correcting an error in a defect coordinate output from an inspection device to make it easy to select a visual field size for defect search of a defect review device and a defect for fine alignment.
    検査装置から出力された欠陥座標の誤差を補正し、欠陥レビュー装置における欠陥探索用の視野サイズ及びファインアライメント用の欠陥を容易に選定することができる方法及び装置を提供する。 - 特許庁
  • First, a review is carried out by an electron microscope unit 2, and only when a first determining section 3 recognizes that a defect exists in a recognized defect part, is related defect information output to a defect information classifying section 6.
    先ず電子顕微鏡ユニット２によるレビュー結果に基づき、第１の判定部３により認定欠陥部位に欠陥が有ると認められる場合のみ、その旨の欠陥情報が欠陥情報分類部６に出力される。 - 特許庁
  • A defect kind decision unit 47 compares the defect addresses stored in the defect address storage unit 46 to decide whether the length of the longitudinal line flaw depends upon the exposure time, and records the decision result in a defect information recording unit 48.
    欠陥種別判定部４７は、欠陥アドレス格納部４６に格納された欠陥アドレスを比較して、縦線キズの長さが露光時間に依存するか否かを判定し、判定結果を欠陥情報記録部４８に記録する。 - 特許庁
  • To provide an apparatus and a method for inspecting defect capable of judging the defect detected in duplication when a defect detecting processing is performed by a plurality of defect detecting means for an object to be inspected.
    検査対象物について、複数の欠陥検出手段によって欠陥検出処理を行った場合に、重複して検出された欠陥を判定することができる欠陥検査装置及び欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
  • A defect-correcting apparatus accumulates in a database many defect correction methods, including those implemented in the past and detects defects, by checking a defect image with captured locations being tested on a wiring board against a defect-free reference image.
    過去に実施された欠陥修正手法を含む複数の欠陥修正手法をデータベースに蓄積し、配線基板の検査対象箇所を撮影した欠陥画像と、欠陥のない参照画像とを照合して欠陥を検出する。 - 特許庁
  • To discriminate between a detected true defect and a pseudo defect, in image defect inspection for detecting the difference of a pixel value between each corresponding pixel in two images, and detecting a pixel part as a defect when the difference exceeds a detection threshold.
    ２画像の対応する各画素同士の画素値の差分を検出して、この差分が検出閾値を超えるとき画素部分を欠陥として検出する画像欠陥検査において、検出された真欠陥と疑似欠陥とを区別する。 - 特許庁
  • To provide a defect marking system to a thin steel sheet capable of removing a defect mark imparted by the error operation of a defect detector without stopping a line and obtaining a product at a state an effective defect only is marked.
    ラインを停止すること無く、欠陥検出器の誤作動によって付された欠陥マークを除去し、有効な欠陥マークのみを付した状態で成品を得ることができる薄鋼板への欠陥マーキングシステムを提供する。 - 特許庁
  • To provide a display and a defect detecting method in which a pixel defect generated in a pixel is easily detected.
    画素内に発生する画素欠陥を容易に検出可能な表示装置、および欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁
  • DEVICE AND METHOD OF DETECTING LASER WELDING DEFECT
    レーザ溶接欠陥検出装置及び欠陥検出方法 - 特許庁
  • METHOD AND DEVICE FOR INSPECTING DEFECT OF GRAY TONE MASK AND THOSE FOR INSPECTING DEFECT OF PHOTO MASK
    グレートーンマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置、並びにフォトマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置 - 特許庁
  • To realize a defect inspection device by which a vertical or horizontal defect of fine line width such as a CD error can be detected.
    ＣＤエラーのような微細線幅の縦長又は横長の欠陥を検出できる欠陥検査装置を実現する。 - 特許庁
  • Additionally a defect transfer property onto the exposure substrate of defect seed generated at a pattern connection section or the like can be reduced.
    さらに、パターンつなぎ部などに生じた欠陥種の露光基板上への欠陥転写性を低減することができる。 - 特許庁
  • To prevent a crystal defect failure due to dislocation.
    転位による結晶欠陥不良を防止できるようにする。 - 特許庁
  • APPARATUS FOR DETECTING SURFACE DEFECT OF METAL STRIP DURING RUNNING
    走行中の金属ストリップの表面欠陥検出装置 - 特許庁
  • A photographed image with high image quality is obtained, by reading the defect information at photographing and interpolating of the defect.
    この欠陥情報を撮影時において読み出し、欠陥を補間することによって、高画質の撮影画像が得られる。 - 特許庁
  • Further, the defect generating factor is specified based on this and the decision results of the defect condition by measurement of the partial discharge waveform.
    さらに、部分放電波形の測定による欠陥状態の判別結果と合わせて、欠陥発生要因を特定する。 - 特許庁
  • DEFECT DETECTOR, DEFECT DETECTING METHOD, OUTLINE EXTRACTING METHOD, OUTLINE SMOOTHING METHOD, REGION COMBINING METHOD, AND PROGRAM
    欠陥検出装置、欠陥検出方法、輪郭抽出方法、輪郭平滑化方法、領域結合方法およびプログラム - 特許庁
  • MASK DEFECT INSPECTION METHOD AND MASK DESIGN DATA FORMING METHOD
    マスク欠陥検査方法及びマスク設計データ作成方法 - 特許庁
  • IMAGE DEFECT DETECTING DEVICE AND METHOD, AND STORAGE MEDIUM STORING PROCEDURE FOR IMAGE DEFECT DETECTING METHOD
    画像欠陥検出装置、画像欠陥検出方法、及び画像欠陥検出方法の手順を記憶した記憶媒体 - 特許庁
  • To efficiently suppress a false defect and to carry out reticle inspection where a defect is detected with high detection sensitivity.
    本発明は、効率良く擬似欠陥を抑制し、高い検出感度で欠陥検出可能なレチクル検査を実現する。 - 特許庁
  • DEFECT INSPECTING METHOD AND APPARATUS BY IMAGE PROCESSING
    画像処理による欠陥検査方法および欠陥検査装置 - 特許庁
  • To prevent tearing by biting and defect of gripping at a tenter clip from occurring.
    テンタークリップでの噛みちぎりと把持不良とを防止する。 - 特許庁
  • METHOD AND DEVICE FOR OBSERVING DEFECT BY USING MICROSCOPE
    顕微鏡を用いた欠陥観察方法および観察装置 - 特許庁
  • SYSTEM AND METHOD FOR DETECTING AND DISPLAYING DEFECT
    欠陥検出表示システムおよび欠陥検出表示方法 - 特許庁
  • To precisely remove the effect of a defect resulting from defective pixels.
    傷画素から傷による影響を精度よく除去できる。 - 特許庁
  • METHOD AND PROGRAM FOR DETECTING DEFECT AND INSPECTION APPARATUS
    欠陥検出方法、欠陥検出プログラムおよび検査装置 - 特許庁
  • ILLUMINATING DEVICE AND DEFECT INSPECTION DEVICE USING SAME
    照明装置およびこの装置を用いた欠陥検査装置 - 特許庁
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