「Defect」を含む例文一覧(18306)

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  • To provide a method for detecting defect by which the position of defect in an insulation film can be determined easily and accurately in a sample substrate with arbitrary size.
    任意の大きさの試料基板について、その絶縁膜欠陥部の位置を簡便に精度良く決定できる欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁
  • To detect a defect about address setting in a short time and to specify a defect occurrence place.
    アドレス設定に関する不良を短時間で検出することができ、かつ不良の発生箇所を特定することができるメモリチェック方式を提供すること。 - 特許庁
  • The brush bristle material has a defect that the stiffness is weak because the bristle heights are long, but the defect can be eliminated by the cover ring.
    前記ブラシ毛素材は、毛丈が長いため腰が弱いという欠点を持っていたが、前記カバーリングによって、前記欠点を除去することができるようになった。 - 特許庁
  • When the 1st defect judging means judges the presence of defect, an output circuit 39 outputs a main inspection signal to a selection controlling circuit 44.
    第1の欠点有無判定手段が欠点有りの判定を行なうと、出力回路39が本検反信号を選択制御回路44に出力する。 - 特許庁
  • To provide an abnormality monitoring device which prevents a defect in the connection of power wiring by monitoring the state of a part where abnormal heat generation is caused owing to the defect in the connection, etc.
    電源配線の接続不良などのように異常な発熱をともなう部位の状態を監視して予防する異常監視装置を提供する。 - 特許庁
  • CIRCUIT AND METHOD FOR DETECTING DISK DEFECT, AND OPTICAL DISK DEVICE
    ディスク欠陥検出回路、ディスク欠陥検出方法及び光ディスク装置 - 特許庁
  • A defect detecting process S4 detects the defect of the wiring pattern of the to-be-inspected object, based on an output value from the foreign substance determining process S3.
    欠陥検出工程S4は、前記異物判別工程S3の出力値に基づいて前記検査対象物の前記配線パターンの欠陥を検出する。 - 特許庁
  • SYSTEM AND METHOD FOR DETECTING PIXEL DEFECT OF IMAGING DEVICE
    撮像素子の画素欠陥検出システム、撮像素子の画素欠陥検出方法 - 特許庁
  • To prevent the image defect occurring in toner deterioration by the temperature rising in the machine.
    機内昇温によるトナー劣化に起因する画像不良を防止する。 - 特許庁
  • To provide a print defect checking device which dispenses with a costly device to perform sophisticated image processing when a simple print defect checking is performed.
    簡易な印刷不良の検査を行う場合に、高度な画像処理を実行する高価な装置が不要となる印刷不良検査装置を提供する。 - 特許庁
  • To process information to be managed in such a manner as to grasp abnormality or defect relating to manufacturing of a product even before the abnormality or the defect occurs.
    製品の製造に関する異常や不良が生じる前であっても、その異常や不良を把握できるように、管理する情報を加工する。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a photomask including a defect correction step capable of efficiently and precisely correcting even a large black defect.
    大きな黒欠陥であっても効率的に、しかも精度良く修正することができる欠陥修正工程を有するフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The defect determination means determines whether a pixel of interest is a defect or not, on the basis of the pixel value of the pixel of interest and pixel values of peripheral pixels.
    キズ判定手段は、注目画素の画素値と複数の周辺画素の画素値とに基づいて、注目画素がキズであるか否かを判定する。 - 特許庁
  • METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT RETICLE AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT IN PHASE SHIFTER
    位相シフトレチクルの製造方法および位相シフター欠陥修正方法 - 特許庁
  • ILLUMINATING METHOD AND IMAGING METHOD OF HOLOGRAM, AND APPARATUS FOR INSPECTING DEFECT OF HOLOGRAM
    ホログラムの照明方法と撮像方法及びホログラム欠陥検査装置 - 特許庁
  • To provide a vacuum package which achieves a high vacuum without being made large and without causing a sealing defect and a functional defect, and to provide a manufacturing method thereof.
    大型化、封止不良及び機能不良を生ずることなく高真空を実現する真空パッケージ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • To detect circuit deterioration before an operational defect occurs.
    動作不良が発生する前に回路の劣化を検出することを可能にする。 - 特許庁
  • A line sensor camera 5 for photographing the light beam having transmitted through a hole defect 2 or crack defect 3 of the steel strip 1 is installed above the steel strip 1.
