「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 59 60 61 62 63 64 65 66 67 .... 366 367 次へ＞- At the time of finalizing, the defect management information is recorded in a deterministic defect management area 13 disposed in the control information recording area.
ファイナライズをするときには、ディフェクト管理情報を、制御情報記録エリア内に設けられた確定的ディフェクト管理エリア１３に記録する。 - 特許庁 - To provide a method for detecting a surface defect of a slab for precisely detecting the surface defect such as slag biting produced in the slab.
スラブに発生したノロ噛み等の表面欠陥を精度よく検出することのできるスラブの表面欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR CORRECTING DEFECT IN COLOR FILTER
カラーフィルタの欠陥修正方法およびカラーフィルタの欠陥修正装置 - 特許庁 - To provide a method and apparatus for compensating for display defect of a flat panel display for electrically compensating for a display defect appearing on a display panel.
表示パネルに現れる表示欠陥を電気的に補償する平板表示装置の表示欠陥補償方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an array substrate in which interconnection resistances are reduced and interconnection defect is reduced.
配線抵抗及び不良が減少したアレイ基板を提供する。 - 特許庁 - DEFECT REPAIR METHOD FOR PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK AND EXPOSURE METHOD
位相シフトマスクの欠陥修正方法、位相シフトマスク及び露光方法 - 特許庁 - Therefore, a defect existing deeply in the structure T can be detected.
構造物Ｔに深く存在する欠陥を検出することができる。 - 特許庁 - MAGNETIC DEVICE FOR CORRECTING GEOMETRIC DEFECT OF IMAGE FOR CATHODE-RAY TUBE
陰極線管用の画像の幾何学的欠陥を補正する磁気装置 - 特許庁 - In advance of this demerit point defect, a reverse bias voltage is impressed between an anode and a cathode of the EL element to actualize the demerit point defect.
この滅点欠陥に先立って、ＥＬ素子のアノード・カソード間に逆バイアス電圧を印加することにより滅点欠陥を顕在化させる。 - 特許庁 - DEFECT CORRELATION DEVICE, SUBSTRATE INSPECTION SYSTEM, AND METHOD OF CORRELATING DEFECTS
欠陥関連付け装置、基板検査システム、および欠陥関連付け方法 - 特許庁 - MARTENSITIC STAINLESS STEEL HAVING NO PINHOLE DEFECT AND ITS PRODUCTION METHOD
ピンホールの欠陥のないマルテンサイト系ステンレス鋼及びその製造方法 - 特許庁 - To provide an imaging device, a defect correction apparatus, a defect correction method, and a program, which perform correction processing of image data with high accuracy.
画像データの補正処理を高精度で行うことができる撮像装置、欠陥補正装置、欠陥補正方法及びプログラムを提供すること。 - 特許庁 - A defect detection circuit 10 compares a latest half period measured at present with an anterior half period measured one half-period before the latest half period to detect that defect occurs.
ディフェクト検出回路１０は最新の半周期と１半周期前の半周期とを比較して異常が発生したことを検出する。 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING ULTRA LOW DEFECT SEMICONDUCTOR SINGLE CRYSTALLINE INGOT
極低欠陥半導体単結晶製造方法及びその製造装置 - 特許庁 - The edge defect enhancement process applies the edge defect enhancement filter in directions D1-D3, and considers the maximum of the enhancement calculation values obtained in the directions D1-D3 as a defect enhancement value at the object pixel A.
エッジ欠陥強調工程は、方向Ｄ１〜Ｄ３毎にエッジ欠陥強調フィルタを適用し、方向Ｄ１〜Ｄ３毎に得られた強調算出値の最大値をその対象画素Ａにおける欠陥強調値とする。 - 特許庁 - To provide a defect classification equipment for eliminating the need of any threshold at the time of extracting any defect, and for performing classification with high robustness to a threshold.
欠陥抽出時の閾値が不要な、または閾値に対してロバスト性の高い分類を行うことが可能な欠陥分類装置を提供する。 - 特許庁 - A discrimination number is imparted respectively to each common defect, and existence of a common defect corresponding to the discrimination number is determined relative each substrate.
