急速活性化の英語

接続ポートが急速充電起動ユニットに結合された時、第１電圧および２電圧が接続ポートを介して携帯マルチメディア装置へ送信されて、携帯マルチメディア装置の急速充電機能を活性化させる。例文帳に追加

When the connection port is coupled to the quick charge activation unit, the first voltage and the second voltage are transmitted to the portable multi-media device via the connection port to activate a quick charge function of the portable multi-media device. - 特許庁

触媒用ヒータ等を用いることなく、触媒の急速な暖機を実現し、触媒の早期活性化をはかる。例文帳に追加

To realize the rapid warm-up of a catalyst and activate the catalyst in an early stage without using a heater for catalyst. - 特許庁

本発明は、筒内噴射型内燃機関に関し、触媒の急速暖機と早期活性化とを可能にする。例文帳に追加

To enable rapid warming up and early activation of a catalyst for an in-cylinder injection type internal combustion engine. - 特許庁

導電性の接続線がＢＰＳＧ層に形成された後、ドーパント領域の再活性化のため急速な温度アニーリングが使用される。例文帳に追加

After forming a conductive connection line on the BPSG layer, rapid temperature annealing is performed to reactivate the dopant area. - 特許庁

複合活性剤３の酵素類は、急速発酵作用によって、木質系のチップ２を蛋白質、炭水化物、脂肪に分解する。例文帳に追加

The enzymes in the wooden chips 2 decompose the wooden chips 2 to proteins, hydrocarbons and oils and fats by a rapid fermentation effect. - 特許庁

真空エンクロージャ内の活性ガスの流れを急速に変化させることができる、プラズマ真空基板処理方法およびシステムを提供する。例文帳に追加

To provide a plasma vacuum substrate treatment process and a system that can quickly change the flow of active gases in a vacuum enclosure. - 特許庁

洗浄水を再利用するための急速ろ過塔や活性炭吸着塔を長寿命化でき、水スクラバーで使用した洗浄水を急速ろ過塔や活性炭吸着塔で再生して低コストで再利用できる排ガス処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exhaust gas treatment apparatus which can prolong the lifetimes of a rapid filtration column and an activated charcoal adsorption column for reuse of cleaning water and allow low-cost reuse of cleaning water used in a water scrubber by regenerating the cleaning water by the rapid filtration column and the activated charcoal adsorption column. - 特許庁

急速加熱・急速冷却装置を用いてシリコンウエーハを水素を含む還元性雰囲気下で熱処理する方法において、該シリコンウエーハ表面上の自然酸化膜を除去した後、急速加熱・急速冷却装置を用いて、水素濃度１００％あるいは水素を１０％以上含有する不活性ガス雰囲気下で熱処理することを特徴とするシリコンウエーハの熱処理方法。例文帳に追加

In a method for heat-treating a silicon wafer in a reductive atmosphere containing hydrogen by using rapid heating/quenching device, a natural oxide film on the surface of the silicon wafer is removed and is heat- treated in an inert gas atmosphere, the hydrogen concentration of which is 100% or which contains not less than 10% hydrogen. - 特許庁