「First layer」を含む例文一覧(24472)

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  • The urethane layers 1b and 2b are composed of the first urethane layer 1b and 2b formed in contact with the taffeta 3 and the second urethane layer 1b in contact with the first urethane layer 2b and the first urethane layer 1b is composed of an urethane resin synthesized by reaction of a polyester polyol with an alicyclic diisocyanate.
    ウレタン層1b、2bは、タフタ3に接して形成された第1ウレタン層2bと、第1ウレタン層2bに接する第2ウレタン層1bとからなり、第1ウレタン層1bはポリエステルポリオールと脂環族系ジイソシアネートとの反応によって合成されたウレタン樹脂からなる。 - 特許庁
  • A method of manufacturing a structure having a nitride semiconductor comprises the steps of: forming a first semiconductor layer composed of a group III nitride semiconductor containing In; and forming a second semiconductor layer composed of a group III nitride semiconductor having a lower In composition than the first semiconductor layer on the first semiconductor layer.
    Inを含むIII族窒化物半導体からなる第1の半導体層を形成する工程と、第1の半導体層の上に、第1の半導体層よりもIn組成が低いIII族窒化物半導体からなる第2の半導体層を形成する工程を有する。 - 特許庁
  • A transparent multilayer comprises a first conductive layer containing an intrinsically conducting a polymer, a film forming binder, and the spacer elements embedded in and projecting from the surface of the first conductive layer; and a second conductive layer separated from the first conductive layer by the spacer elements.
    固有的に導電性のポリマー、フィルム形成性結合剤及び第1導電層の表面に埋め込まれ且つその表面から突き出ているスペーサ・エレメントを含む第1導電層並びにスペーサ・エレメントによって第1導電層と隔てられた第2導電層を含む透明な多層体を開示する。 - 特許庁
  • A second thermal shrinkage percentage of the second layer 12 when heat treatment that thermal shrinkage is generated along the surface direction is applied to at least one of the first layer 11 and the second layer 12 is set larger than a first thermal shrinkage percentage of the first layer 11.
    第1層11および第2層12のうちの少なくとも一方に対して面方向に沿って熱収縮が生じるような加熱処理が加えられた際における第2層12の第2熱収縮率が第1層11の第1熱収縮率よりも大きく設定されている。 - 特許庁
  • A first paste for structuring a first electrode layer 18 and a second paste for structuring a second electrode layer 20 are printed on a solid electrolyte calcined body 14 by screen printing, or the like, to form electrode patterns to be as the first electrode layer 18 and the second electrode layer 20.
    第1電極層18を構成するための第1ペーストと、第2電極層20を構成するための第2ペーストとを固体電解質焼成体14にスクリーン印刷法等で印刷して第1電極層18及び第2電極層20となる電極パターンを形成する。 - 特許庁
  • The rubber member consists of a first rubber layer 11 consisting of polyurethane with specified blend and a second rubber layer 12 consisting of a rubber member having different blend from that of the first rubber layer and laminated by a liquid source material applied on the first rubber layer 11 hardening by heating.
    所定配合のポリウレタンからなる第1のゴム層11と、この第1のゴム層とは異なる配合のゴム部材からなると共に前記第1のゴム層11上に塗布された液状の原料を加熱硬化することにより積層される第2のゴム層12とで構成する。 - 特許庁
  • This two-sheet integrated polishing pad 1 is integrated with two polishing pads by arranging a first polishing pad 11, a first cushion layer 12, a first adhesive layer 13, a separable base material 14, a second adhesive layer 15, a second cushion layer 16 and a second polishing pad 17 in order.
    順に第1の研磨パッド11、第1のクッション層12、第1の接着剤層13、離型基材14、第2の接着剤層15、第2のクッション層16および第2の研磨パッド17を設けた2枚の研磨パッドを一体にした2枚一体型研磨パッド1。 - 特許庁
  • The coating method comprises (a) forming a first layer of a coating solution containing a liquid-state solvent and a coating material only on a first end region by immersion coating and (b) forming a second layer of the coating solution on the first layer, an intermediate layer, and a second end region in this order by immersion coating.
