ふっ化キセノンの英語

冷却固化器を有する反応器を用いてキセノンとフッ素を反応させる。例文帳に追加

Xenon and fluorine are reacted with each other using a reactor having a cooling solidifying instrument. - 特許庁

エッチング装置は、シリンダ１５内の固体の二フッ化キセノンを気化させた二フッ化キセノンガスをエッチング室１１に供給し、該エッチング室１１内に搬入された試料Ｗをエッチングする。例文帳に追加

The etching apparatus supplies xenon difluoride gas prepared by evaporating solid xenon difluoride in a cylinder 15 to an etching chamber 11 and etches a sample W conveyed into the chamber 11. - 特許庁

二フッ化キセノン（ＸｅＦ_２）を効率よく確実に供給することができるＸｅＦ_２供給装置を提供する。例文帳に追加

To provide a xenon difluoride (XeF_2) supply apparatus capable of efficiently and surely supplying xenon difluoride (XeF_2). - 特許庁

エレクトロニクス分野の中で半導体製造用等方性エッチングガスとして使用される二フッ化キセノンの効率的な製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of efficiently manufacturing xenon difluoride used as an isotropic etching gas for semiconductor manufacture in an electronic field. - 特許庁

この後に、剥離用の層７０のみをフッ化キセノンガスによりドライエッチングして隙間７８を形成し、転写型６０を外す。例文帳に追加

Thereafter only the layer 70 for exfoliation is dry etched with xenon fluoride gas so that a gap 78 is formed, and the die 60 is removed. - 特許庁

発光式フッ素ガス濃度計を用いて試料ガス中のフッ素ガス濃度を測定するフッ素ガス測定方法において、前記発光式フッ素ガス濃度計の試料ガスと接する部分にフッ化キセノンを用いてフッ化層を形成した後、あるいは、前記発光式フッ素ガス濃度計をフッ化キセノンを用いて校正した後、試料ガス中のフッ素ガス濃度を測定する。例文帳に追加

The method for measuring a concentration of a fluorine gas in a sample gas by using a luminescent fluorine gas concentration meter includes the step of measuring concentration of a fluorine gas in the sample gas after forming a fluoride layer by using xenon fluoride to a portion in contact with the sample gas of the luminescent fluorine gas concentration meter or after calibrating the luminescent fluorine gas concentration meter by using xenon fluoride. - 特許庁

エッチング装置は、エッチング室１１内で移動可能に支持され、試料Ｗをエッチングする処理空間２２と、該処理空間２２に供給する二フッ化キセノンガスを一時的に貯留する貯留空間２３とに区画するとともに、処理空間２２と貯留空間２３との間で二フッ化キセノンガスを流通不能にするステージ２１を備えた。例文帳に追加

The etching apparatus includes a stage 21 for partitioning a processing space 22 movably carried in the etching chamber 11 for etching the sample W and a reservoir space 23 for temporarily reserving the xenon difluoride gas supplied to the processing space 22 and also allowing no xenon difluoride gas to flow between the processing space 22 and the reservoir space 23. - 特許庁

エレクトロニクス分野の中で半導体製造用等方性エッチングガスとして使用される高純度二フッ化キセノンの精製方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for refining xenon difluoride to high purity to be used as an isotropic etching gas for manufacturing a semiconductor in the field of electronics. - 特許庁