「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 60 61 62 63 64 65 66 67 68 .... 366 367 次へ＞- To easily detect a defect such as a crack occurring on a piezoelectric element.
圧電素子に発生するヒビ等の欠陥を容易に検出すること。 - 特許庁 - As the defect echo length, 22 mm can be obtained from a reference value 25% of the defect echo height determined beforehand by a test piece or the like.
予めテストピースなどによって定める欠陥エコー高さの基準値２５％から、欠陥エコー長さとして２２ｍｍを得ることができる。 - 特許庁 - To safely and securely prevent a fixation defect under simple control.
簡単な制御で、安全かつ確実に定着不良を防止すること。 - 特許庁 - A counter means counts signals indicating the defect from a determination means.
カウンタ手段は、判定手段からの不良を示す信号をカウントする。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR DETECTING DEFECT IN SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT
半導体集積回路の不良検出方法及び不良検出装置 - 特許庁 - To provide a phase difference defect inspection device which easily discriminates and detects the residual defect of a phase shifter and the surface flaw defect of a glass substrate from another defects, such as foreign matter (light shielding) defects.
位相シフターの残存欠陥及びガラス基板の表面傷欠陥を異物（遮光）欠陥等の他の欠陥と区別して検出することを簡便に行なう位相差欠陥検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a defect correcting method for a liquid crystal display device of a pixel division method by which the size of a defect can be reduced than ever before.
欠陥サイズを従来よりも縮小可能な画素分割方式の液晶表示装置の欠陥修正方法を提供すること。 - 特許庁 - The frequency-based measures are used to detect defect regions on the hard disc and/or classify defect regions as being due to either thermal asperity (TA) or drop-out medium defect (MD).
この周波数に基づく評価量は、ハードディスク上の欠陥領域を検出し、かつ／または、欠陥領域を熱凹凸（ＴＡ）もしくはドロップアウト・媒体欠陥（ＭＤ）のいずれかの原因に分類するのに使用される。 - 特許庁 - To provide a system for predicting number-of-defects countermeasure man-hour, which supports quality management of a software development project (PJ), predicts the number of remaining defects in each defect sort and predicts total defect countermeasure man-hour in each defect attribute.
ソフトウェア開発プロジェクト（ＰＪ）の品質管理を支援し、残不良数を不良の種類毎に予測し、その不良属性毎の総不良対策工数を予測する不良数・対策工数予測システムを提供する。 - 特許庁 - To update efficiently an inspection recipe, when inspecting a defect of a substrate.
基板の欠陥を検査する際に、検査レシピを効率よく更新する。 - 特許庁 - To provide a technique that allows a sample surface with an insulation region and a conduction region formed thereon to be observed under high contrast, and that facilitates detection of a deletion defect and an open defect and classification of the defect types.
絶縁領域と導電領域が形成されている試料面の観察を高コントラストで行い、且つ、欠落欠陥や開放欠陥の検出と欠陥種類の分類を容易なものとする技術を提供すること。 - 特許庁 - A discrimination method by a threshold is used for defect detection as hitherto.
欠陥の検出には、従来同様、閾値による判別手法を用いる。 - 特許庁 - At least a part of the third defect is constituted of a semiconductor.
第３の欠陥の少なくとも一部は半導体で構成されている。 - 特許庁 - To provide an optical sheet which has both defect concealing performance and luminance.
欠陥の隠蔽性能と輝度を兼ね備えた光学シートを提供する。 - 特許庁 - Thus, even if there is a defect in a substrate, it is not required that it be discarded, and the substrate cost can be reduced, when the defect does not affect the pattern.
これにより、基板に欠陥があってもパターンに影響を与えなければ廃棄することなく、基板コストの削減を図ることができる。 - 特許庁 - Then, a defect correction part for executing correction of the defects is controlled by using the defect correction method where the size and the application sequence have been optimized.
そして、サイズと適用順が最適化された欠陥修正手法を利用して欠陥の修正を実行する欠陥修正部を制御する。 - 特許庁 - To prevent erroneous detection of a defect portion regardless of the state of a detection object surface, and to prevent decline of detection accuracy to the defect portion.
検査対象物表面の状態にかかわらず、欠陥部位の誤検出を防止し、欠陥部位に対する検出精度の低下を防ぐ。 - 特許庁 - To provide a defect marker and a defect marking method for films with improved accuracy in recognizing the location of a defect in a marking area, thus capable of preventing reduction of yield and reducing man-hours required for a visual inspection.