    (a)液状溶媒とコーティング材料とを含むコーティング溶液の第1層を、第1端領域上にのみ浸漬被覆し、(b)前記コーティング溶液の第2層を、前記第1層、前記中間領域、及び前記第2端領域の上に、この順で浸漬被覆すること、を含む方法。 - 特許庁
  • A sealing structure 20 is made by coating a lid 13 with a first resin layer 21 with good adhesive property with an aluminum, coating the first resin layer 21 with a second resin layer 22 having good adhesive property with the first resin layer 21, and being brought into contact with the above terminal.
    封止構造20は、アルミニウムとの接着性が良好な第1樹脂層21を蓋体13に被せ、この第1樹脂層21との接着性が良好な第2樹脂層22を前記第1樹脂層21に被せ、この第2樹脂層22を前記端子に接触させてなる。 - 特許庁
  • The agent sustained release member 1 includes a first layer 10 consisting of a mixture of a biocompatibility substrate 2 and an agent 3, and a second layer 20 consisting of the same mixture as in the first layer, but the density of the agent 3 is lower than in the first layer 10.
    薬剤徐放部材1は、生体適合性基材2と、薬剤3とが混合されて形成された第一層10と、生体適合性基材2と薬剤3とが混合されて形成され、薬剤3の密度が第一層10よりも低い第二層20とを、備える構成とする。 - 特許庁
  • The step for forming the first metal electrode LEL1 includes a step for forming at least one first barrier layer T1, a step for forming the aluminum layer AC1 on the first barrier layer T1, and a step for recrystallizing the crystal composing the aluminum layer AC1.
    第1の金属電極LEL1を形成する工程には、少なくとも1層の第1のバリア層T1を形成する工程と、第1のバリア層T1上に、アルミニウム層AC1を形成する工程と、アルミニウム層AC1を構成する結晶を再結晶化する工程とを含んでいる。 - 特許庁
  • This optical thin film deposition method comprises a step of forming a first layer formed of material containing silicon on a substrate formed of fluoride, and a step of forming a second layer for preventing fluorine contained in the substrate from being reacted with silicon contained in the first layer between the substrate and the first layer.
    フッ化物からなる基板上に珪素を含む材料からなる第1層を形成する工程と、前記基板に含まれるフッ素と前記第1層に含まれる珪素とを反応させないための第2層を前記基板と前記第1層との間に形成する工程とを含む成膜方法。 - 特許庁
  • After etching the first sacrifice layer, the electrode metal layer and the insulating film using the resist 5 as a mask, the resist 5 is removed to form a pattern of the laminated material of the insulating film 2, the electrode metal layer 3, and the first sacrifice layer 4 on the first diamond semiconductor region 1.
    そして、レジスト5をマスクとして、第1の犠牲層、電極金属層及び絶縁膜をエッチングした後、レジスト5を除去することにより、第1のダイヤモンド半導体領域1の上に、絶縁膜2と電極金属層3と第1の犠牲層4との積層体をパターン形成する。 - 特許庁
  • A second insulating layer 24 includes: a primary part 26 located on the primary region 18 of the first metal layer 16; an aperture 30 located on the secondary region 20 of the first metal layer 16; and a secondary part 28 located on a first insulating layer 14.
    第2の絶縁層24は、第1の金属層16の第1の領域18の上に位置する第1の部分26と、第1の金属層16の第2の領域20の上に位置する開口30と、第1の絶縁層14の上に位置する第2の部分28と、を有する。 - 特許庁
  • On at least one side of the biaxially stretched support 11, a first easily adhesive layer 12 and a second easily adhesive layer 13 are successively formed, provided that the first easily adhesive layer 12 is closer to the support 11 and contains a first binder, and the second easily adhesive layer 13 contains a crosslinking agent and a second binder comprising an acrylic resin or a urethane resin.
