「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 58 59 60 61 62 63 64 65 66 .... 366 367 次へ＞- To provide a defect detector suitable for detecting a defect, such as a void on the bonded interface of transparent substrates composed of a compound semiconductor, which are bonded directly, and a defect detection system capable of surely removing the defect portion in a chip appearance inspection after chip process completion and a defect detection method.
直接接合により貼り合わされた化合物半導体からなる透明基板の貼り合わせ界面のボイド等の欠陥を検出するのに好適な欠陥検出装置、更にチッププロセス終了後のチップ外観検査において該不良部を確実に取り除くことができる欠陥検出システムおよび欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁 - A defect cycle estimator in single object 32 and a defect cycle estimator in a plurality of objects 34 estimate periodicity of a defect in the object of inspection with statistical hypothesis to defect information based on defect information on features of the individual defects, picture information on the object of inspection and information on the object of inspection.
単一対象内欠陥周期推定部３２および複数対象内欠陥周期推定部３４は、個々の欠陥の特徴に関する欠陥情報、被検査対象の画像情報、および被検査対象に関する情報に基づいて、被検査対象における欠陥の周期性を、欠陥情報に対する統計的仮説検定により推定する。 - 特許庁 - To provide a defect inspection device and a defect inspection method using the device capable of reducing a maintenance work, transferring accurately defect information detected in upper processes to lower processes, and recognizing surely the defect in the lower process even when a defect detector installed in the lower process is simplified.
保守作業を少なくすることができ、かつ正確に上工程で検出した欠陥情報を下工程に伝達することができ、たとえ下工程に設置する欠陥検出器を簡単なものとした場合であっても下工程で欠陥を確実に認識することができる欠陥検査装置およびそれ用いた欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an information recording and reproducing device and a processing method for defect management system format for a disk which realize shortening of a defect control format processing time when defect management format processing request is performed for a disk for which defect management format processing is not performed and a disk for which defect management format processing is already performed.
欠陥管理フォーマット処理が実施されていないディスクおよび既に欠陥管理フォーマット処理が実施されているディスクに対して、欠陥管理フォーマット処理要求があった場合に、欠陥管理フォーマット処理の時間を短縮する情報記録再生装置およびディスクに対する欠陥管理システムフォーマット処理方法を提供する。 - 特許庁 - The defect correction method consists of template information 73, representing the characteristics of the defect and object information 74 representing actual correction method and defect location, and information on the detected defect, matching with the specified conditions of the template information 73 and the object information 74, is output as the defect correction method.
上記欠陥修正手法は欠陥の特徴を示すテンプレート情報７３と、実際の修正方法及び欠陥の位置を示すオブジェクト情報７４から構成されており、検出された欠陥の情報がテンプレート情報７３及びオブジェクト情報７４の特定の条件に一致しているものを欠陥修正手法として出力する。 - 特許庁 - This makes it possible to adjust the criteria of the defect inspection performed by the defect inspection device 14, 24 in accordance with the criteria of defect inspection to be performed by the inspection device 30 later, so that the defect inspection can be more preferably performed and the yield of the optical films can be improved.
これにより、後に検査装置３０により行われる欠点検査の基準に合わせて、欠点検査装置１４，２４により行われる欠点検査の基準を調整することができるので、欠点検査をより好適に行うことができ、光学フィルムの歩留りを向上することができる。 - 特許庁 - To provide a method of correcting a defect of a color filter, in which a white defect part in a colored layer of the color filter is corrected by selectively making a correction fluid stay in the white defect part so that a color blend or a projection is not generated newly, and to provide an apparatus for correcting the defect of the color filter.
カラーフィルタの着色層における白欠陥を修正する方法において、修正液を白欠陥部に選択的に残すことができ、従って新たな混色や突起を発生させることの無い修正方法および修正装置を提供すること。 - 特許庁 - A detection rate is calculated in every of the defects based on whether the same defect is detected in a plurality of differential images or not, based on a result in a process for detecting the defect on a surface of the silicon wafer, and the shape of the defect is identified in the every defect on the surface of the silicon wafer, according to the detection rate.
シリコンウエハ表面上の欠陥を検出する工程の結果から、同一の欠陥が複数の差分画像から検出されたかにより欠陥毎に検出率を算出し、前記検出率に従って前記シリコンウエハ表面上の欠陥毎に該欠陥の形状を識別する。 - 特許庁 - The retrieval is performed under the condition of two agreements, namely, the agreement between both position data of the position data of the defect data and the position data of the pseudo-defects in the pseudo-defect information, and agreement between both intensity data of the intensity data of the defect data and the intensity data of the pseudo-defects in the pseudo-defect information.