    また鋼帯1の上方には、鋼帯1の穴欠陥2または割れ欠陥3を透過した光線を撮影するラインセンサカメラ5を設置した。 - 特許庁
  • Dimensions of the defect are measured by specifying the coordinates of an electrical defect utilizing variation of resistance due to irradiation with laser beam and by means of an SEM.
    欠陥の寸法測定は、レーザビーム照射による抵抗変化を利用した電気的欠陥の座標の特定と、SEMによる欠陥の寸法測定と行う。 - 特許庁
  • To provide a traceability sensor for packaging which can easily detect the junction defect and know whether a cause of the junction defect is a trouble in a reflow furnace or not.
    接合不良を容易に発見でき、かつその原因がリフロー炉の不具合であるか否かを知ることができる実装用トレーサビリティーセンサーを提供する。 - 特許庁
  • A defect deciding part 310 decides whether or not any defect is included in the template image by comparing the maximum correlation value with a threshold.
    欠陥判定部310は、最大となった相関値と閾値とを比較することで当該テンプレート画像に欠陥が含まれているか否かの判定を行う。 - 特許庁
  • To detect the defect of a disk by increasing an operation frequency even during the double speed of a blueray disk, and to detect a defect of increasing reflectance.
    動作周波数を高くしてブルーレイディスクなどの倍速時にもディスクの欠陥を検出でき、また、反射率が増加する欠陥も検出すること。 - 特許庁
  • METHOD AND APPARATUS FOR REPAIRING APERTURE AND ADJACENT DEFECT IN FLANGE
    フランジにおける開口および隣接欠陥を補修する方法および装置 - 特許庁
  • To reproduce data of a high bit rate in a real time even if defect exists in a disk.
    ディスクに欠陥があっても、高ビットレートのデータを、リアルタイムで再生する。 - 特許庁
  • Also, this optical disk corresponds to a defect management system, and a spare area and a defect control area are provided between the user data area and the read-out area.
    また、この光ディスクはディフェクト管理システムに対応しており、ユーザデータエリアとリードアウトエリアの間に、スペアエリアとディフェクト管理エリアが設けられている。 - 特許庁
  • COMPUTER-IMPLEMENTED METHOD FOR PERFORMING ONE OR MORE DEFECT-RELATED FUNCTIONS
    1つ又は複数の欠陥関連の機能を遂行するコンピュータ実行方法 - 特許庁
  • The defect determination circuit 14 determines whether a pixel of interest is a defect or not, on the basis of the pixel value of the pixel of interest and pixel values of peripheral pixels.
    キズ判定回路14は、注目画素の画素値と複数の周辺画素の画素値とに基づいて、注目画素がキズであるか否かを判定する。 - 特許庁
  • A defect correction circuit 16 corrects an image signal Y(n) according to the address information of the registered pixel defect to generate an image signal Y'(n).
    登録された画素欠陥のアドレス情報に応じて欠陥補正回路16が画像信号Y(n)を補正して、画像信号Y'(n)を生成する。 - 特許庁
  • DEFECT EXTRACTION SCANNING ELECTRON MICROSCOPE INSPECTION SYSTEM, AND EXTRACTION METHOD THEREOF
    欠陥抽出走査電子顕微鏡検査装置及びその抽出方法 - 特許庁
  • To provide a defect pixel detection method for a solid-state image pickup element that can accurately detect a defect pixel of a white spot.
    この発明は、白点の欠陥画素を正確に検出することができる固体撮像素子の欠陥画素検出方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • DEFECT CORRECTION METHOD FOR PHOTOMASK HAVING GRADATION AND PHOTOMASK HAVING GRADATION
    階調をもつフォトマスクの欠陥修正方法および階調をもつフォトマスク - 特許庁
  • The AV manager performs defect processing in which when data corresponding to the Defect RUB section is reproduced, the picture to be reproduced is frozen or a voice is muted.
    AVマネージャは、DefectRUB区間に対応するデータを再生する場合には、その対象となる画像をフリーズ、または音声をミュートするディフェクト処理を行う。 - 特許庁
  • To efficiently recover a defect by using a limited redundant memory while suppressing reduction in access speed accompanying the defect recovery of the memory.
