「interferometer」を含む例文一覧(1556)

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  • OPTICAL TEST SYSTEM INCLUDING INTERFEROMETER WITH MICROMIRROR AND PIEZOELECTRIC TRANSLATOR FOR CONTROLLING TEST PATH MIRROR
    試験経路ミラーを制御するためマイクロミラー及び圧電変換器を有する干渉計を含む光学システム - 特許庁
  • OPTICAL SENSOR, SENSING METHOD, OPTICAL DEVICE, METHOD OF SENSING ROTATION, OPTICAL SYSTEM, AND INTERFEROMETER
    光センサ、感知するための方法、光学装置、回転を感知するための方法、光学システム、および干渉計 - 特許庁
  • To provide a position measurement method using an interferometer capable of performing more accurate measurement.
    より高精度な計測を行うことができる干渉計を用いた位置測定方法等を提供する。 - 特許庁
  • To provide a waveguide type optical interferometer circuit which is strong against manufacturing errors.
    本発明の目的は、製造誤差に強い導波路型光干渉計回路を提供することである。 - 特許庁
  • To reduce the intensity unevenness of the spherical waves formed by a pinhole used for a point diffraction interferometer or the like.
    点回折干渉計などに用いられるピンホールが生成する球面波の強度斑を低減する。 - 特許庁
  • To perform highly accurate measurements by eliminating aberrations caused by optical members constituting an interferometer.
    干渉計を構成する光学部材によって生じる収差を取り除いて精度の高い測定を行う。 - 特許庁
  • To provide an optical element which more accurately controls a relative delay of a 1-bit delay interferometer.
    1ビット遅延干渉計の相対的遅延をより正確に制御可能な光素子を提供すること。 - 特許庁
  • A Mach-Zehnder interferometer 100 which adopts the section of polymer cladding in one branch is provided.
    1つのブランチの中にポリマー・クラッディングのセクションを採用しているマッハツェンダー干渉計を提供する。 - 特許庁
  • MANUFACTURING METHOD FOR X-RAY PHASE TYPE DIFFRACTION GRATING AND AMPLITUDE TYPE DIFFRACTION GRATING USED FOR X-RAY TALBOT INTERFEROMETER
    X線タルボ干渉計に用いられる位相型回折格子と振幅型回折格子の製造方法 - 特許庁
  • The monitor signal is input to the optical carrier interferometer, and an interference monitor signal 33 is output.
    光搬送波干渉計にはモニター信号が入力されて干渉モニター信号33が出力される。 - 特許庁
  • An electron wave can be split into two coherent waves by an electron-optical biprism interferometer.
    電子波は、電子光学バイプリズム干渉計によって2つの可干渉な波に分割することができる。 - 科学技術論文動詞集
  • To provide a small-sized, high-precision interferometer system which can reduce the occurrence of measurement errors caused by the size increase of an interferometer optical system that includes a beam splitter and a planar shape error of the beam splitting surface of the beam splitter.
    ビームスプリッターを含む干渉計光学系の大型化およびビームスプリッターの分離面の面形状誤差に起因する測定誤差の発生を抑えることのできる小型で高精度な干渉計装置。 - 特許庁
  • Thereafter, the other branched signal is converted into an electric signal using a delay interferometer 21 and a photoelectric converting section 22 and the phase control amount of the delay interferometer 21 is regulated to maximize the amplitude of the electric signal.
    次に、分岐された他方を遅延干渉計21と光電変換部22を使って、電気信号に変換し、この電気信号の振幅が最も大きくなるように、遅延干渉計21の位相制御量を調整する。 - 特許庁
  • The interferometer systems (200, 800) includes a plane mirror interferometer (230), a deflecting mirror (212), retardation plate assemblies (216, 816A) with retardation plates which can be fixed after adjustment, and retro-reflectors (214, 814).
    平面鏡干渉計(230)、転向ミラー(212)、調節後に固定することが出来るリターデーションプレートを有するリターデーションプレートアセンブリ(216、816A)およびレトロリフレクタ(214、814)を有する干渉計システム(200、800)。 - 特許庁
  • To provide a delayed interferometer which can arrange input/output ports without being restricted by the distance between two adjacent ports and facilitate downsizing of a Michelson type delayed interferometer unit installed therewithin.
    隣り合う2個のポート間距離の制約を受けないで入出力のポートを配置することを可能とし、内部に実装されるマイケルソン型遅延干渉計ユニットの小型化を容易とする遅延干渉計を実現する。 - 特許庁
  • Based on the difference between the apparent length measured by the sub-interferometer and a reference length, between the first and second reflective surfaces 53, 54 of the reference member 44, the measured result by the main interferometer is calibrated.