検索では、欠陥データの位置データと疑欠陥情報の疑欠陥の位置データの両位置データの合致、および、欠陥データの強度データと疑欠陥情報の疑欠陥の強度データの両強度データの合致の２つの合致を条件として行う。 - 特許庁 - For etching a glass of Levenson mask, etching Cr in a black defect of a binary mask or etching MoSi in a black defect of a phase shift mask, only the defect region 7 is selectively scanned with the tilted electron beam 4 while blowing xenon fluoride from a gas gun 8 to correct the defect.
レベンソンマスクのガラスのエッチングや、バイナリマスクの黒欠陥のＣｒのエッチングや、位相シフトマスクの黒欠陥のＭｏＳｉのエッチングには、フッ化キセノンをガス銃８から流しながら前記の傾斜させた電子ビーム４で欠陥領域７のみ選択的に走査して欠陥の修正を行う。 - 特許庁 - When a region for storing the pixel defect information is full or when the pixel defect information cannot be stored entirely, the pixel defect information is ranked and stored sequentially starting from one having the highest defect level or a latest detection time.
また、画素欠陥情報を記憶する記憶領域が満杯、或いは追記しようとする画素欠陥情報のすべてを記憶しきれない場合には、欠陥レベルの大きいものから順位付けして或いは検出時期の新しいものから順位付けして上位のものから記憶させる。 - 特許庁 - The liquid crystal display thin film transistor panel having a plurality of pixels and including a defect pixel area with a bright spot defect present in at least one of the plurality of the pixels by defect is provided with an opaque substance 6 in the defect pixel area on a thin film transistor panel.
複数の画素を有すると共に、不良により複数の画素の少なくとも１つにブライトスポット欠陥が存在する不良画素領域を含む液晶ディスプレイ薄膜トランジスタパネルを提供し、薄膜トランジスタパネル上の不良画素領域内に不透明物質６が設けられる。 - 特許庁 - To provide a defect marking device for a film and a defect marking method capable of reducing man-hours for visual inspection without lowering yield by improving greatly marking accuracy on a defect position in comparison with a conventional technology, and by marking on a fine defect itself.
従来技術に比べて欠陥位置へのマーキング精度を飛躍的に向上することで歩留りを下げることなく、かつ、微小欠陥そのものにマーキングすることで目視検査の工数を削減できるフィルム用欠陥マーキング装置及び欠陥マーキング方法を提供すること。 - 特許庁 - The correcting device corrects a pattern defect of the display in which an electronic circuit pattern having the pattern defect on a surface of a substrate is formed, and is equipped with a plasma irradiation means of irradiating an area of the pattern defect locally with plasma to correct the pattern defect.
基板の表面にパターン欠陥を有する電子回路パターンが形成された表示装置の前記パターン欠陥を修正する修正装置であって、 前記パターン欠陥の領域に局所的なプラズマの照射によって前記パターン欠陥を修正するプラズマ照射手段を備えてなる。 - 特許庁 - To provide a lighting method and imaging method for detecting a hologram defect that can be utilized for general purpose for detecting any kind of hologram defect and can detect the defect accurately and stably, and to provide a defect extraction method using this technique.
本発明は、任意の品種のホログラム欠陥検出に、汎用的に利用することができ、かつ欠陥を精度良く安定して検出することが可能なホログラム欠陥検出のための照明方法および撮像方法、および本手法を用いた欠陥抽出方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - A defect image processing device performs image matching by normalized cross correlation between the layout image 52 obtained from the design data and an image obtained by removing a defect region part from the defect image 53, and displays a layout image and defect image 54 as a matching result on a device.
欠陥画像処理装置は、設計データから得られるレイアウト画像５２と、欠陥画像５３から欠陥領域部分を除去した画像と、を正規化相互相関により画像マッチングし、そのマッチング結果として、レイアウト画像＆欠陥画像５４を表示装置に表示する。 - 特許庁 - A redundant signal switching part switches the first and the second pieces of defective position information supplied to the redundant switching part when a position of defect indicated by the second defect position is positioned between a position of defect indicated by the first defect position information and the first redundant memory cell.
冗長信号切替部は、第２不良位置情報が示す不良の位置が、第１不良位置情報が示す不良の位置と第１冗長メモリセルとの間に位置するときに、冗長切替部に供給される第１および第２不良位置情報を入れ替える。 - 特許庁 - A defect correcting circuit 64 corrects the pixel defect of the CCD 42 with respect to the image through the use of the normal defect information or highly-sensitive defect information, in response to the setting of the light reception sensitivity concerning the CCD 42 when the image is picked up by the CCD 42.
