「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 64 65 66 67 68 69 70 71 72 .... 366 367 次へ＞- To provide a method and an apparatus, for the inspection of a defect, wherein the existence of the defect in even a weld in a nuclear reactor can be detected surely and the shape or the size of the defect can be found.
原子炉の溶接部であってもその溶接部の欠陥の有無を確実に検出することができ、しかも、その欠陥の形状や大きさを求めることのできる欠陥検査方法と欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR REPAIRING DEFECT OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
液晶表示装置の欠陥補修方法および欠陥補修装置 - 特許庁 - To detect a short defect while no electrical connection is required.
電気的な接続を不要とし、かつショート欠陥の検出を可能とする。 - 特許庁 - DEFECT EXTRACTION METHOD AND PRINTED WIRING BOARD FINAL APPEARANCE INSPECTION DEVICE
欠陥抽出手法及びプリント配線板最終外観検査装置 - 特許庁 - A defect detection circuit 35 detects a defect inside the substrate 1 from a shape characteristic of the scattered light received by the light-receiving part 32.
欠陥検出回路３５は、受光部３２が受光した散乱光の形状的特徴から、基板１の内部の欠陥を検出する。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE TO DETECT DEFECT IN RETICLE DESIGN PATTERN
レティクル設計パターン内の欠陥を検出するための方法および装置 - 特許庁 - LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND DEFECT REPAIRING METHOD FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
液晶表示装置及び液晶表示装置の欠陥修復方法 - 特許庁 - A defect-confirming system is provided with a magnification calculating part 482, an image display part to be inspected 485, and a master image display part 486 in a control part of the defect confirming system.
欠陥確認装置の制御部に、倍率演算部４８２、被検査画像表示部４８５、およびマスター画像表示部４８６を設ける。 - 特許庁 - To perform the defect inspection of a magnetic disk efficiently with high reliability.
高信頼性において効率的に磁気ディスクの欠陥検査を行う。 - 特許庁 - To improve discrimination between normality and defect of a device, and heighten yield.
デバイスの正常及び欠陥の識別を改善し、歩留りを高める。 - 特許庁 - The second protective film 44a divides the pinhole defect of the first protective film 44a.
第２の保護膜44aが第１の保護膜44aピンホールの欠陥を分断する。 - 特許庁 - To provide a method of detecting a surface defect of a slab for precisely detecting the surface defect such as slag biting produced in the slab.
スラブに発生したノロ噛み等の表面欠陥を精度よく検出することのできるスラブ表面欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect inspecting apparatus capable of clearly capturing a scattered light image, regardless of the shape, the size, the kind and the like of defect.
欠陥の形状や大きさ、種類等によらず、欠陥の散乱光像を明確に捉えることができる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - Case3-2-6 Example of a company that made product return rules including a defect rate
事例3-2-6 不良率を加味した返品ルールを作ることができた例 - 経済産業省 - Furthermore, in a fatal defect rate output step 16, the calculation result is outputted.
さらに，致命率出力ステップ１６で計算結果を出力する。 - 特許庁 - To provide a recording medium having margin space for defect management and management information thereof, a margin space allocating method and a defect managing method.
欠陥管理のための余裕空間とその管理情報を有する記録媒体、余裕空間割当方法及び欠陥管理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pixel defect correcting method for an imaging element which eliminates influence of a pixel defect of the imaging element and an inspecting device using the same.
撮像素子の画素欠陥の影響をなくした撮像素子の画素欠陥補正方法及びそれを用いた検査装置を提供する。 - 特許庁 - The wiring board is manufactured through a wiring part forming stage, an optical inspection stage of detecting a defective wiring part where a defect occurs, and a defect correcting stage of correcting the defect of the defective wiring and in the defect correcting stage, a defect correction procedure previously stored in a database is read out selectively corresponding to the position relation between the defect and a finite number of regions constituting a wiring.
配線基板の製造を、配線部形成工程と、欠陥が生じた欠陥配線部を検出する光学検査工程と、欠陥配線部の欠陥の修正を行う欠陥修正工程とによって行い、欠陥修正工程において、予めデータベースに蓄積された欠陥修正手順を、欠陥と、配線部を構成する有限数の領域との位置関係に対応して選択的に読み出して前記修正を行う。 - 特許庁 - At least one defect management work area is assigned in order along a predetermined direction, and the latest defect list and the latest DDS are located in a recorded defect management work area contiguous to the boundary of a recorded defect management working area and an unrecorded defect management work area in order of the latest defect list and the latest DDS along this predetermined direction.
本発明の追記型情報記録媒体には、少なくとも１つの欠陥管理作業領域が所定の方向に沿って順に割り付けられており、最新の欠陥リストと最新のＤＤＳとは、この所定の方向に沿って、最新の欠陥リスト、最新のＤＤＳの順に、記録済み欠陥管理作業領域と未記録欠陥管理作業領域との境界に隣接する記録済み欠陥管理作業領域に配置されている。 - 特許庁 - A criterion of the cutting position previously set in accordance with the type of defect is stored in the arithmetic means, which decides, based on the type of defect outputted from the defect inspecting means and on the criterion, which is to be the cutting position, the tentative cutting position or the position of the defect outputted from the defect inspecting means.