    該副干渉計により計測されたみかけの寸法と基準部材44の第1反射面53及び第2反射面54間の基準寸法の差に基づいて、前記主干渉計による計測結果を校正する。 - 特許庁
  • To provide a method for embodying a micro-optical interferometer type filter being an optical filter for stably providing optical characteristics such as a constant extinction ratio or larger and applications of the micro-optical interferometer type filter.
    本発明はマイクロオプティック干渉計型光フィルターの具現において、一定消滅比以上の特性を安定的に提供する光フィルターの具現方法及びこの応用を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • To provide an interferometer, capable of measuring an aspheric face shape with the same accuracy as a sphere and properly measuring various face shapes, and to provide a semiconductor exposing device using an optical element, which uses the interferometer.
    非球面の面形状を球面と同じ精度で測定が可能で、かつ種々の面形状の測定に適切に対応できる干渉計及びそれを用いられた光学素子を用いた半導体露光装置を得ること。 - 特許庁
  • To provide a apparatus for measuring a system error provided capable of measuring a system error in an interferometer for wavefront measurements easily with high precision, and also to provide an interferometer system for wavefront measurement equipped with a system error measuring apparatus like this.
    波面測定用干渉計におけるシステム誤差を、容易かつ高精度に計測することが可能なシステム誤差計測装置、およびこのようなシステム誤差計測装置を備えた波面測定用干渉計装置を得る。 - 特許庁
  • A connecting surface CFS of the housing C becomes perpendicular to a ray input surface SI of the interferometer 10 and inputs a parallel input ray r1 perpendicularly to the surface SI the interferometer 10.
    接続筐体Cの接続面CFSはプリズム干渉計10の光線入力面SIに対し垂直となり、プリズム干渉計10の光線入射面SIに対し垂直に平行入力光r2を入射させる。 - 特許庁
  • To provide an interferometer angle sensitivity calibration method capable of calibrating easily and highly accurately angle sensitivity in an interferometer for tilt angle measurement wherein a tilt angle to be measured is restricted within a prescribed angle range.
    測定する傾斜角度が所定の角度範囲に限定されるような傾斜角度測定用の干渉計における角度感度を、容易かつ高精度に較正することが可能な干渉計角度感度較正方法を得る。 - 特許庁
  • The interferometer of the wide wavelength range and low sensitivity confirms a rough range of a wavelength of the light signal, and then a wavelength of an incident beam is measured accurately by the interferometer of the narrow wavelength range and high sensitivity.
    大波長範囲で低敏感度の干渉器は、光信号の波長のおおよその範囲を確認してから小波長範囲で高敏感度の干渉器により入射光線の波長を正確に測定する。 - 特許庁
  • Difference of linear expansion coefficient between the PLC type interferometer body and the interposition material is equal to or less than 4.5×10^-6/°C, and the difference of thermal conductivity between the PLC type interferometer body and the interposition material is equal to or more than 10 W/mk.
    PLC型干渉計本体と介装材との線膨張係数の差は4.5×10^-6/℃以下であり、且つPLC型干渉計本体と介装材との熱伝達率の差は10W/mK以上である。 - 特許庁
  • To provide a tracking laser gauge interferometer capable of suitably obtaining the rotation angle of a rotating mechanism.
    回転機構の回転角度を適切に取得することができる追尾式レーザ干渉測長計の提供。 - 特許庁
  • A measuring device 50 such as the laser interferometer is mounted inside of an environmental chamber 12 of this air conditioning equipment 10.
    空調設備10の環境チャンバ12の内部には、レーザ干渉計等の計測装置50が設置される。 - 特許庁
  • To provide an interferometer which measures with high accuracy an optical performance of an object optical element and also has a long life.
    被検光学素子の光学性能を高精度に計測すると共に長寿命な干渉計を提供する。 - 特許庁
  • To permit highly accurate adjustment of focus for an interferometer.
    干渉計における高精度なフォーカス調整が可能なフォーカス調整方法およびフォーカス調整装置の提供。 - 特許庁
  • The interferometer 342 recombines the rotated first and second beams to produce a recombined beam 350.
    干渉計342は、回転させた第1のビームと第2のビームを再合成して再合成ビーム350を形成する。 - 特許庁
  • The Fizeau type interferometer 12 can measure the wavefront from the entire surface of the diffracted light at the same time and in a short time.
    フィゾー型干渉計12により、回折光全面からの波面を一括に、且つ短時間に計測できる。 - 特許庁
  • To provide a Talbot interferometer measuring with high accuracy, an adjustment method thereof, and an exposure device.
    高精度に計測を行うトールボット干渉計、トールボット干渉計の調整方法、及び露光装置を提供する。 - 特許庁
  • A measurement system 100 including a laser interferometer 104, a retroreflector 106 and a handling device 102 is used.
    レーザ干渉計104と再帰反射体106とハンドリング装置102を有する測定システム100を用いる。 - 特許庁
  • An angular reflection device of an interferometer can be stored on the lower inside of the cover member of the upper housing.