    メモリの欠陥救済に伴うアクセス速度の低下を抑えつつ、限られた冗長メモリを使って効率的に欠陥救済を行うことができるを提供する。 - 特許庁
  • To provide a cylindrical body surface inspection device capable of distinguishing a reflected wave from a defect from a reflected noise and having excellent defect discriminability.
    欠陥からの反射波を反射ノイズと区別することができ、欠陥判別性の良い円柱体表面検査装置を提供することにある。 - 特許庁
  • The minute defect is detected with good accuracy and the reliability information of the inner decoder (234) is operated and therefore, the error propagation due to the minor defect can be suppressed.
    微小な欠陥を精度良く検出し、内復号器(234)の信頼度情報を操作するため、小さな欠陥による誤り伝播を抑圧できる。 - 特許庁
  • DEFECT RELIEVING DEVICE AND ITS METHOD FOR RECORDING MEDIUM IN LIBRARY SYSTEM
    ライブラリシステムにおける記録媒体の欠陥救済装置及びその方法 - 特許庁
  • PREVENTION METHOD FOR CONTAMINATION OF MIX, ETC., AND DETECTION APPARATUS FOR DEFECT OF CONTAINER FOR MIX, ETC.
    ミックス等の汚染防止方法及びミックス等容器の不良検知装置 - 特許庁
  • Thereby, a defect signal DF is generated by logical operation (when a defect part is "Low active", AND, when it is "High active", OR) of an output of the comparator.
    これら、コンパレータの出力の論理演算により(ディフェクトの部分が”Low active”ならAND(論理積)、”High active”ならOR(論理和)をとる)ディフェクト信号DFを生成する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of displaying a defect on a substrate in a relatively short time on an output unit, without making mistake of defect positions.
    基板上の欠陥を相対的に短い時間で、かつ欠陥箇所を誤ることなく出力装置に表示することのできる技術を提供する。 - 特許庁
  • To eliminate influence of reverse incident light through an eyepiece shutter at defect detection and to cope with degradation of a defect of pixel over aging without generating erroneous detection.
    欠陥検出時のアイピースシャッタからの逆入射光の影響がなくなり、誤検出を生じることなく画素欠陥の経時劣化に対応する。 - 特許庁
  • To provide a method for continuous casting capable of preventing occurrence of a powder originated defect and a foaming originated defect on the surface portion of the cast slab at the time of casting the molten steel of the extremely low-carbon steel.
    極低炭素鋼の溶鋼を鋳造する際の鋳片表層部のパウダ性欠陥および気泡性欠陥の発生を抑制する方法の提供。 - 特許庁
  • A defect may not occur in the insulating coating layer 7 due to an insufficient filling.
    充填不足により絶縁被覆層7に欠損ができることがない。 - 特許庁
  • To provide a pattern defect inspection apparatus and an inspection method having enhanced pixel resolution and high defect detection performance, by excluding the noise due to radiation.
    画素分解能を高め、また、放射線によるノイズを排除することで、欠陥検出能力の高いパターン欠陥検査装置及び検査方法を提供する。 - 特許庁
  • To reduce a scratch defect in CMP machining of a semiconductor for a device.
    デバイス化半導体のCMP加工におけるスクラッチ不良を低減する。 - 特許庁
  • To provide a radiation image photographing apparatus, an image defect detection program and an image defect detection method, capable of capturing an omen of discharge breakdown.
    放電破壊の予兆を捉えることができる放射線画像撮影装置、画像欠陥検出プログラム、及び画像欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁
  • Thus, minimization of defective articles and defect management expenses is achieved.
    これにより、不具合品及び不具合処理費用の極小化を実現できる。 - 特許庁
  • To easily detect a progressive defect of a matrix structure.
    マトリクス構造における進行性のある欠陥を容易に検出可能にする。 - 特許庁
  • When a deformation change is generated in the structure 2 having a defect, the periphery of the defect is deformed due to stress concentration generated at the periphery, and the light emitting film on the surface is also deformed.
    欠陥が在る構造体2に歪みの変化が生じると、欠陥周辺に応力集中が起きて歪み、該表面の発光膜も歪む。 - 特許庁
  • the proceedings before the Patent Office suffer from a substantial defect; or if
    特許庁における手続が実質的な欠陥を有している場合,又は - 特許庁
  • This condition is maintained at automatic defect classification time, after circuit pattern inspection.
    この状態は回路パターン検査後の自動欠陥分類時に維持される。 - 特許庁
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