欠陥補正回路６４は、ＣＣＤ４２による画像の撮像時におけるＣＣＤ４２に対する受光感度の設定に応じて通常欠陥情報若しくは高感度欠陥情報を用い、ＣＣＤ４２の画素欠陥の補正を当該画像に対して施す。 - 特許庁 - To provide a defect inspection apparatus and a defect inspection method using it which accurately find the number of defects on inspected materials when quality of the inspected materials is determined based on defect information of the inspected materials respectively detected by a plurality of defect detectors and determine the quality of the inspected materials based on the number of the defects.
複数の欠陥検出器がそれぞれ検出した被検査材の欠陥情報に基づいて、被検査材の合否判定を行う際、被検査材の欠陥数を正確に求めることができる欠陥検査装置およびそれを用いた欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁 - A semiconductor memory test device is newly added with a CPU 2, which is dedicated to conduct a defect analysis, a second defect analysis memory 8, which has a same constitution of a first defect analysis memory 7, and switching multiplexers 5 and 6 which mutually switch the two CPUs 1 and 2 and the two defect analysis memories 7 and 8.
半導体メモリ試験装置に、不良解析専用のＣＰＵ２、第１不良解析メモリ７と同じ構成をもつ第２不良解析メモリ８、２個のＣＰＵ１、２および２個の不良解析メモリ７、８を相互に切換える切換用マルチプレクサ５、６を新たに追加する。 - 特許庁 - By this method, an error caused by a defect signal formed in a period of HS-HE is reducible to the utmost since a defect processing signal G for improving the detected defect signal is arranged so as to be generated for a period longer than that of the detection signal of the defect.
本発明では、検出されたディフェクト信号を改善するためのディフェクト処理信号Ｇを、ディフェクトの検出信号Ｄの期間より長い期間だけ生成するようにしたので、ＨＳ〜ＨＥの期間でなるディフェクト信号によるエラーを極力低減することができる。 - 特許庁 - When a defect is detected, a defect contour is extracted from the generated image data, the extracted defect contour is reflected in the pattern data of a semiconductor integrated circuit, and a first drop recipe is prepared based on the pattern data which has the defect contour reflected therein.
欠陥が検出されたとき、前記生成された画像データから欠陥輪郭を抽出して、前記抽出した欠陥輪郭を前記半導体集積回路のパターンデータに反映させ、前記欠陥輪郭が反映されたパターンデータに基づいて第１ドロップレシピを生成する。 - 特許庁 - The defect in the electric circuit of the device inside is determined when the defect is detected by electric inspection when the negative pressure of the decompression chamber 4 is sufficient, and the defect of the electric connection between the both electrodes is thereby determined discriminatedly from the defect in the electric circuit of the device inside.
減圧室４の負圧が足りているときに、電気的検査により不良が検出されたときは、デバイス内部の電気回路の不良であることがわかるので、両電極の間の電気的接続の不良であるか、デバイス内部の電気回路の不良であるかが判別できる。 - 特許庁 - A black spot defect position determination circuit 21 determining the position of a black spot defect on a self-luminous display panel 17 is arranged, and the black spot defect is determined by connecting a detection current source inside the black spot defect position determination circuit 21 to a pixel during a period other than a display period of a data signal.
自発光表示パネル１７の黒点欠陥画素の位置を判別する黒点欠陥位置判別回路２１を設け、この黒点欠陥位置判別回路２１内の検出用電流源をデータ信号の表示期間とは別の期間に画素に接続して、黒点欠陥を判別する。 - 特許庁 - A defect display device 4 reads the image and the defect information obtained by the automatic defect inspection device 2 from the storage part 41 on the basis of the substrate ID of a substrate to be visually inspected in a visual inspection device 3, and highlights a defect part with respect to the image.
欠陥表示装置４は、目視検査装置３において目視検査を行う基板の基板ＩＤに基づいて自動欠陥検査装置２で取得された画像及び欠陥情報を記憶部４１から読み出して、画像に対して欠陥部分を強調表示する。 - 特許庁 - The sorted final defect distributions and layer defect distributions obtained by each in-line inspection process 10a, 10e and 10f are compared, respectively, and the in-line inspection process 10e obtaining the layer defect distributions (such as 31b) similar to the final defect distributions (such as 26a) is specified.