マーキングエリアでの欠陥部分の位置の認識精度を向上させることで歩留りを下げることなく、かつ、目視検査の工数を削減できるフィルム用欠陥マーキング装置及び欠陥マーキング方法を提供する。 - 特許庁 - To simultaneously estimate a defect cross-section and a defect width of a defective portion of an inspected body, as to a method of inspection using a guided wave.
ガイド波を用いた検査方法において、検査体の欠損部分の欠損断面積および欠損幅を同時に推定できるようにする。 - 特許庁 - To promptly start identification of a cause of occurrence of defect of a substrate.
基板の異常が発生する原因の特定を、迅速に開始させる。 - 特許庁 - To detect a defect of a disk-shaped article to be inspected with high accuracy.
円盤形状の被検査物品の欠損を高精度に検出する。 - 特許庁 - (C) The defect quantities of the inspected body are estimated based on the data for defect quantity estimation found in (A) and on the size of the guided wave detected in (B).
（Ｃ）（Ａ）で求めた欠損量推定用データと、（Ｂ）で検出したガイド波の大きさに基づいて、検査体の欠損量を推定する。 - 特許庁 - OPTICAL DISK DEVICE, CONTROLLER FOR OPTICAL DISK DEVICE, AND DEFECT DETECTING METHOD
光ディスク装置、光ディスク装置用コントローラ、および欠陥検出方法 - 特許庁 - According to the use of the device, since defect chips electrically connected to the detection device is made invalid and rewritable chip serves as substitute for the defect chip, the detection device can operate continuously without having to remove the defect chip.
この検出装置によれば、検出装置に電気的接続された欠陥チップが無効にされ、書き換え可能チップが欠陥チップの代用をすることから、欠陥チップを取り除くことなく動作することができる。 - 特許庁 - The reference chip is compared with the pattern of the inspection chip, and a defect generation place where a pattern defect can be easily generated is specified in the layout (S3 to S5).
リファレンスチップと検査チップのパターンを比較し、レイアウト内においてパターン欠陥が生じやすい欠陥発生箇所を特定する（Ｓ３〜Ｓ５）。 - 特許庁 - To inspect a printed circuit board and automatically recover defect parts.
プリント回路基板を検査し、欠陥部分を自動的に修復すること。 - 特許庁 - To provide a latent image carrier defect detection method for detecting the defect of a latent image carrier by a simple method and an image forming apparatus capable of detecting the defect of the latent image carrier by using the latent image carrier detection method.
簡単な方法で潜像担持体の欠陥を検知できる潜像担持体欠陥検知方法及びその潜像担持体検知方法を用いて潜像担持体の欠陥を検知できる画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - The defect relief condition generation part 4 displays list of description errors present in the defect relief conditions at the display part 2 based on the reported verification result and makes the designer to correct the defect relief conditions.
不良救済条件作成部４は通知された検証結果をもとに不良救済条件に存在する記述誤りの一覧を表示部２に表示して、不良救済条件の修正を設計者に行わせる。 - 特許庁 - The two-dimensional distribution of refractive indexes serves as a clad for a dot defect in the center where no hole is formed to confine light in the dot defect.
この屈折率の２次元分布は、中央の空孔が形成されない点欠陥に対しクラッドとして働き、光を点欠陥に閉じ込める。 - 特許庁 - To provide a radiation image photographing apparatus which can detect an image defect of a radiation image precisely regardless of the size of an image defect to be detected, and to provide a method for detecting an image defect.
検出する画像欠陥のサイズに関らず、放射線画像の画像欠陥を精度良く検出することのできる画放射線画像撮影装置及び画像欠陥検出方法を提供することにある。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE OF CORRECTING PIXEL DEFECT OF LIQUID CRYSTAL PANEL
液晶パネルの画素欠陥修正方法及び画素欠陥修正装置 - 特許庁 - In an image signal processing device, a defect detection circuit 12 compares the image signal of a target pixel with the image signal of surrounding pixels thereof to detect a pixel defect candidate, and stores the address information of the pixel defect candidate in a position memory circuit 13.
欠陥検出回路１２で目標画素の画像信号を周辺画素の画像信号と対比して画素欠陥候補を検出し、画素欠陥候補のアドレス情報を位置メモリ回路１３に記憶する。 - 特許庁 - To provide a recording medium having a room for defect management and its management information, a room assigning method and a defect management method.
欠陥管理のための余裕空間とその管理情報を有する記録媒体、余裕空間割当方法及び欠陥管理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a technology capable of implementing a position adjustment and a property test with high sensitivity and detecting defects while separating a position adjustment defect and a property defect in the case where any defect occurs.
