「The second」を含む例文一覧(50000)

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  • The second power supply 8 starts the display portion 9 by supplying operating power to the display portion 9.
    第２電源８は、表示部９に動作用電力を供給することによって、表示部９を起動させる。 - 特許庁
  • In a second axial segment, the transverse refractive index profile inside the core is more uniform than that of the first segment.
    第２の軸セグメントでは、コア内の横方向屈折率プロファイルは、第１のセグメントのそれよりも均一である。 - 特許庁
  • At the time, since the drying air is not cooled in the second evaporator 15, it is rapidly heated.
    この際、乾燥用空気は、第２の蒸発器１５で冷却されないため、急速に加熱することができる。 - 特許庁
  • The first holding section 41a, the second holding section 41b and the third holding section 41c have different heights respectively.
    第１保持部４１ａ、第２保持部４１ｂおよび第３保持部４１ｃは、いずれも高さが異なっている。 - 特許庁
  • The separation tube 27 partitions a separation chamber 31 into a second turning chamber 32 at the inside and a collecting chamber 33 at the outside.
    分離筒２７は、分離室３１を内側の第２旋回室３２と外側の捕集室３３とに区画する。 - 特許庁
  • The second layer 103 is developed and the first layer 102 is partly dissolved by the developing solution.
    次に、現像液によって第２の層１０３を現像すると共に第１の層１０２の一部を溶解させる。 - 特許庁
  • The third electrically conductive film 273 is made to be in contact with the second electrically conductive film 272 in the pad formation region.
    第３導電膜２７３は、当該パッド形成領域内において第２導電膜２７２と接触する。 - 特許庁
  • Based on the part where the same object is recorded, relative positions are calculated among the second images (S6).
    そして、同一の対象が記録された部分に基づいて、第２の画像同士の相対位置を計算する（Ｓ６）。 - 特許庁
  • The deformable mirror has a gas flow passage 201 connecting the first sealing chamber 223 and the second sealing chamber 224.
    可変形状鏡は、第１封止室２２３と第２封止室２２４をつなぐ気体流路２０１を有している。 - 特許庁
  • Before and after the memory I/F 54, the first variable magnification processing part 53a and the second variable magnification processing part 53b are provided.
    メモリＩ／Ｆ５４の前後に第１の変倍処理部５３ａと第２の変倍処理部５３ｂが設けてある。 - 特許庁
  • At this time, the control device 30 changes the second threshold voltage according to an output of the state detection sensor.
    このとき制御装置３０は、状態検出センサの出力に応じて第２の閾値電圧を変化させる。 - 特許庁
  • The record erasing device is provided with a second heater substrate 6 for heating the pressure roller, separately from the first heater substrate.
    この装置は、加圧ローラを加熱するための第２ヒータ基板６を、第１ヒータ基板とは別個に有している。 - 特許庁
  • The second film 14 includes a material that has lower rigidity than the metal included in the first film 12.
    第２膜１４は、第１膜１２を形成している金属よりも剛性の低い材料から形成されている。 - 特許庁
  • The heating element 36 is sandwiched between the first sheet-like composite body 31 and the second sheet-like composite body 32.
    発熱体３６は、第１シート状複合体３１と第２シート状複合体３２との間に挟まれている。 - 特許庁
  • At this time, the same cutting means can be used for the first cutting means and the second cutting means.
    この時、第一の切断手段と第二の切断手段として、同じ切断手段を用いることもできる。 - 特許庁
  • The first and second panel members 20a, 20b are integrally sewn with the central panel to form the airbag.
    この第一及び第二のパネル部材２０ａ、２０ｂをセンターパネルと一体に縫合することでエアバッグを形成する。 - 特許庁
  • The second calculation processing part 192 changes the predetermined number of times X according to the first period.
    そして、第二演算処理部１９２は、上記第一時間に応じて上記所定回数Ｘを変更する。 - 特許庁
  • Inside the cell assembly 10, the first and the second unit cells are made in a different structure from each other.