分類された最終欠陥分布と各インライン検査工程１０ａ、１０ｅ、１０ｆによって得られたレイヤ欠陥分布とをそれぞれ比較して、最終欠陥分布（例えば２６ａ）に対して類似するレイヤ欠陥分布（例えば３１ｂ）が得られたインライン検査工程１０ｅを特定する。 - 特許庁 - To provide an inspection method for a recording medium by which a defect actually causing a recording and reproducing defect or a tracking defect, etc., in the recording medium such as an optical disk or a magneto- optical disk is surely detected and the detailed factor causing the defect can be grasped.
光ディスクや光磁気ディスクのような記録媒体における記録再生不良やトラッキング不良などを実際に生じさせる欠陥を確実に検出することができ、また欠陥の詳細な発生要因を把握することができる記録媒体の検査方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for inspecting a mask defect with which a defect is inspected with high accuracy and within a minimum time length by automatically inspecting a minimum region on the mask to be subjected to EB defect inspection, a device for inspecting the mask defect, and a method for manufacturing a semiconductor device.
ＥＢ欠陥検査をしなければならないマスク上の最小限の領域を自動的に検査することを可能にし、高精度の欠陥検査を最小時間で行うマスク欠陥検査方法、マスク欠陥検査装置、および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Furthermore, in the scanning charged particle microscope for semiconductor test and semiconductor measurement, by using a pattern size measurement, defect detection, and defect classification or the like by using the image after image restoration, measurement precision improvement and high precision of defect detection and defect classification or the like become possible.
さらに、半導体検査および半導体計測用の走査型荷電粒子顕微鏡において、画像復元後の画像を用いてパターン寸法計測、欠陥検出、欠陥分類等に用いることにより、計測精度向上や欠陥検出、欠陥分類の高精度化を可能とした。 - 特許庁 - A defect data analytic method analyzes the defect distribution state based on defect location coordinates detected by the inspection apparatus and categorizes the defect distribution state into one of distribution feature categories including repetitive defects, aggregate defects, circular distribution defects, radial distribution defects, linear distribution defects, ring or cluster distribution defects and random defects.
検査装置によって検出された欠陥位置座標に基づいて欠陥の分布状態を解析し、繰り返し欠陥、密集欠陥、円弧状分布欠陥、放射状分布欠陥、線状分布欠陥、環・塊状分布欠陥、ランダム欠陥のうちいずれかの分布特徴カテゴリに分類する。 - 特許庁 - In the method for detecting the defect on the cyclic pattern, a defect is detected by comparing positions deviated for the cycle of the pattern, and when the detected defect has a size larger than the pattern cycle, a defective part is compared with a normal part, thereby detecting the size of the defect.
周期的なパターン上における欠陥の検出方法であって、パターンの周期分ずれた位置同士を比較して欠陥を検出し、検出した欠陥がパターン周期よりも大きなサイズである場合に、欠陥部と正常部を比較して欠陥のサイズを検出する。 - 特許庁 - To provide a bonding defect detector capable of accurately recognizing the possibility of generating a bonding defect by giving a large temperature difference to the bonding part of an electronic component and a substrate, and accurately reproducing the generation state of the bonding defect; and to provide a bonding defect detection method.
電子部品と基板との接合部に大きな温度差を与えることにより接合不良が発生する可能性を正確に把握したり、接合不良の発生状態を的確に再現可能な接合不良検知装置、並びに、接合不良検知方法の提供を目的とする。 - 特許庁 - If the defect of the same material as that of the object 12 to be examined such as, for example, a ruggedness, a density unevenness or the like exists, the light detoured at the plate 18 is bent by the defect, and arrived at the unit 16, and hence the defect is detected as a bright defect having a strong light intensity.
また、例えば、凹凸や密度ムラ等の、被検査物１２の材質と同じ材質の欠点が存在する場合には、拡散板１８を回り込んだ光が欠点にて屈曲して、撮像装置１６に到達するため、光強度の強い明欠点として検出される。 - 特許庁 - The defect repair method in a flat membrane for water treatment includes a step of pressing a defect part to seal a defect hole by compression, with regard to the defect generated on the surface of the flat membrane manufactured by coating a material containing an organic polymer as a main component on the surface of a flat substrate.
平面状基材の表面に有機高分子を主成分とする物質を塗布して製造した平膜の表面に発生した欠点に対して、該欠点部を圧着して、欠点孔を圧縮により密閉する水処理用平膜上の欠点補修方法。 - 特許庁 - When a reflection wave signal is generated by the defect and detected, two types of defect detecting gates are provided, the number of gates for detecting the reflection wave signal generated by the defect and exceeding a threshold value is found, and the location of the defect relative to the central face in thick can be determined.