高感度に位置調整と特性試験を実施することができ、不良が生じた場合には位置調整上の不良と特性不良とを切り分けて不良を検出することを可能とする技術の提供。 - 特許庁 - To stack lens storage trays without the occurrence of a transport defect.
搬送不良を起こさずにレンズ収納トレイの積み重ねを可能にする。 - 特許庁 - REFLECTION IMAGE FORMING ELECTRON MICROSCOPE AND DEFECT INSPECTING DEVICE USING IT
反射結像型電子顕微鏡、及びそれを用いた欠陥検査装置 - 特許庁 - PHOTOMASK, METHOD FOR INSPECTING PATTERN DEFECT AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE
フォトマスク、パターン欠陥検査方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - To provide a method and device for inspecting a surface defect constituted to surely detect a fatal defect, and capable of selecting optionally a degree of unevenness detected as the defect in response to an inspected object.
致命的な欠陥を確実に検出できるように構成するとともに、検査対象物に応じて欠陥として検知する凹凸の程度を任意に選択することができる表面検査方法および装置を提供する。 - 特許庁 - DEFECT CHECKING DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE DEVICE
欠陥検査装置及び該装置を用いた半導体デバイス製造方法 - 特許庁 - In particular, the micropipe defect and in-base-plane defect can be discriminated from other defects by using the classifying method.
特に、本発明による分類方法を用いることにより、マイクロパイプ欠陥及び基底面内欠陥を他の欠陥から区別することが可能である。 - 特許庁 - To achieve an inspection correction device for efficiently performing various processing even when defect inspection or a defect correction object substrate is large-sized.
欠陥検査又は欠陥修正される基板が大型化しても、各種処理を効率よく行うことができる検査修正装置を実現する。 - 特許庁 - In a third defect check, the mean shot image is averaged in a prescribed size, the standard deviation of the luminance is calculated and the defect is checked.
第３欠陥検査は、平均ショット画像を所定サイズで平均化処理した上で、輝度の標準偏差を計算して欠陥を検査する。 - 特許庁 - Also, the level of a defect is set by the detection level setting key 20 and the defect is corrected in the priority order of the area and in the order of level of the defects.
また、検出レベル設定キー２０で欠陥のレベルを設定し、領域の優先順で、且つ欠陥のレベル順に欠陥を補正する。 - 特許庁 - To provide a defect detection method capable of acquiring accurately information of the form and the position of a defect from the outside in a layered product after laminating a metal layer, concerning the defect existing inside the layered product.
積層体の内部に存在する欠陥を、金属層を積層した後の積層体において、その外部から欠陥の形態及び位置の情報を精度良く把握するという、欠陥の検出方法を提供する。 - 特許庁 - Bubbles staying in a defect 1a becomes easily separable from the defect 1a by depressurization because a force pressing from the upper side is reduced.
その減圧により、欠陥１ａ内に留まっていた気泡は、上から押さえ込む力の減少によって欠陥１ａより乖離しやすくなる。 - 特許庁 - The device for correcting a defect of a reticle pattern comprises: a lithography emulation system 48 having an optical emulation system 45; and a micromachining defect correction system 52 having a reticle defect correction mechanism 49 with a cantilever.
レチクルパターン欠陥修正装置は光学エミュレーションシステム４５を有するリソグラフィエミュレーションシステム４８と、カンチレバーを備えたレチクル欠陥修正機構４９を有するマイクロマシニング欠陥修正システム５２から成る。 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR DEVICE AND DEFECT INFORMATION ACCUMULATING METHOD OF THE SEMICONDUCTOR DEVICE
半導体装置および半導体装置の不良情報蓄積方法 - 特許庁 - REFLECTIVE MASK BLANK HAVING ARTIFICIAL DEFECT AND ITS PRODUCING PROCESS, REFLECTIVE MASK HAVING ARTIFICIAL DEFECT AND ITS PRODUCING PROCESS, AND SUBSTRATE FOR PRODUCING REFLECTIVE MASK BLANK OR REFLECTIVE MASK HAVING ARTIFICIAL DEFECT
擬似欠陥を有する反射型マスクブランクス及びその製造方法、擬似欠陥を有する反射型マスク及びその製造方法、並びに擬似欠陥を有する反射型マスクブランクス又は反射型マスクの製造用基板 - 特許庁 - DRIVE DEFECT DETECTION CIRCUIT FOR INVERTED AMPLIFIER AND OVERLOAD DETECTION APPARATUS
反転増幅器の駆動不良検出回路、及び過負荷検出装置 - 特許庁 - To correct defect pixel data accurately in an external image processor.
外部の画像処理装置において、欠陥画素データを正確に補正する。 - 特許庁
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