    セルアセンブリ１０内では、第１および第２単位セル１４、１６が互いに異なる構造に設定されている。 - 特許庁
  • The dummy transistor 160 is formed on a second active region 130 of the substrate and electrically connected to the transistor 150.
    ダミートランジスタ１６０は、基板の第２アクティブ領域１３０上に形成され、トランジスタ１５０に接続される。 - 特許庁
  • The image recognition apparatus performs pattern matching determination after making the resolution lower in a second step than in the first step.
    画像認識装置は２段階目に１段階目よりも解像度を低くした後にパターン照合判定を行う。 - 特許庁
  • In this case, the position measurement system is composed so that the first path is shorter than the second path.
    ここで、位置計測システムは、上記第２経路の長さよりも、第１経路の長さの方が短く構成されている。 - 特許庁
  • The first fitting seat 21 and the second fitting seat 22 are connected through a reinforced rib R15 to increase the stiffness of them.
    さらに、第１取付座21と第２取付座22とが補強リブR15で連結されて、それらの剛性を高めている。 - 特許庁
  • An opening area of the second porous gas passage on the surface in contact with the sealant 30 is substantially set to zero.
    第２多孔体ガス流路のシール材３０に当接する面の開口面積は実質的にゼロに設定される。 - 特許庁
  • Only the second RT among these game states is the game state in which the token put-out rate exceeds one.
    これらの遊技状態のうちで第２ＲＴのみが、メダルの払出率が１を越える遊技状態となっている。 - 特許庁
  • The intersection of the second track K21 with the expected passage area 80 is set as a final passage position S.
    そして、第２軌道Ｋ２１と予想通過領域８０との交点が最終通過位置Ｓとして設定される。 - 特許庁
  • The working gas Fg is introduced to the compressor C after heated by passing through a heat receiving side 82 of the second heat exchanger.
    作動ガスＦｇが、第２の熱交換器の受熱側８２を通り加熱された後、圧縮機Ｃへ導入される。 - 特許庁
  • The first projecting parts 10 and the second projecting parts 20 are constituted by curved faces crossing the direction of plate thickness.
    また、第一凸状部１０及び第二凸状部２０は板厚方向と交差する曲面で構成されている。 - 特許庁
  • At this time, speed control of the own vehicle is executed so that the first impact and the second impact are almost equal.
    この際、自車両の速度制御を、第１の衝撃と第２の衝撃とがほぼ等しくなるように行う。 - 特許庁
  • The second motor 36 executes a slight rotation operation at every prescribed period of time when the transmission member is put into the transmitted state.
    第２モータ３６は、伝達部材が伝達状態となった場合、所定時間毎に、微回転動作する。 - 特許庁
  • Either the first medium 11 or the second medium 12 is solid and the other is solid or liquid.
    第１媒質１１および第２媒質１２のうち、一方は固体であって、他方は固体または液体である。 - 特許庁
  • The logical disk generation means is configured to generate a logical disk by using the chunks of the second number of non-volatile memories.
    論理ディスク生成手段は、第２の数の不揮発性メモリのチャンクを用いて論理ディスクを生成する。 - 特許庁
  • The lower end side of the connecting rod 63A extends up to a position corresponding to a second opening/closing body 7 located in the lower side.
    連結桿６３Ａの下端側は、下側に位置する第２開閉体７に対応する位置まで延出している。 - 特許庁
  • The second tool part 5 is provided with an outside bending projection 6 which faces the outer side of the square wire conductor 8.
    第２治具部５には、角線導体８の外側面に対面する外側折曲凸部６が設けてある。 - 特許庁
  • On an inner surface of the slit, a shield conductor 9 connected to the outer conductor formed on the second surface is formed.