欠陥に基づく反射波信号を検出する際に、２種類の欠陥検出ゲートを設け、しきい値を超える前記欠陥に基づく反射波信号を検出したゲート数を求め、欠陥が板厚中心面に対してどちら側の鋼板内に存在するのかの判別を可能にした。 - 特許庁 - To provide a defect detection apparatus and a defect detection method for detecting the defect of an object to be inspected reliably by applying light for detecting defects to the site of the object to be detected whose position is regulated reliably, and for miniaturizing the entire defect detection apparatus.
位置が確実に規制される検査対象物の部位に欠陥検出用の光を照射して、検査対象物の欠陥を確実に検出することができ、しかも欠陥検出装置全体の小型化を図ることができる欠陥検出装置および欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁 - To correct a white defect having a phase effect in a halftone phase shift mask or to correct a recessed phase defect in a Levenson type phase shift mask.
ハーフトーン型位相シフトマスクの位相効果を持つ白欠陥修正やレベンソン型位相シフトマスクの凹型の位相欠陥修正を可能にする。 - 特許庁 - Respective display sections operate in conjunction with each other, whereby the defective image, the defect information list and the defect graph are changed in response to selected map information.
それぞれの表示部は連動して動作し、選択されたマップ情報に対応して欠陥画像、欠陥情報リスト、欠陥グラフが変化する。 - 特許庁 - When the head part 3 reaches the candidate defect sector, the controller 5 controls to skip the candidate defect sector.
そして、連続記録モードにおいて、ヘッド部３が欠陥候補セクタに達したときは、コントローラ５が、この欠陥候補セクタをスキップさせる制御を行う。 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING SHAPE DEFECT OF PLATE MATERIAL HAVING INTERNAL SPACE
内部空間を有する板材の形状欠陥検査方法及び装置 - 特許庁 - DEFECT INSPECTION DEVICE FOR COLOR FILTER AND DETECT INSPECTION METHOD FOR COLOR FILTER
カラーフィルターの欠陥検査装置およびカラーフィルターの欠陥検査方法 - 特許庁 - In a first evaluation section 53, a tentative evaluation is made as to whether a defect candidate in the region corresponding to the defect inclusion region in the difference image is true.
第１評価部５３では、差分画像の欠陥包含領域に対応する領域中の欠陥候補の真虚が仮評価される。 - 特許庁 - To provide a device and a method for inspecting mask blank, that improve detection sensitivity to and detection reliability of a phase defect and an amplitude defect which are too high in defect height to detect only through dark field detection.
暗視野検出だけでは困難であった欠陥高さの高い位相欠陥や振幅欠陥に対する検出感度や検出信頼性を向上できるマスクブランク検査装置および方法を提供する。 - 特許庁 - In the case where the representative value R becomes a threshold value Th1 or higher, the pixel value of a defective pixel having a defect grade of defect grade N or higher is corrected.
代表値Ｒが閾値Ｔｈ１以上となる場合に、欠陥グレードＮ以上の欠陥グレードの欠陥画素の画素値を補正する。 - 特許庁 - METHOD FOR CORRECTING PIXEL DEFECT OF IMAGING ELEMENT AND INSPECTING DEVICE USING THE SAME
撮像素子の画素欠陥補正方法及びそれを用いた検査装置 - 特許庁 - METHOD OF INSPECTING DEFECT IN COLOR FILTER, COLOR FILTER, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
カラーフィルターの欠陥検査方法、カラーフィルターおよび液晶表示素子 - 特許庁 - AUTOMATIC DEFECT RECOGNITION METHOD FOR TEST PIECE USING X-RAY INSPECTION UNIT
Ｘ線検査ユニットを用いたテストピースの自動欠陥認証方法 - 特許庁 - METHOD FOR ESTIMATION AND INSPECTION OF REMAINING DEFECT ON HEAVY PLATE PRODUCT
厚板製品での疵残留予測方法及び残留疵検査方法 - 特許庁 - Thus, the defect of a very minute dot included in the sampled data of each pixel is excluded and the defect can properly be inspected by using the small signal.
これにより、各画素のサンプリングデータに含まれる微細な点状の欠陥を排除し、小信号を用いた適正な検査を行える。 - 特許庁 - To provide a means capable of detecting a small defect of a honeycomb structure and a defect caused near the outer periphery with high sensitivity.
ハニカム構造体の小さな欠陥や外周付近に生じた欠陥を、高い感度で検出することが出来る手段を提供すること。 - 特許庁
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