    干渉計の角反射装置は上部ハウジングのカバー部材の下方の内部に収納することもできる。 - 特許庁
  • In this stage position control method, deviations between present positions and objective positions of leveling stages detected by a interferometer 34 are calculated successively.
    干渉計34で検出したレベリングステージ15の現在位置と目標位置の偏差を順次に算出する。 - 特許庁
  • METHOD FOR MEASURING INTERFERENCE, DEVICE OF CONTROLLING INTERFEROMETER, METHOD FOR MANUFACTURING PROJECTION LENS, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
    干渉測定方法及び干渉計の制御装置、並びに、投影レンズの製造方法及び投影露光装置 - 特許庁
  • To perform optical axis adjustment work for an object under inspection smoothly and with high precision in an interferometer.
    干渉計において、被検体の光軸調整作業を円滑かつ高精度に行うことができるようにする。 - 特許庁
  • To provide an interferometer and a method of measuring the shapes of various samples simply.
    様々な試料の形状を簡便に測定することができる干渉計及び測定方法を提供すること。 - 特許庁
  • A ramp, representing the dependence of the SHI (second harmonic interferometer) data on a path length, is removed before use of the SHI data.
    経路の長さ上のSHIデータの依存関係を表すランプが、SHIデータの使用前に除去される。 - 特許庁
  • To efficiently adjust a variable distribution compensator and a delay interferometer in an optical receiver in an optimal manner.
    光受信機における可変分散補償器及び遅延干渉計を効率よく最適調整可能とすること。 - 特許庁
  • To provide a device of measuring a transmission wavefront by a Fizeau interferometer capable of maintaining a liquid surface fixedly to an immersion lens.
    液浸レンズに対して液面を一定に保つことができるフィゾー干渉計による透過波面測定装置。 - 特許庁
  • OPTICAL INTERFEROMETER CAUSING MODE SYNCHRONOUS LASER OSCILLATION, ALL-OPTICAL SWITCH, ALL-OPTICAL DEMULTIPLEXER, AND ALL-OPTICAL PULSE SHAPER
    モード同期レーザ発振を生じる光干渉計、全光スイッチ、全光反多重化器、全光パルス整形器 - 特許庁
  • The oblique incidence interferometer 1 includes a laser light source 2; a first diffraction grating 3; and a second diffraction grating 4.
    斜入射干渉計1は、レーザ光源2と、第1回折格子3と、第2回折格子4とを備える。 - 特許庁
  • To provide an interferometer which easily measures the shape of an aspherical surface having a long radius of curvature.
    曲率半径の長い非球面の形状を簡易に計測することができる干渉計を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a compact interferometer and a spectroscope capable of facilitating optical designing and reducing cost.
    コンパクトで光学設計が容易になりコストの削減を図ることができる干渉計及び分光器を提供する。 - 特許庁
  • A balanced photodiode 12 converts a set of optical signals outputted from the interferometer 11 into electric signals.
    バランスドフォトダイオード12は、干渉計11から出力される1組の光信号を電気信号に変換する。 - 特許庁
  • To provide an optical multilayer film mirror having a broad high reflection band and a Fabry-Perot interferometer equipped with the optical multilayer film mirror.
    高反射帯域が広い光学多層膜ミラーおよびそれを備えたファブリペロー干渉計を提供する。 - 特許庁
  • This method includes forming an ring interferometer and an optical fiber gyroscope on a single semiconductor substrate.
    この方法は、単一の半導体基板上に、リング干渉計と、光ファイバジャイロスコープを形成するものである。 - 特許庁
  • ASYMMETRIC MACH-ZEHNDER INTERFEROMETER HAVING REDUCED DRIVE VOLTAGE COUPLED TO COMPACT LOW-LOSS ARRAYED WAVEGUIDE GRATING
    小型低損失アレイ導波路格子に結合された低減駆動電圧を有する非対称マッハ・ツェンダー干渉計 - 特許庁
  • To improve transparency to x-rays in between gratings regarding a diffraction grating for an x-ray interferometer.
    X線干渉計用の回折格子について、格子間でのX線に対する透明性を向上させる。 - 特許庁
  • A delay interferometer includes a half beam splitter 203 and pentagonal prisms 206, 207 arranged on a substrate 201.
    遅延干渉計は、基板201の上に配置されたハーフビームスプリッタ203と5角柱プリズム206,207と、を含む。 - 特許庁
  • FIXING STRUCTURE FOR PARALLEL LEAF SPRING, PARALLEL LEAF SPRING UNIT, MICHELSON INTERFEROMETER AND FOURIER TRANSFORMATION SPECTRUM ANALYSIS APPARATUS
    平行板ばねの固定構造、平行板ばねユニット、マイケルソン干渉計、およびフーリエ変換分光分析装置 - 特許庁
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