各共通欠陥にそれぞれ識別番号を付与しておき、各基板毎に識別番号に対応する共通欠陥の有無を判定する。 - 特許庁 - FIELD PATTERN DEFECT DETECTION METHOD IN SEMICONDUCTOR PRODUCTION PROCESS
半導体製造工程におけるＦｉｅｌｄパターン欠陥検出方法 - 特許庁 - TEG (TEST EXPERIMENTAL GROUP) FOR DETECTING PIPING DEFECT OF SEMICONDUCTOR DEVICE, ITS PIPING DEFECT DETECTION METHOD, AND ITS VOID FORMATION STATE DETERMINATION METHOD
半導体装置のパイピング不良検出用ＴＥＧ並びにそのパイピング不良検出方法およびそのボイド形成状態判定方法 - 特許庁 - A causality network is stored in an estimation knowledge recording part 23 to represent diagnostic paths of factor estimation from defect results to defect factors corresponding to the defect results, as a tree structure of knowledge with conditional branches.
不良結果から該不良結果に対応する各不良要因に至る要因推定の診断パスを、条件分岐による木構造の知識として示す因果ネットワークが推定知識記録部２３に記憶されている。 - 特許庁 - To correctly and efficiently perform defect inspection of a halftone type reticle.
ハーフトーン型のレチクルの欠陥検査を正確に、かつ、効率よく行う。 - 特許庁 - An FROM 112 stores pixel defect information being information about a pixel defect of the CCD image pickup element 101 for each different driving method.
ＦＲＯＭ１１２は、駆動方式別にＣＣＤ撮像素子１０１の画素欠陥に関する情報である画素欠陥情報を格納する。 - 特許庁 - METHOD FOR REDUCING NUMBER OF DEFECT OF PATTERN COLLAPSE IN MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE
半導体デバイス製造の際のパターンつぶれ欠陥数の低減方法 - 特許庁 - To easily manufacture a multi-hole tube without a defect and with high quality.
欠陥がなく品質の高い多穴チューブを容易に製造すること。 - 特許庁 - Prior to correction of defect, a stage 2 moves a substrate 1 two-dimensionally to a position where the defect are put in the visual field area of an objective 14.
欠陥の修正が行われる前に、ステージ２は、欠陥が対物レンズ１４の視野領域に入る位置に基板１を二次元移動する。 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR CONCURRENT INKJET PRINTING AND DEFECT INSPECTION
同時型インクジェット印刷及び欠陥検査のための方法及び装置 - 特許庁 - DEFECT INSPECTION METHOD AND APPARATUS FOR MAGNETIC DISK, AND MAGNETIC DISK DRIVE
磁気ディスクの欠陥検査方法、その装置及び磁気ディスク・ドライブ装置 - 特許庁 - A defect detector has a sealed container 13 and a photon counter 15.
欠陥検出装置は密閉容器１３とフォトンカウンタ１５とを有する。 - 特許庁 - A defect image of a repeated pattern in a multilayer substrate and a reference image are obtained, difference images between the obtained defect image and the reference image are generated by a control unit included in a defect correction device.
多層基板における繰り返しパターンの欠陥画像と参照画像を取得し、欠陥修正装置が備える制御部により、取得された前記欠陥画像と前記参照画像の差分画像を生成する。 - 特許庁 - To provide a highly sensitive and high-throughput defect inspection apparatus in defect inspection of a sample in which a pattern is formed such as a semiconductor wafer.
半導体ウェハなどのパターンが形成された試料の欠陥検査において、高感度かつ高スループットの欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - The detection device moves between candidates in each classification, a point-defect candidate smaller than a prescribed threshold or a line-defect candidate smaller than a prescribed threshold between the defect pixel candidates detected in each classification.
そして、検出装置は、種別ごとに検出された欠陥画素候補間で、所定の閾値よりも小さい点欠陥候補や所定の閾値よりも小さい線欠陥候補を、前記種別ごとの候補間で移動する。 - 特許庁 - The charged particle beam image is then analyzed to characterize the defect.
そして、その荷電粒子ビーム画像は分析され、欠陥をキャラクタライズする。 - 特許庁 - To detect a defect appropriately from a wafer image.