    2軸延伸した支持体11の少なくとも一方の面に、支持体11に近い側から順に、第1バインダを含む第1易接着層12と、アクリル樹脂又はウレタン樹脂である第2バインダ及び架橋剤を含む第2易接着層13とを形成する。 - 特許庁
  • To provide a radial transverse electric polarizer device that includes a first layer of a material having a first refractive index, a second layer of a material having a second refractive index, and a plurality of elongated elements azimuthally and periodically spaced apart and disposed between the first layer and the second layer.
    第1屈折率を有する材料の第1層、第2屈折率を有する材料の第2層、及び方位角で周期的に隔置されて第1層と第2層との間に配置された複数の細長い要素を含むラジアル横方向電気偏光器装置を提供すること。 - 特許庁
  • The depth h1 of a first pre-groove 12 is set so that a first information recording layer 22 satisfies a target reflectance based on an absorbance of a first pigment used for the first information recording layer 22, especially a first absorbance in the wavelength of a laser beam 32 to be used.
    第1情報記録層22に使用される第1色素の吸光度、特に、使用されるレーザ光32の波長における第1吸光度に基づいて、第1情報記録層22が目標反射率を満足するように、第1プリグルーブ12の深さh1を設定する。 - 特許庁
  • The first core layer in a third region A3 disposed on the opposite side from the second region about the first region as a reference and coming into contact with the first region is removed to expose the end surface of the first core layer at a border between the first region and third region.
    第1の領域を基準として第2の領域とは反対側に配置され、第1の領域に接する第3の領域A3内の第1のコア層を除去し、第1の領域と第3の領域との境界に第1のコア層の端面を露出させる。 - 特許庁
  • The first buffer layer has a cavity 110a provided over the recessed portion of the sapphire substrate, and the first buffer layer has a first region 110e and a second region 110f provided between the first region and the sapphire substrate and having higher carbon concentration than the first region.
    第1バッファ層は、サファイア基板の凹部の上に設けられた空洞110aを有し、第1バッファ層は、第1領域110eと、第1領域とサファイア基板との間に設けられ第1領域よりも炭素濃度が高い第2領域110fと、を有する。 - 特許庁
  • Besides, the surface of the second magnetic layer 14 at the gap layer 9 side approaches the first magnetic layer 8 gradually as it separates from the medium facing surface ABS.
    また、第2の磁性層14のギャップ層9側の面は、媒体対向面ABSから離れるに従って段階的に第1の磁性層8に近づいている。 - 特許庁
  • This invention provides a thermal radiation shield 44 including a first coating layer 46, a second coating layer 48 and a thermal shield layer 50 and a method for applying the shield.
    第1のコーティング層46、第2のコーティング層48及び熱シールド層50を含む熱輻射シールド44、並びに該シールドを付加する方法を提供する。 - 特許庁
  • Thus, the surface discontinuity of a transparent electrode 37 is hardly caused between the first layer part 34 and the second layer part 35, so that an alignment layer 38 is hardly piled.
    これによって、第1層部34と第2層部35との間で透明電極37の段切れが生じ難くなり、また配向膜38が溜まり難くなる。 - 特許庁
  • The nitrated layer 11 has a composition distribution of a Cr concentration continuously changed toward a thickness direction over the first nitrated layer 111 and the second nitrated layer 112.
    この第1の窒化層111から第2の窒化層112にかけて、これらの層の厚さ方向にCr濃度が連続的に変化した組成分布を有する。 - 特許庁
  • In this microdevice, a second magnetic layer 22 is provided to face a first magnetic layer 21 and is magnetically coupled with the layer 21 via coupling sections 211 and 212.
    第2の磁性層22は、第1の磁性層21と相対向して設けられ、結合部211、212を介し、第1の磁性層21と磁気的に結合する。 - 特許庁
  • The method further comprises the steps of forming a whisker suppressing layer 4 on the surface of the circuit pattern, and forming a first tin-plating layer 5 on the surface of the whisker suppressing layer.