演算手段には、欠陥の種類に応じて予め設定された切断位置に関する判断基準が記憶されており、演算手段は、欠陥検査手段から出力された欠陥の種類と、判断基準とに基づき、仮の切断位置を切断位置とするか、或いは、欠陥検査手段から出力された欠陥の位置を切断位置とするかを決定する。 - 特許庁 - To provide a device and method for detecting a defect of a solid-state image pickup element and a storage medium storing the program of a defect detecting method of the element, which are capable of precisely detecting a desired defect without receiving influence of a linear defect at a high output level at the time of defect detecting processing of the solid-state image pickup element.
固体撮像素子の欠陥検出処理に際し、出力レベルの高い線状欠陥の影響を受けることなく、正確に所望の欠陥を検出することができる固体撮像素子の欠陥検出装置及び固体撮像素子の欠陥検出方法並びに固体撮像素子の欠陥検出方法のプログラムを格納した記憶媒体を提供する。 - 特許庁 - The synthetic quartz glass before hydrogen impregnation processing has the suppressed defect corresponding to the fluorescence peak in 280 nm band and the suppressed defect corresponding to the fluorescence peak in 390 nm band, and after the hydrogen impregnation processing, has the suppressed defect corresponding to the fluorescence peak in 280 nm band, the suppressed defect corresponding to the fluorescence peak in 390 nm band and the suppressed defect corresponding to the fluorescence peak in 650 nm.
水素含浸処理前の合成石英ガラスは、２８０ｎｍ帯の蛍光ピークに相当する欠陥、及び３９０ｎｍ帯の蛍光ピークに相当する欠陥が抑圧されており、水素含浸処理により、２８０ｎｍ帯の蛍光ピークに相当する欠陥、及び３９０ｎｍ帯の蛍光ピークに相当する欠陥、６５０ｎｍ帯の蛍光ピークに相当する欠陥が抑圧されている。 - 特許庁 - A defect memory 63 stores normal defect information related to the pixel defect concerning a CCD 42 when the CCD 42 is set to have the first light reception sensitivity, and highly-sensitive defect information related to the pixel defect concerning the CCD 42 when the CCD 42 is set to have a second light reception sensitivity which is higher than the first light reception sensitivity.
ＣＣＤ４２を第一の受光感度に設定したときのＣＣＤ４２についての画素欠陥に関する情報である通常欠陥情報と、ＣＣＤ４２を第一の受光感度よりも高感度である第二の受光感度に設定したときのＣＣＤ４２についての画素欠陥に関する情報である高感度欠陥情報とを欠陥メモリ６３に記憶させておく。 - 特許庁 - To provide a marking signal control method for marking a print matter printed on a web-shaped base material according to defect detection signals for a defect detected by a plurality of defect inspection devices, the method controlling output of a marking signal for a plurality of defect detection signals such that marks are distinguishable for each defect detection signal.
ウェブ状の基材に印刷された印刷物に、複数の欠陥検査装置により検出された欠陥の欠陥検出信号によりマーキングを行うためのマーキング信号制御方法であって、複数の欠陥検出信号に対するマーキング信号の出力制御を行い、各々の欠陥検出信号に対し、マーキングを区別できるようにした、マーキング信号制御方法を提供する。 - 特許庁 - SLAB FOR THIN STEEL SHEET WITH FEW DEFECT CAUSED BY INCLUSION, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
介在物性欠陥のない薄鋼板用鋳片およびその製造方法 - 特許庁 - To prevent a defect in discharging from a nozzle in applying a high-viscosity substance.
高粘性物質の塗布において、ノズルからの吐出不良を防止する。 - 特許庁 - To provide an optical recording medium controller capable of holding an optical pickup in a position immediately before the occurrence of a defect even when the defect of a short cycle is present.
短い周期の欠陥が存在する場合でも光ピックアップを欠陥発生の直前の位置にホールドできる光記録媒体制御装置を提供する。 - 特許庁 - The mask pattern are macroprojected on the wafer 9 and the macroprojected pattern on the wafer 9 are subjected to the defect inspection, by which the defect inspection of the mask is performed.
ウエハ９上にマスクパターンを拡大投影し、ウエハ９上の拡大投影パターンを欠陥検査することによりマスクの欠陥検査を行う。 - 特許庁 - To obtain a method for analyzing a defect of a mask blank, which is capable of accurately specifying which process a defect occurred during formation of a thin film for pattern formation in.
パターン形成用薄膜の際、どのプロセスで欠陥が発生したのかを正確に特定することができるマスクブランクの欠陥分析方法を得る。 - 特許庁 - A main control part 3 synthesizes the two images and determines existence of a defect.
主制御部３は２つの画像を合成して欠陥の有無を判定する。 - 特許庁 - At reapplication, for example, past related defect information is extracted from applicant data, and the defect information is used to create an application display form.