ウェーハの画像から適切に欠陥を検出することができるようにする。 - 特許庁 - APPARATUS, METHOD AND PROCESSING PROGRAM FOR DETECTING DEFECT
欠陥検出装置、欠陥検出方法、及び欠陥検出処理プログラム - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT IN STENCIL MASK
ステンシルマスクの欠陥修正装置およびステンシルマスクの欠陥修正方法 - 特許庁 - When carrying out finalization, the defect management information is recorded in the determinative defect management area 13 prepared in the control information recording area.
ファイナライズをするときには、ディフェクト管理情報を、制御情報記録エリア内に設けられた確定的ディフェクト管理エリア１３に記録する。 - 特許庁 - Based on the search domains in the series of visible images, the size of the defect part is determined by a visible image defect size decision means 8.
可視画像欠陥寸法特定手段８は、一連の可視画像の検索領域に基づいて、前記欠陥部位の寸法を特定する。 - 特許庁 - APPARATUS FOR INSPECTING SURFACE DEFECT OF MAGNETIC STORAGE MEDIUM OF DISCRETE TRACK SYSTEM
ディスクリート・トラック方式の磁気記憶媒体の表面欠陥検査装置 - 特許庁 - DEFECT INSPECTION APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING IT
欠陥検査装置及び欠陥検査装置を用いたデバイス製造方法 - 特許庁 - To provide a defect-signal generating circuit for generating a defect signal for a stable servo control, and to provide an optical disk reproducing device.
安定したサーボ制御を可能とするためのディフェクト信号を生成するディフェクト信号生成回路及び光ディスク再生装置を提供する。 - 特許庁 - METHOD OF REMOVING DEFECT RELEVANT TO DEVELOPMENT USING PHOTORESIST MASK
フォトレジスト・マスクにおける現像に関連する欠陥を除去する方法 - 特許庁 - To make detectable a defect uniformly thicker or thinner than a reference value, a fine change, or a fine defect with high precision.
基準値に対して一様に太く、または一様に細い欠陥、微小な変化や微小な欠陥でも高精度に検出できるようにする。 - 特許庁 - In an image processing part 12 of this radiation image photographing apparatus 10, a defect detection part 24 detects a black defect of a radiation image, and makes a storage part 28 store a position of the black defect satisfying a prescribed condition.
放射線画像撮影装置１０の画像処理部１２では、欠陥検出部２４が放射線画像の黒欠陥を検出し、所定の条件を満たした黒欠陥の位置を記憶部２８に記憶させる。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR DETECTING SURFACE DEFECT OF SLAB
スラブ表面欠陥検出方法およびスラブ表面欠陥検出装置 - 特許庁 - In this constitution, the electric defect position data at an IC memory obtained in a semiconductor IC tester, can be converted to the real coordination, and the defect position data can be compared with defect data of productive process.
この構成により、半導体ＩＣ試験装置にて取得したＩＣメモリの電気的な不良位置の情報を実座標に変換することができ、製造プロセスの欠陥データと比較することが可能となる。 - 特許庁 - METHOD OF SIMULATING DENSITY AND SIZE DISTRIBUTION OF DEFECT IN SINGLE CRYSTAL
単結晶内欠陥の密度分布及びサイズ分布のシミュレーション方法 - 特許庁 - To provide a defect inspection device capable of acquiring precisely an image of an inspection object, and capable of obtaining sufficient defect detection precision.
検査対象の画像を高精度で取得することができ、十分な欠陥検出精度を得ることが可能な欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - The defect inspection method acquires the image having the height information in the selected measuring condition based on positional information of the defect candidate of acquiring the image having the height information, and inspects the defect of the inspection object, based on the image.
高さ情報を有する画像を取得する欠陥候補の位置情報から選択した測定条件で高さ情報を有する画像を取得し、その画像に基づいて前記検査対象物の欠陥を検査する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor wafer defect detection system having a remarkably heightened throughput.
スループットが著しく高められる半導体ウェハ欠陥検出システム。 - 特許庁 - The defect detecting section 108 compares the feature quantities in an edge section in which two edge strengths meet the conditions and determines that the pixel is the defect pixel for imaging the defect if the absolute value of the difference between two feature quantities is large.
欠陥検出部１０８は、２個のエッジ強度が条件を満たすエッジ部において特徴量を比較し、２個の特徴量の差の絶対値が大きい場合に画素を欠陥を撮像した欠陥画素と判定する。 - 特許庁
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