    その回路パターンの表面にウィスカー抑制層4を形成し、そのウィスカー抑制層の表面に第1のすずめっき層5を形成する。 - 特許庁
  • A first aperture 15 is formed to the GaN layer 13 and AlGaN layer 14 to expose part of the upper surface of the AlN layer 12.
    AlN層12の上面の一部を露出するように、GaN層13およびAlGaN層14に第1の開口15が形成されている。 - 特許庁
  • The bridge layer 330 forms a signal path between the first contact section 331 of the bridge layer 330 and the second contact section 336 of the bridge layer 330.
    架橋層330は、架橋層330の第1接触部331と架橋層330の第2接触部336との間の信号経路を形成している。 - 特許庁
  • The sealing sheets 12A, 12B are pasted together by a first pasting layer 13 and a second pasting layer 14 so as to pinch the phosphor layer 11.
    封止シート12A,12Bは、第1貼合層13および第2貼合層14により、蛍光体層11を挟み込むようにして貼り合わせられている。 - 特許庁
  • Then, at least a part of the first material layer is discharged outside the base material 1 to form a gap layer 5 between the second material layer 4 and the base material 1.
    次に第1の材料層の少なくとも一部を基材1の外に排出し、第2の材料層4と基材1との間に空隙層5を形成する。 - 特許庁
  • In this embodiment, a second-layer metal 21 connected to the first-layer metal 182 through the opening area 20 of an interlayer insulating layer 19 is also added to this structure.
    この例では、第1層金属182にさらに層間絶縁層19の開口領域20を介して接続された第2層金属21も付加されている。 - 特許庁
  • Further, the absorber has a third transparent resin layer 5 having a different thickness T_3 from a thickness T_1 of the first transparent resin layer 1 on the rear-surface side of the conductive film layer 4.
    さらに、導電膜層4の裏面側に、第一透明樹脂層1の厚さT_1 と異なる厚さT_3 の第三透明樹脂層5を、備える。 - 特許庁
  • A reverse-conductivity pedestal collector layer 102 and a first conductivity base layer 8 are formed at the position contacting the second reverse- conductivity buried collector layer 22.
    第2の逆導電型埋め込みコレクタ層22に接する位置に、逆導電型ペデスタルコレクタ層102と一導電型ベース層8とを形成する。 - 特許庁
  • As a preferred embodiment, the second layer 32 is made of a foaming body or an elastic material, the first layer 31 is made of aluminum, and the third layer 33 is made of steel.
    好適には、第2層32を、発泡体または弾性材料によって構成し、第1層31をアルミニウム、また第3層33をスチールで形成する。 - 特許庁
  • Finally, the insulation layer 300a in the shallow trench tank is planarized, and the height of the insulation layer 300a is made substantially equal to that of the first isolation layer 140.
    最後に、浅溝槽内の絶縁層300aを平坦化し、絶縁層300aの高さと第1遮断層140の高さをほぼ等しくする。 - 特許庁
  • A center active area 300 is adjacent to the other surface of the protective layer 400 in a plane where the first insulating layer 32 is adjacent to the nonmagnetic metal layer 343.
    中央能動領域300は、第1の絶縁層32が非磁性金属層343と隣接する面内において、保護層400の他面に隣接する。 - 特許庁
  • In the filtration device 57, a filter medium 59 composed of a first layer 59a, a second layer 59b and a third layer 59c in the order of the flow of the raw material dope 36 is arranged.
    濾過装置57に、原料ドープ36の流下方向に順に、第1層59a、第2層59b、第3層59cからなる濾材59を配置する。 - 特許庁
  • At the last, the positional relation (lamination ranking) between the upper layer part 106b and the second metal layer 106c of the first metal layer is reversed by a rapid heat treatment.
    最後に、熱処理によって、上記の第1金属層の上層部106bと第2金属層106cとの位置関係(積層順位)を反転させる。 - 特許庁
  • To form a second intermediate layer and a YBCO superconducting layer having a superior characteristic on a first intermediate layer on a board having a superior surface smoothness.