    スリットの内面には、第２面に形成された外導体と接続されたシールド導体９が形成されている。 - 特許庁
  • The detector 342 is arranged so that the second beam, deflected by the pattern forming array 104, might be accepted.
    検出器３４２はパターン形成アレー１０４によって偏向された第二ビームを受入れるように配置される。 - 特許庁
  • The second fan 72 sends air from the side of a first roll-like member 73a, to cool the cooling roll 73.
    第２のファン７２は、第１のロール状部材７３ａ側から送風を行い、冷却ロール７３を冷却する。 - 特許庁
  • The rotor 38, first planetary gear 42 and second planetary gear 43 are lined up along the axial direction of the rotor 38.
    ロータ３８と第１遊星ギヤ４２と第２遊星ギヤ４３はロータ３８軸方向に沿って並列する。 - 特許庁
  • The first sensor 101 can be constituted of an acceleration sensor, and the second sensor 7 can be constituted of a gas pressure sensor 72a or the like.
    第１センサ１０１は加速度センサで構成でき、第２センサ７はガス圧センサ７２ａなどで構成できる。 - 特許庁
  • Next, in a second process, the cutter head 2 is made to stand still, so that the inner cylinder 5 can be jacked by the jack 10.
    次に、第２の工程では、カッタヘッド２を静止させて、内筒推進ジャッキ１０により内筒５を推進する。 - 特許庁
  • The deposition mask has more than one through-hole 40 formed to pierce the first and second faces 42 and 44 running through the mask.
    第１面４２及び第２面４４を貫通するように複数の貫通穴４０が形成されている。 - 特許庁
  • At least a part of a periphery of the coil array 3 is not enclosed by the first member 21 and the second member 22.
    コイル列３の周囲の少なくとも一部が第一部材２１及び第二部材２２によって囲まれていない。 - 特許庁
  • Rotation speed of the traverse mechanism 10 falls off during the load is given to the first and second lifter bosses 23a and 23b.
    第１，第２リフターボス２３ａ，２３ｂに負荷が付与されている間は、トラバースメカ１０の回転速度が低下する。 - 特許庁
  • The first condition and the second condition are used to change an incident X-ray intensity of the X-ray detector 14.
    Ｘ線検出器１４の入射Ｘ線強度を変えるために第１条件と第２条件を利用する。 - 特許庁
  • The air-permeable member 7 is installed to close the opening 4 by insert-molding in the second split body 2.
    通気性部材７が、第２分割体２にインサート成形されることで開口４を塞ぐように配設されている。 - 特許庁
  • A stepped seal groove 5 (a labyrinth structure of the inner ring 3) is arranged on the inner ring 3 in a second example in addition to the first example.
    第２例は、第１例に加えて、内輪３に、シール溝段差５（内輪３のラビリンス構造）が設けてある。 - 特許庁
  • The decomposition of the dye 14 is inhibited because of containing both the first and second ligands.
    この色素１４では、第１および第２の配位子の双方を含む色素を含んでいるため、分解が抑制される。 - 特許庁
  • By this setup, the second negative feedback loop can be prevented from being delayed in phase by the time constant of the low-pass filter.
    これにより、ローパスフィルタの時定数に依って第２の負帰還ループの位相が遅れることを防止する。 - 特許庁
  • One long size member is worked by two times of working by dividing into the first half and the second half in the press 15.
    プレス１５では、２回の加工で１本の長尺部材の前半分と後ろ半分に分けて加工する。 - 特許庁
  • The substrate W, having the barrier layer formed thereon, is transferred from the first unit 12 to a second film forming unit 13.
    次に、バリア層を形成した基板Ｗを、第１成膜ユニット１２から第２成膜ユニット１３に搬送する。 - 特許庁
  • Resultingly, the temperature in the first metal and the second metal are uniformized vertical-directionally to reduce an expansion difference.
    その結果、第１面領域と第２面領域の温度が上下段で均一化され、膨張差が少なくなる。 - 特許庁
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