再申請時には例えば申請人データから関連する過去の不具合情報を抽出し、該不具合情報を用いて申請用表示フォームを作成する。 - 特許庁 - To provide a defect correction method capable of easily correcting a defect of rib chipping occurred in a manufacturing process of a high definition/high luminance PDP.
高精細／高輝度型のＰＤＰの製造工程において発生したリブ欠け欠陥も容易に修正することが可能な欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁 - To discriminate a defect generated on a rolled film according to its characteristics, and to execute defect detection accurately and surely without erroneous-discrimination.
ロール状フィルムに生じる欠陥をその特性に応じて判別できるようにして、誤判別することなく、正確、かつ確実に欠陥検出できるようにする。 - 特許庁 - To provide a metal ring defect detector for improving efficiency and precision, when investigating the state, size, depth, or the like of a defect 9a in detail.
欠陥９ａの状態や大きさ及び深さなどを子細に調査する際の効率と精度を改善した金属リング欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a recording medium which stores defect management information for recording real-time data, its defect managing method, and a recording method for real-time data.
リアルタイムデータを記録するための欠陥管理情報を貯蔵する記録媒体、その欠陥管理方法とリアルタイムデータの記録方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a smectic liquid crystal display device having no alignment defect by regulating a condition and a parameter value for canceling a zigzag defect by using a temperature gradient.
温度勾配を用いてジグザグ欠陥を解消する条件、パラメーター値を規定し、無配向欠陥のスメクチック液晶表示素子を提供する。 - 特許庁 - And the defect pixel data are additionally registered in an EEPROM 118.
そして、その欠陥画素データがＥＥＰＲＯＭ１１８に追加登録される。 - 特許庁 - RED INK FOR CORRECTING DEFECT IN RED COLORED LAYER OF COLOR FILTER WITH HIGH COLOR DENSITY
高色濃度カラーフィルタの赤色着色層欠陥修正用赤インキ - 特許庁 - To effectively and inexpensively find out a sign for a minute defect of a mechanism section for moving a component suction nozzle and a sign for the defect.
部品吸着ノズルを移動動作させる機構部の微小な不良や、不良の兆候を、低コストで効果的に見出すことができるようにする。 - 特許庁 - To provide a device for detecting/correcting a defect detecting and correcting a pixel defect changed by a use environment or the like with high accuracy.
使用環境等で変化する画素欠陥を高い精度で検出及び補正することを可能にした欠陥検出補正装置を提供できるようにする。 - 特許庁 - If the cause for the valve closure defect is the bite of foreign matter, the foreign matter is removed by the opening and closing action of the hot water feed valve 14 and the valve closure defect is repaired.
閉弁不良の原因が異物の噛み込みであった場合は、給湯弁１４の開閉動作により異物が除去され、閉弁不良が修復される。 - 特許庁 - To provide a silicon wafer and its manufacturing method capable of stably obtaining oxygen deposition without depending on a crystal position and a device process and to provide a method for evaluating the defect area of the silicon wafer whose pulling condition and the defect area are unknown.
結晶位置やデバイスプロセスに依存せずに安定して酸素析出が得られるシリコンウエーハおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a swash plate compressor in which a defect such as seizure is not produced by improving a lubrication defect in a sliding part around a shoe peripheral, etc.
シュー周辺等の摺動部の潤滑不良を改善し、潤滑不良による焼き付き等の不具合を発生しない斜板式圧縮機を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect inspecting apparatus for a rod-like cutting tool, capable of automatizing defect inspection with high accuracy for the cutting edge face of the cutting tool.
棒状切削工具の切れ刃面の欠陥検査を高精度に自動化することが可能な棒状切削工具の欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - To eliminate the defect of cultivation soil being conveyed by a conveyor to a watering position.
養土がコンベアＡによって灌水位置に搬送される不具合をなくす。 - 特許庁 - METHOD, PROGRAM, AND EQUIPMENT FOR MASK DEFECT INSPECTION
マスク欠陥検査方法、マスク欠陥検査プログラムおよびマスク欠陥検査装置 - 特許庁 - To provide a wiring board which is hardly to generate a mounting defect of an integrated circuit chip and is hardly to generate the mounting defect to another board such as a mother board or the like, neither.
集積回路チップの実装不良が生じ難く、かつマザーボード等の別基板への実装不良も生じ難い配線基板を提供する。 - 特許庁 - To enhance a function for detecting a defect of a pattern of a sample to be inspected.
被検査試料のパターンの欠陥を検出する機能を高めること。 - 特許庁 - To prevent transfer memory from being caused and to prevent an image defect accompanying it.
転写メモリーの発生を防止し、それ伴う画像不良を防止すること。 - 特許庁 - To provide a method and a program for detecting a defect of each image pickup element that allow to highly accurately detect a defect in an oblique direction of each image pickup element.
撮像素子の斜め方向に発生する欠陥を精度良く検出することが可能な撮像素子の欠陥検出方法及びプログラムを提供する。 - 特許庁