    基盤上の表面平滑性に優れた第1中間層の上に第2中間層及び特性の優れたYBCO超電導層を形成する。 - 特許庁
  • At a predetermined position of the insulation layer 30, the via conductor 50 for connecting the first wiring layer 20 and the second wiring layer 22 electrically is provided.
    絶縁層30の所定位置に、第1の配線層20と第2の配線層22とを電気的に接続するビア導体50が設けられている。 - 特許庁
  • The magnetization of the first ferromagnetic stable layer and the magnetic free layer are coupled in an antiferromagnetic or a ferromagnetic alignment through the non-magnetic coupling layer 21.
    第一の強磁性安定層の磁化と磁化自由層は非磁性結合層21を介して、反強磁性的あるいは強磁性的に結合している。 - 特許庁
  • In a die pad area 8 of a lead frame 2, a base material plating layer 3, a first plating layer 4, a second plating layer 6, and a second organic coating 7 are sequentially stacked.
    リードフレーム2のダイパッドエリア8において下地めっき層3、第1めっき層4、第2めっき層6、第2有機被膜7を順次積層する。 - 特許庁
  • Further, the phosphor layer is arranged between the light emitting layer and reflecting layer, to emit the white light as mixed light of the first light and second light.
    さらに、発光層と反射層との間に蛍光体層が配置されて、第1の光と第2の光との混合光により白色光を発光する。 - 特許庁
  • The channel layer 25 has a compression strain, and a piezoelectric field PZC2 of the channel layer 25 faces in a direction toward the first barrier layer 27 from a support substrate 13.
    また、チャネル層25は圧縮歪みを内包して、チャネル層25のピエゾ電界PZC2は支持基体13から第1のバリア層27への方向に向く。 - 特許庁
  • The second cleaning layer 12 is arranged on the bottom 13b side of the casing 13 and the first cleaning layer 11 is layered/arranged on the second cleaning layer 12.
    第二浄化層12はケーシング13の底部13b側に配置され、第一浄化層11は第二浄化層12上に積層配置されている。 - 特許庁
  • A semiconductor light-emitting device comprises a stacked structure, a first conductive layer, a second conductive layer, and a third conductive layer.
    実施形態によれば、積層構造体と第1導電層と第2導電層と第3導電層とを備えた半導体発光素子が提供される。 - 特許庁
  • A first conductive layer 12 is formed, a protective layer 13 is formed on each of parts opposed to the sides of the level difference, and a second conductive layer 14 is formed.
    第1の導電層12を形成し、段差の側面に対向する部分に保護層13を形成し、第2の導電層14を形成する。 - 特許庁
  • A composite layer comprising a first resin layer 21 and a second resin layer 22 is formed on the surface of a base board 10 on which a conductor 11 is formed.
    導電体11が形成されたベース基板10の表面に、第1の樹脂層21と第2の樹脂層22からなる複合層が形成される。 - 特許庁
  • The sealing layer 7 is composed of a first sealing layer 8 in which a filler is not mixed, and a second sealing layer 9 in which a conductive filler 10 is mixed.
    封止層7は、フィラーを混入しない第一の封止層8と導電性フィラー10を混入した第二の封止層9とで構成する。 - 特許庁
  • The protective layer 3 comprises a first protective layer 3a made principally of a resin and a second protective layer 3a made principally of a resin lower in a glass transferring temperature than the former resin.
    保護層3は、樹脂を主体とする第1保護層3aと、該樹脂よりもガラス転移温度が低い樹脂を主体とする第2保護層3bとからなる。 - 特許庁
  • The laminated paper 1 is obtained by laminating a first paper layer 3 and a second paper layer 5 each consisting of paper base material through a moistureproof agent layer 7 having water-disintegration performance.
    紙素材からなる第1紙層3と第2紙層5とを、水離解性の防湿剤層7を介して積層することにより、積層紙1を構成する。 - 特許庁
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